JP5982777B2 - プリント配線板の製造方法 - Google Patents
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Description
市販の両面銅張り積層板(商品名:MCL−E−679−D35、厚み:0.6mm、日立化成工業株式会社製)を準備した。この銅張り積層板の両面に、内層を接着するために表面処理を施した。そして、銅張り積層板の両面に、それぞれ、ガラス布基材エポキシプリプレグ(商品名:GEA−679N、0.06t、日立化成工業株式会社製)と、厚さ9μmの銅箔(商品名:3EC−VLP、三井金属鉱業株式会社製)とを順次積層し、加圧加熱プレスを行った。このようにして、銅箔、絶縁層、銅張り積層板、絶縁層、及び銅箔がこの順で積層された多層板(4層板)を作製した。
得られた評価用基板の銅酸化物層の組成、反射率、及びレーザ加工によって形成した穴の直径を以下の手順で測定した。組成は、X線回折分析によって確認した。X線回折分析によって検出された最も多く含まれる成分を主成分とした。反射率は、フーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)を使用し、金製板を基準試料とする相対法で測定した。測定波長はCO2レーザと同じ赤外線領域の10μm付近とした。穴の直径は、めっき膜が形成されたBVHのクロスセクション(横断面)を走査型電子顕微鏡で観察し、銅箔における穴の直径と絶縁層における穴の直径とをそれぞれ測定した。これらの測定結果を、表1に示す。
定電位電解の時間を実施例1よりも長くして、多層板の銅箔の表面に、酸化第一銅を主成分として含む1.4μmの厚みを有する銅酸化物層を形成した。これ以外は、実施例1と同様にして評価用基板を作製した。そして、実施例1と同様にして、組成、反射率及びBVHの直径の測定を行った。測定結果を表1に示す。
酸化第一銅の電解析出に、0.2mol/Lの硫酸銅、及び2mol/Lの乳酸を含むpH12のアルカリ水溶液を用いたこと、及び定電位電解の条件を−0.8V vs Ag/AgClとしたこと以外は、実施例1と同様にして評価用基板を作製した。そして、実施例1と同様にして、組成、反射率及びBVHの直径の測定を行った。測定結果を表1に示す。
酸化第一銅の電解析出に、0.2mol/Lの硫酸銅、及び2mol/Lの乳酸を含むpH12のアルカリ水溶液を用いたこと、及び定電位電解の条件を−0.8V vs Ag/AgClとしたこと以外は、実施例2と同様にして評価用基板を作製した。そして、実施例1と同様にして、組成、反射率及びBVHの直径の測定を行った。測定結果を表1に示す。
定電位電解の時間を実施例1よりも長くして、多層板の銅箔の表面に、酸化第一銅を主成分として含む4.8μmの厚みを有する銅酸化物層を形成した。これ以外は、実施例4と同様にして評価用基板を作製した。そして、実施例1と同様にして、組成、反射率及びBVHの直径の測定を行った。測定結果を表1に示す。
実施例1と同様にして、銅箔、絶縁層、銅張り積層板、絶縁層、及び銅箔がこの順で積層された4層からなる多層板を作製し、銅箔表面の洗浄を行った。その後、液温80℃の黒化処理液に、多層板を1分間浸漬して、銅箔表面に層状の酸化銅を形成した。なお、用いた黒化処理液の含有成分は、次の通りである。
亜塩素酸ナトリウム 31g/L
水酸化ナトリウム 12g/L
りん酸ナトリウム 12g/L
液温80℃の黒化処理液に、多層板を浸漬する時間を表2の通りに変えたこと以外は、比較例1と同様にして、評価用基板を作製した。そして、実施例1と同様にして、銅箔の表面に形成された酸化銅の組成、反射率、及びBVHの直径を測定した。測定結果を表2に示す。
Claims (6)
- 絶縁性の基板と該基板の表面に銅箔とを有する多層板に、レーザを照射して前記銅箔を貫通する穴を形成する工程を有するプリント配線板の製造方法であって、
前記レーザを照射する前に、銅イオン、錯化剤及び塩基性物質を含む水溶液に銅箔を浸し、前記銅箔を陰極とする電解析出によって前記銅箔の表面に銅酸化物層を形成する工程を有し、
前記銅酸化物層は0.3〜5μmの厚みを有する、プリント配線板の製造方法。 - 前記銅酸化物層は主成分として酸化第一銅を含有する、請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記水溶液のpHは8以上である、請求項1又は2に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記銅イオンは、硫酸銅、塩化銅、硝酸銅、酸化銅、水酸化銅、ピロリン酸銅、及び金属銅から選ばれる少なくとも一種に由来する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記錯化剤は、一分子中に水酸基とカルボキシル基とを有するオキシカルボン酸、該オキシカルボン酸の塩、及び一分子中に複数の水酸基を有するアルコールから選ばれる少なくとも一種を含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記銅酸化物層は0.3〜3μmの厚みを有する請求項1〜5のいずれか一項に記載のプリント配線板の製造方法。
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JP2006312265A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Furukawa Circuit Foil Kk | キャリア付き極薄銅箔および該極薄銅箔を用いたプリント配線板、多層プリント配線板 |
JP4528204B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2010-08-18 | 日立ビアメカニクス株式会社 | プリント配線板の製造方法 |
JP5415106B2 (ja) * | 2008-03-21 | 2014-02-12 | 住友化学株式会社 | 樹脂パッケージの製造方法 |
JP2010109212A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Sony Corp | 半導体素子及びその製造方法、電界効果トランジスタ及びその製造方法、並びに半導体装置 |
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