JP5987696B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
(1)構造
図1は、実施の形態1の疑似SOCチップ(半導体装置)2の断面図である。
図2は、疑似SOCチップ2の製造方法を示すフローチャートである。図3〜6は、疑似SOCチップの製造方法の工程断面図である。
図7は、半導体チップの配置工程(S2)を説明する平面図である。図3〜6は、図7のIIIA-IIIA線に沿った工程断面図である。
図3(b)に示すように、各半導体チップ4の裏面(基板の裏面)と側面を覆うように、半硬化状態の第1樹脂層38aを形成する(S4)。
図3(c)に示すように、半硬化状態の第2樹脂層38bを、半硬化状態の第1樹脂層38aの複数の第1半導体チップ4aの反対側に形成する。第2樹脂層38bは、基板32の光吸収端の短波長側で透光率が第1樹脂層38aより高いとともに熱硬化による体積収縮率が第1樹脂層38aより小さい半硬化状態の樹脂層である。
―第1樹脂領域の硬化(図4(a))―
図4(a)に示すように、複数の半導体チップ4に光(以下、照射光と呼ぶ)40を照射して加熱し、半導体チップ群5に接し互いに離隔した樹脂領域42を硬化させる。
図4(b)に示すように、樹脂領域42の硬化後も第1樹脂層38aへの照射光40照射を続ける。これにより、第1樹脂層38aのうち樹脂領域42の外側の第2樹脂領域42bを硬化させる。
光照射(S8)の後、図4(c)に示すように、第1樹脂層38aおよび第2樹脂層38bが形成された支持板28をベーキング炉44にセットする。
図5(b)に示すように、ベーキング(S10)の後、第1樹脂層38aの複数の第1半導体チップ4a側に、半導体チップ群5内の各半導体チップ4の集積回路34(図8参照)を互いに再配線12を形成する。
図6(b)に示すように、再配線12等が形成された疑似ウエハ46を半導体チップ群5ごとに疑似SOCチップ2に分割する。
図9は、光照射によらない疑似SOCチップの製造方法の工程断面図である。図9に示す例は、樹脂層を一層有する疑似SOCチップの製造方法である。
図11は、光照射によらない疑似SOCチップの製造方法の工程断面図である。図11に示す例は、樹脂層を二層有する疑似SOCチップの製造方法である。
実施の形態2は、実施の形態1に類似している。したがって、実施の形態1と共通する部分の説明は省略または簡単にする。
実施の形態3は、実施の形態1に類似している。したがって、実施の形態1と共通する部分の説明は省略または簡単にする。
(1)構造
図15は、実施の形態4の半導体装置102の裏面側の平面図である。図16は、図15のXVI-XVI線に沿った断面図である。
実施の形態4の半導体装置102の製造方法は、実施の形態1の半導体装置2の製造方法に類似している。したがって実施の形態1と共通する部分については、説明を省略する。
基板の表面に第1集積回路を有する複数の第1半導体チップを平面上に配置した状態で、前記基板の裏面を覆うように第1熱硬化性樹脂を含む半硬化状態の第1樹脂層を形成する第1工程と、
前記複数の第1半導体チップに光を照射して加熱し、前記第1樹脂層のうち前記複数の第1半導体チップに接する第1樹脂領域を硬化させる第2工程と、
前記第1樹脂領域の硬化後に、前記第1樹脂層のうち前記第1樹脂領域の外側の第2樹脂領域を硬化させる第3工程と、
前記第3工程の後に、前記第1樹脂層の前記複数の第1半導体チップ側に前記第1集積回路を互いに接続する第1配線を形成する第4工程とを有する
半導体装置の製造方法。
付記1に記載の半導体装置の製造方法において、さらに、
前記基板の光吸収端の短波長側で透光率が前記第1樹脂層より高いとともに熱硬化による体積収縮率が前記第1樹脂層より小さい半硬化状態の第2樹脂層を、半硬化状態の前記第1樹脂層の前記複数の第1半導体チップの反対側に形成する第5工程と、
前記第1樹脂領域の硬化後に、前記第2樹脂層を熱硬化させる第6工程を有し、
前記第2工程では、前記第2樹脂層と前記第1樹脂層を介して前記複数の第1半導体チップに前記光を照射することを特徴とする
半導体装置の製造方法。
付記1又は2に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1樹脂層は、前記光が照射されると発熱する樹脂組成物であり、
前記第3工程では、前記第1樹脂層に前記光を照射して加熱し、前記第2樹脂領域を硬化させることを特徴とする
半導体装置の製造方法。
付記3に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1樹脂層は、前記光を吸収して発熱するフィラを含み、
前記第3工程では、前記光を吸収して発熱した前記フィラが、前記第2樹脂領域を硬化させることを特徴とする
半導体装置の製造方法。
請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1工程では、基板の表面に第2集積回路を有する複数の第2半導体チップと前記複数の第1半導体チップとを前記平面上に配置した状態で、前記複数の第1半導体チップの基板の裏面と前記複数の第2半導体チップの基板の裏面とを覆うように半硬化状態の前記第1樹脂層を形成し、
前記第2工程では、前記複数の第1半導体チップと前記複数の第2半導体チップとに前記光を照射して加熱し、前記第1樹脂領域と前記第1樹脂層のうち前記複数の第2半導体チップに接し前記第1樹脂領域から離隔した第3樹脂領域とを硬化させ、
前記第3工程では、前記第1樹脂領域と前記第3樹脂領域の硬化後に、前記第1樹脂領域および前記第3樹脂領域の外側の前記第2樹脂領域を硬化させ、
前記第4工程では、前記第1樹脂層の前記複数の第1半導体チップ側に前記第1集積回路を互いに接続する前記第1配線と前記第2集積回路を互いに接続する第2配線とを形成し、その後前記第1樹脂層を前記複数の第1半導体チップを有する半導体装置と前記複数の第2半導体チップを有する半導体装置とに分割することを特徴とする
半導体装置の製造方法。
基板の表面に集積回路を有する複数の半導体チップと、
前記基板の裏面を覆う第1樹脂層と、
前記第1樹脂層の前記複数の半導体チップ側の反対側に配置され、前記基板の光吸収端の短波長側で透光率が前記第1樹脂層より高い第2樹脂層と、
前記第1樹脂層の前記複数の半導体チップ側で前記集積回路を互いに接続する配線とを有する
半導体装置。
4・・・半導体チップ
4a・・・第1半導体チップ
4b・・・第2半導体チップ
6a・・・第1樹脂層
6b・・・第2樹脂層
12・・・再配線
34・・・第1集積回路
38a・・・半硬化状態の第1樹脂層
38b・・・半硬化状態の第2樹脂層
40・・・光
42a・・・第1樹脂領域
42b・・・第2樹脂領域
42c・・・第3樹脂領域
Claims (5)
- 基板の表面に第1集積回路を有する複数の第1半導体チップを平面上に配置した状態で、前記基板の裏面を覆うように第1熱硬化性樹脂を含む半硬化状態の第1樹脂層を形成する第1工程と、
前記複数の第1半導体チップに光を照射して加熱し、前記第1樹脂層のうち前記複数の第1半導体チップに接する第1樹脂領域を硬化させる第2工程と、
前記第1樹脂領域の硬化後に、前記第1樹脂層のうち前記第1樹脂領域の外側の第2樹脂領域を硬化させる第3工程と、
前記第3工程の後に、前記第1樹脂層の前記複数の第1半導体チップ側に前記第1集積回路を互いに接続する第1配線を形成する第4工程とを有する
半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、さらに、
前記基板の光吸収端の短波長側で透光率が前記第1樹脂層より高いとともに熱硬化による体積収縮率が前記第1樹脂層より小さい半硬化状態の第2樹脂層を、半硬化状態の前記第1樹脂層の前記複数の第1半導体チップの反対側に形成する第5工程と、
前記第1樹脂領域の硬化後に、前記第2樹脂層を熱硬化させる第6工程を有し、
前記第2工程では、前記第2樹脂層と前記第1樹脂層を介して前記複数の第1半導体チップに前記光を照射することを特徴とする
半導体装置の製造方法。 - 請求項1又は2に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1樹脂層は、前記光が照射されると発熱する樹脂組成物であり、
前記第3工程では、前記第1樹脂層に前記光を照射して加熱し、前記第2樹脂領域を硬化させることを特徴とする
半導体装置の製造方法。 - 請求項3に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1樹脂層は、前記光を吸収して発熱するフィラを含み、
前記第3工程では、前記光を吸収して発熱した前記フィラが、前記第2樹脂領域を硬化させることを特徴とする
半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1工程では、基板の表面に第2集積回路を有する複数の第2半導体チップと前記複数の第1半導体チップとを前記平面上に配置した状態で、前記複数の第1半導体チップの基板の裏面と前記複数の第2半導体チップの基板の裏面とを覆うように半硬化状態の前記第1樹脂層を形成し、
前記第2工程では、前記複数の第1半導体チップと前記複数の第2半導体チップとに前記光を照射して加熱し、前記第1樹脂領域と前記第1樹脂層のうち前記複数の第2半導体チップに接し前記第1樹脂領域から離隔した第3樹脂領域とを硬化させ、
前記第3工程では、前記第1樹脂領域と前記第3樹脂領域の硬化後に、前記第1樹脂領域および前記第3樹脂領域の外側の前記第2樹脂領域を硬化させ、
前記第4工程では、前記第1樹脂層の前記複数の第1半導体チップ側に前記第1集積回路を互いに接続する前記第1配線と前記第2集積回路を互いに接続する第2配線とを形成し、その後前記第1樹脂層を前記複数の第1半導体チップを有する半導体装置と前記複数の第2半導体チップを有する半導体装置とに分割することを特徴とする
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JP5137937B2 (ja) * | 2009-12-16 | 2013-02-06 | 日東電工株式会社 | 半導体装置製造用耐熱性粘着シート、該シートに用いる粘着剤、及び該シートを用いた半導体装置の製造方法 |
DE102010039156A1 (de) * | 2010-08-10 | 2012-02-16 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Herstellen einer elektrischen Schaltung und elektrische Schaltung |
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