JP5980603B2 - 誘電体膜の形成方法、薄膜二次電池の製造方法、誘電体膜の形成装置、および、薄膜二次電池の製造装置 - Google Patents
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Description
本開示における誘電体膜の形成方法の他の態様によれば、マスク本体の一側面を覆う絶縁膜によって対向面が形成されるため、マスクにおける機械的な強度やマスクにおける開口の加工精度等のマスクに求められる機能は、マスク本体によって維持されやすくなる。
本開示における誘電体膜の形成方法の他の態様によれば、マスク本体の裏面に形成される絶縁膜が、誘電体の構成元素を含むため、誘電体膜に対して絶縁膜から不純物が混入することが抑えられる。
図1に示されるように、誘電体膜の形成装置の有する真空槽11には、ガス供給部12と排気部13とが連結されている。ガス供給部12は、真空槽11の内部に不活性ガス及び反応性ガスの少なくとも1つを供給し、排気部13は、真空槽11の内部を減圧して所定の圧力に調整する。真空槽11の内部には、基板ステージ14とカソード16とが相互に向かい合う状態で配置されている。基板ステージ14の載置面には、マスク15の被せられた状態で基板Sが載置される。カソード16を構成するバッキングプレート17には、基板ステージ14と向かい合う側面に、固体電解質の構成元素からなるターゲットTが取り付けられ、ターゲットTと向かい合う裏面に高周波電源18が接続されている。
図2に示されるように、マスク15は、基板ステージ14に固定されるマスクホルダー19に対してねじ等によって固定されている。マスクホルダー19は、絶縁性のセラミック等からなる絶縁体である一方、マスク15の骨格を構成するマスク本体15Aは、アルミニウム等の金属からなる導電体である。
次に、上記誘電体膜の形成装置を用いた薄膜二次電池の製造方法、及び、誘電体膜の形成方法に関して以下に説明する。まず、薄膜二次電池の製造方法について説明する。なお、以下では、先の図7にて説明された薄膜二次電池と同様の構造を備える薄膜二次電池の製造方法、特に、その薄膜二次電池の製造方法に含まれる誘電体膜の形成方法について説明する。そこで、図7にて説明された薄膜二次電池と同様の構成には同一の符号を付してその説明を省略する。
図5に示されるように、上記固体電解質膜形成工程では、基板Sの上に形成された正極52と、上記マスク15における絶縁膜15Bの対向面BSとが接触する状態で、基板Sの上にマスク15が配置される。こうしてマスク15が配置されることによって、正極52は、マスク開口15Hから露出する部分である露出部分52Eと、マスク15によって覆われる部分である遮蔽部分52Sとに区切られる。
(1)マスク開口15Hの内縁と露出部分52Eとの間の隙間51Sは、固体電解質膜の形成工程にて開回路に接続されるため、こうした隙間51Sでデンドライト状のリチウムが析出することを抑えることが可能になる。
(4)特に、絶縁膜15Bを形成する材料が固体電解質と同じ組成であれば、固体電解質膜の形成工程にて、上述の不純物が絶縁膜15Bから放出されること自体が抑えられる。さらに、こうした絶縁膜15Bを誘電体膜の形成装置にて形成することが可能にもなる。
なお、上記実施形態は、以下のように変更して実施することもできる。
・絶縁膜15Bは、固体電解質膜の構成元素とは異なる構成元素からなる構成であってもよい。こうした構成であっても、上記(1)、(2)に準じた効果を得ることは可能である。なお、絶縁膜15Bと固体電解質膜とが相互に異なる構成元素によって構成される場合には、相互に同じ構成元素からなる場合に比べて、絶縁膜15Bに対しそれの形成材料の選択範囲を広げることが可能でもある。
Claims (6)
- 基板における被成膜面の一部に形成された電極に誘電体からなる薄膜が積層される工程にて、
前記電極における外縁の一部を含む前記電極の一部、および、前記被成膜面のうち前記電極が形成されていない部分の一部が、これらに共通する開口から露出する状態で、絶縁体であるマスクホルダーに固定された導電性のマスクが前記基板に重ねられる工程と、
前記誘電体の含まれるプラズマに前記露出する部分が曝される工程と、を含み、
前記マスクにて前記電極と向かい合う側面である対向面のうち、前記電極に重ねられる部分のみに絶縁性を備える
誘電体膜の形成方法。 - 前記マスクは、金属製のマスク本体を備え、
前記対向面は、前記マスク本体の一側面が絶縁膜で覆われてなり、
前記絶縁膜は、前記誘電体の構成元素を含む
請求項1に記載の誘電体膜の形成方法。 - 前記誘電体の含まれるプラズマでは、リチウム伝導性を有するターゲットが、不活性ガス、反応性ガス、不活性ガスと反応性ガスとの混合ガスのいずれか1つの雰囲気でスパッタされる
請求項1又は2に記載の誘電体膜の形成方法。 - 基板における被成膜面の一部に電極が形成される第一の工程と、
前記電極における外縁の一部を含む前記電極の一部、および、前記被成膜面のうち前記電極が形成されていない部分の一部にリチウムを含む固体電解質膜が積層される第二の工程と、を含み、
前記第二の工程は、
前記電極における外縁の一部を含む前記電極の一部、および、前記被成膜面のうち前記電極が形成されていない部分の一部が、これらに共通する開口から露出する状態で、絶縁体であるマスクホルダーに固定された導電性のマスクが前記基板に重ねられる工程と、
固体電解質の含まれるプラズマに前記露出する部分が曝される工程と、を含み、
前記マスクにおいて前記電極の一部を露出させる前記開口は、筒状をなす絶縁部材によって構成される
薄膜二次電池の製造方法。 - 誘電体の含まれるプラズマを生成するプラズマ生成部と、
被成膜面の一部に電極の形成された基板が載置される基板ステージと、
前記電極における外縁の一部を含む前記電極の一部、および、前記被成膜面のうち前記電極が位置しない部分の一部が、これらに共通する開口から露出する状態で前記基板に重ねられる導電性のマスクと、
前記マスクが固定される絶縁体であるマスクホルダーと、を備え、
前記マスクにて前記電極と向かい合う側面である対向面のうち、前記電極に重ねられる部分のみに絶縁性を備える
誘電体膜の形成装置。 - リチウムを含む固体電解質が含まれるプラズマを生成するプラズマ生成部と、
被成膜面の一部に電極の形成された基板が載置される基板ステージと、
前記電極における外縁の一部を含む前記電極の一部、および、前記被成膜面のうち前記電極が位置しない部分の一部が、これらに共通する開口から露出する状態で、前記基板に重ねられる導電性のマスクと、
前記マスクが固定される絶縁体であるマスクホルダーと、を備え、
前記マスクにおいて前記電極の一部を露出させる前記開口は、筒状をなす絶縁部材によって構成される
薄膜二次電池の製造装置。
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