JP4522078B2 - 全固体電池用固体電解質およびそれを用いた全固体電池 - Google Patents
全固体電池用固体電解質およびそれを用いた全固体電池 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4522078B2 JP4522078B2 JP2003386846A JP2003386846A JP4522078B2 JP 4522078 B2 JP4522078 B2 JP 4522078B2 JP 2003386846 A JP2003386846 A JP 2003386846A JP 2003386846 A JP2003386846 A JP 2003386846A JP 4522078 B2 JP4522078 B2 JP 4522078B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solid electrolyte
- transition metal
- solid
- lithium
- metal element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 title claims description 65
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims description 21
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 58
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 17
- -1 nitride lithium phosphate Chemical class 0.000 claims description 16
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910001386 lithium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 37
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 37
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 27
- IDBFBDSKYCUNPW-UHFFFAOYSA-N lithium nitride Chemical compound [Li]N([Li])[Li] IDBFBDSKYCUNPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 20
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 20
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 20
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 20
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- TWQULNDIKKJZPH-UHFFFAOYSA-K trilithium;phosphate Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[O-]P([O-])([O-])=O TWQULNDIKKJZPH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000002847 impedance measurement Methods 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 5
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018119 Li 3 PO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910012851 LiCoO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000733 Li alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010485 Li2.8PO3.45N0.3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010199 LiAl Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015643 LiMn 2 O 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910013290 LiNiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- QHGJSLXSVXVKHZ-UHFFFAOYSA-N dilithium;dioxido(dioxo)manganese Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Mn]([O-])(=O)=O QHGJSLXSVXVKHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011244 liquid electrolyte Substances 0.000 description 1
- 150000002641 lithium Chemical group 0.000 description 1
- 239000001989 lithium alloy Substances 0.000 description 1
- 229910000625 lithium cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- BFZPBUKRYWOWDV-UHFFFAOYSA-N lithium;oxido(oxo)cobalt Chemical compound [Li+].[O-][Co]=O BFZPBUKRYWOWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000001883 metal evaporation Methods 0.000 description 1
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007773 negative electrode material Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000007774 positive electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 238000003852 thin film production method Methods 0.000 description 1
- CFJRPNFOLVDFMJ-UHFFFAOYSA-N titanium disulfide Chemical compound S=[Ti]=S CFJRPNFOLVDFMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Secondary Cells (AREA)
Description
LiaPObNc−Td (1)
(式中、a=2.6〜3.0、b=3.0〜4.0、c=0.1〜0.6、d=0.01〜0.50)で表される。
LiaPObNc−TdOe (2)
(式中、a=2.6〜3.0、b=3.0〜4.0、c=0.1〜0.6、d=0.01〜0.50、e=0.005〜0.175)で表すことができる。
LiaPObNc−TdNe (3)
(式中、a=2.6〜3.0、b=3.0〜4.0、c=0.1〜0.6、d=0.01〜0.50、e=0.003〜0.12)で表すことができる。
また、本発明に係る固体電解質は薄膜状であるのが好ましく、膜厚は適宜制御することができるが、0.1〜10μmであるのが好ましい。
以下に、実施例を用いて本発明を説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
本発明に係る固体電解質における遷移金属元素の影響を評価するため、以下に説明するように、遷移金属元素を含有した窒化リン酸リチウムからなる固体電解質薄膜(Li2.8PO3.45N0.3−T0.2)を作製した。また、得られた固体電解質薄膜を固体電解質層として含む実験用セルを作製した。
以上より、遷移金属元素を含有した窒化リン酸リチウムからなる本発明に係る固体電解質を用いると有効であることがわかる。
本実施例においては、遷移金属元素としてタングステン(W)を用い、リン原子(P)に対するタングステンの含有量を表2に示す値に変化させた他は、実施例1と同様にして、実験用セルを作製し、その評価を行った。
インピーダンス測定は、実験用セルの作製直後と2週間保存後に行った他は、実施例1と同様に行った。また、電子伝導度を調べるため、作製直後の実験用セルに、平衡電圧から+1.0Vの電圧を印加し、1時間後に流れる電流を測定した。表2には、イオン伝導度に対する電子伝導度の割合である電子伝導度比率を示した。結果を表2に示した。
以上より、遷移金属元素を含有する窒化リン酸リチウムからなる本発明に係る固体電解質において、遷移金属元素のリン原子に対する含有量が1〜50原子%であるとよいことがわかる。
本実施例においては、遷移金属元素としてジルコニウム(Zr)を用いた他は、実施例1と同様にして、実験用セルを作製し、その評価を行った。結果を表3に示す。
以上より、ジルコニウムを含有した窒化リン酸リチウムからなる本発明に係る固体電解質を用いると有効であることがわかる。
本実施例においては、窒化リン酸リチウムと遷移金属元素とを含む固体電解質を用いた全固体電池を評価するため、以下に説明する試験電池を作製した。
本実施例では、図2に示す構成の全固体電池を作製した。ここで、基板21はシリコン基板、第1集電体22は集電体層、第1電極23は正極層、固体電解質24は窒化リン酸リチウムと遷移金属を含有した固体電解質層、第2電極25は負極層、第2集電体26は集電体層である。
本実施例においては、遷移金属元素としてモリブデン(Mo)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)をそれぞれ用い、リン原子(P)に対するモリブデン、チタン、ジルコニウムそれぞれの含有量を表5から7に示す値に変化させた他は、実施例1と同様にして、実験用セルを作製し、その評価を行った。
インピーダンス測定は、実験用セルの作製直後と2週間保存後に行った他は、実施例1と同様に行った。また、電子伝導度を調べるため、作製直後の実験用セルに、平衡電圧から+1.0Vの電圧を印加し、1時間後に流れる電流を測定した。表5から表7には、イオン伝導度に対する電子伝導度の割合である電子伝導度比率を示した。結果を表5から表7にそれぞれ示した。
以上より、遷移金属元素を含有する窒化リン酸リチウムからなる本発明に係る固体電解質において、遷移金属元素のリン原子に対する含有量が1〜50原子%であるとよいことがわかる。
12 白金集電体層
13 固体電解質層
14 白金集電体層
21 基板
22 第1集電体
23 第1電極
24 固体電解質
25 第2電極
26 第2集電体
Claims (3)
- 遷移金属元素を含むチッ化リン酸リチウムからなり、
前記遷移金属元素がTi、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zr、Nb、Mo、Ru、Ta、W、PtおよびAuよりなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする全固体電池用固体電解質。 - 前記遷移金属元素の含有率が、リン原子に対して1〜50原子%であることを特徴とする請求項1記載の全固体電池用固体電解質。
- 請求項1または2記載の全固体電池用固体電解質を含むことを特徴とする全固体電池。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003386846A JP4522078B2 (ja) | 2002-11-27 | 2003-11-17 | 全固体電池用固体電解質およびそれを用いた全固体電池 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002344470 | 2002-11-27 | ||
JP2003386846A JP4522078B2 (ja) | 2002-11-27 | 2003-11-17 | 全固体電池用固体電解質およびそれを用いた全固体電池 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004193112A JP2004193112A (ja) | 2004-07-08 |
JP4522078B2 true JP4522078B2 (ja) | 2010-08-11 |
Family
ID=32774828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003386846A Expired - Fee Related JP4522078B2 (ja) | 2002-11-27 | 2003-11-17 | 全固体電池用固体電解質およびそれを用いた全固体電池 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4522078B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4695375B2 (ja) * | 2004-10-08 | 2011-06-08 | パナソニック株式会社 | 固体電解質およびそれを含んだ全固体電池 |
CN101160677A (zh) * | 2004-10-21 | 2008-04-09 | 德古萨有限责任公司 | 锂离子电池的无机隔膜电极单元、其制造方法和在锂离子电池中的应用 |
US9334557B2 (en) * | 2007-12-21 | 2016-05-10 | Sapurast Research Llc | Method for sputter targets for electrolyte films |
CN107425176A (zh) * | 2017-07-07 | 2017-12-01 | 福建猛狮新能源科技有限公司 | 一种全固态锂离子电池及其制备方法 |
KR20200042708A (ko) | 2018-10-16 | 2020-04-24 | 현대자동차주식회사 | 전고체 전지용 고체 전해질의 제조 방법, 이에 의해 제조된 고체 전해질 및 이를 포함하는 전고체 전지 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002203593A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-07-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 無機固体電解質薄膜およびそれを用いたリチウム電池部材 |
-
2003
- 2003-11-17 JP JP2003386846A patent/JP4522078B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002203593A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-07-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 無機固体電解質薄膜およびそれを用いたリチウム電池部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004193112A (ja) | 2004-07-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7217478B2 (en) | Solid electrolyte and all-solid battery using the same | |
JP3690684B2 (ja) | 固体電解質およびそれを含んだ全固体電池 | |
JP6748344B2 (ja) | 全固体電池 | |
US9991555B2 (en) | Solid electrolyte for a microbattery | |
JP3677508B2 (ja) | 固体電解質およびそれを用いた全固体電池 | |
JP3677509B2 (ja) | 固体電解質およびそれを用いた全固体電池 | |
JP5444771B2 (ja) | 固体電解質電池および固体電解質電池の製造方法 | |
CN100413138C (zh) | 固体电解质和使用该固体电解质的全固态电池 | |
JP5148902B2 (ja) | 全固体型リチウム二次電池製造方法および全固体型リチウム二次電池 | |
JP5154139B2 (ja) | 全固体型リチウム二次電池製造方法および全固体型リチウム二次電池 | |
JP4522078B2 (ja) | 全固体電池用固体電解質およびそれを用いた全固体電池 | |
US20110070503A1 (en) | Solid Electrolyte, Fabrication Method Thereof and Thin Film Battery Comprising the Same | |
JP4695375B2 (ja) | 固体電解質およびそれを含んだ全固体電池 | |
KR20060135557A (ko) | LiPON을 보호막으로 갖는 LLT계 고체 전해질 및 그제조방법 | |
KR20200050270A (ko) | 다층 구조의 고체 전해질 및 이를 포함하는 전고체 박막 전지 | |
KR20090093041A (ko) | 리튬전지용 니켈 박막 전극 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060616 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090410 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090423 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090604 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100428 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100525 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4522078 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130604 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |