JP5958959B2 - 炭素原子から構成されるフィルムの製造方法 - Google Patents
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1モルの1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸と1モルの1,2,4,5−ベンゼンテトラアミン四塩酸塩とをポリリン酸中において重縮合することによって、ベンズイミダゾベンゾフェナントロリンラダーポリマー(以下、BBLポリマーと略する。)を合成した。BBLポリマー0.25gをトリフルオロメタンスルホン酸(和光純薬工業、製造元コードNo. 202-06661)25mlに溶解し、塗工液Aを調製した。同様に、ポリメタクリル酸メチル(以下、PMMAと略する。)(アルドリッチ、製造元コードNo. 19-3760)1.25gを酢酸エチル(和光純薬工業、製造元コードNo. 051-00356)25mlに溶解し、塗工液Bを調製した。
実施例1と同様に合成したBBLポリマー5gを、メタンスルホン酸100mlに溶解し、BBLポリマー溶液を作製した。このBBLポリマー溶液をシャーレに展開し、減圧下で加熱し溶媒を蒸発・除去した。シャーレ底部に形成された膜を剥がし、トリエチルアミンのメタノール溶液、メタノールで順次洗浄した後、室温で減圧乾燥することによって、BBLポリマーフィルムを得た。得られた炭素フィルムの寸法は、長さ30mm、幅20mm、厚み50μmであった。
厚さ1mmの高配向熱分解黒鉛(SPI SUPLIES, ZYH)(HOPG)の表面(ベーサル面)を、酸素プラズマを用いたドライエッチングにより、高さ5μm、サイズ20μm−2mm四方の段丘状に成形した。基板上に1μmの厚さで展開したフォトレジスト層に、HOPGの成形した面を押しあてた。フォトレジスト層を硬化させた後、HOPGを引き離すと、フォトレジスト層にHOPGの段丘状組織が残された。残された段丘状組織をスコッチテープを用いて繰り返し剥離し、フォトレジスト層をアセトンで除去することによって、最終的に残された薄片状黒鉛をシリコンウェハー上に取り出した。数層の炭素六角網面(厚さ1nm)からなる薄片については10μm程度の大きさ(長さ÷厚み=幅÷厚み=1.0×104)、厚さ3nm以上の薄片については100μm程度の大きさのものが得られた。したがって、長さ÷厚み=幅÷厚み=3.3×104となる。また、厚さ50nm以下の薄片状黒鉛は可視光性を示した。
Claims (1)
- 炭素原子から構成されるフィルムであって、前記炭素原子が黒鉛結晶を形成しており、
前記黒鉛結晶のc軸がフィルム面に対して垂直になるように配向しており、前記フィルム
において、フィルムの厚みが1nm以上、1000nm未満であり、フィルムの長さ÷フ
ィルムの厚み≧5.0×104、フィルムの幅÷フィルムの厚み≧5.0×104である
炭素原子から構成されるフィルムを製造する方法であって、
耐熱性の縮合系芳香族高分子を溶媒に溶解してなる溶液を基板上に塗布後、前記溶媒を
蒸発させて高分子膜を形成する工程と、
熱処理過程において分解・消失する熱分解性高分子を溶媒に溶解してなる溶液を、前記
縮合系芳香族高分子の上に塗布、乾燥して縮合系芳香族高分子と熱分解性高分子の2層積
層膜を基板上に形成する工程と、
前記積層膜を前記基板から剥がした後、不活性雰囲気中800℃以上3100℃以下で
熱処理し、黒鉛結晶を成長させる工程を少なくとも有することを特徴とする炭素原子から
構成されるフィルムを製造する方法。
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