JP5958120B2 - 半導体装置および半導体装置の試験方法 - Google Patents
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Description
図1は、半導体装置における素子部と電源供給回路の配置関係を示す図である。
図1に示すように、半導体基板1上に、素子部2を含む層を形成し、さらにその上に電源供給回路3を含む層を形成する。図1では、素子部2および電源供給回路3はそれぞれ1層に形成するように示したが、実際にはそれぞれ複数の層にわたって形成するのが一般的である。
図2の(A)に示すように、試験ボード21に搭載した試験対象の半導体装置(Device Under Test:DUT)10を、テストヘッド23に配置する。テスタ30は、信号入出力部(S)31と、電源供給部32と、を有する。信号入出力部(S)31は、半導体装置10に供給する信号を出力し、半導体装置10から出力される信号を受ける。電源供給部32は、半導体装置10に供給する電源を出力する。信号入出力部(S)31および電源供給部32は、ケーブル、テストヘッド23および試験ボード21を介して半導体装置10の端子に電気的に接続される。
図3の(A)に示すように、第1実施形態の半導体装置10は、半導体基板1と、半導体基板1上の層に形成された素子部2と、素子部2の上の層に形成した通常電源回路6と、試験用電源回路7と、を有する。図3の(A)では、素子部2、通常電源回路6および試験用電源回路7は、それぞれ1層に形成するように示したが、実際にはそれぞれ複数の層にわたって形成するのが一般的である。また、試験用電源回路7を含む層の上には、外部との信号の入出力および外部からの電源の供給のための入出力端子を含む層が形成される。素子部2、通常電源回路6、試験用電源回路7および入出力端子の間は、ビアを介して接続される。
ステップ101では、あらかじめ決められている試験用パターンを読み込む。
ステップ102では、電源供給に関する初期化を行う。例えば、最初のシミュレーションであれば、試験用電源回路7からの電源供給は行われず、すなわちスイッチ群53のスイッチは接続状態になることは無いとする。
ステップ104では、単位時間分のシミュレーションで発生する通常電源回路の電圧降下量を算出して記憶する。
ステップ106では、進行時間を単位時間分増加させてステップ103に戻る。
ステップ103から106を繰り返すことにより、1つの試験用パターンを実行した場合の通常電源回路の電圧降下量のデータが得られる。
図7に示すように、タイミングxxxxxでは、領域B10、B11、B12、B22、B23(対応するA10、A11、A12、A22、A23)での電源電圧の降下量は、200mV、100mV、400mV、0mV、50mVである。ここで、レギュレータ回路51は、1.1V、1.2V、1.3V、1.4V、1.5V、1.6Vの6種類の電圧を生成して、試験用電源供給網52の6本の電源配線に供給しているとする。上記の電圧降下量に基づいて、A10、A11、A12、A22、A23を、それぞれ1.4V、1.3V、1.6V、1.1V、1.2Vに接続する制御データが作成される。また、タイミングxxxxxでは、A11の電圧降下量が増加し、A12の電圧効果量が減少するので、A10、A11、A12、A22、A23を、それぞれ1.4V、1.5V、1.3V、1.1V、1.2Vに接続する制御データが作成される。このように、制御データはタイミング時間に応じて刻々変化する。
図8は、第1実施形態における試験の実行処理を示すフローチャートである。
ステップ202では、テスタにおいて試験パターンを単位時間分進行し、試験信号を生成するとともに、それに同期したメモリ54からの制御データの読み出しを行う。
以上のようにして、試験が終了する。
図13において、ステップ301から302および305から307は、図8の第1実施形態のステップ201から202および204から206に対応し、ステップ303および304のみが異なる。
2 素子部
6 第1(通常)電源回路
7 第2(試験用)電源回路
51 レギュレータ回路
52 試験用電源供給網
53 スイッチ群
54 メモリ
55 試験用電源供給制御部
56 タイミング制御回路
Claims (6)
- 素子部と、
前記素子部に電源を供給する第1電源回路と、
試験時に所定の試験パターンを実行した時に前記第1電源回路に発生する電圧降下を補うように、前記所定の試験パターンの進行状況に応じて前記第1電源回路の各部に試験用電源を供給する第2電源回路と、を備え、
前記第2電源回路は、
前記試験用電源を供給する試験用電源供給網と、
前記第1電源回路の各部と、前記試験用電源供給網の各部を接続する複数のスイッチを有するスイッチ群と、
前記所定の試験パターンを実行した時に前記第1電源回路に発生する電圧降下のシミュレーション結果に基づいて、前記電圧降下を補うように、前記スイッチ群の接続を制御する制御データを記憶するメモリと、
試験時に、前記所定の試験パターンの実行に同期して前記メモリから読み出した前記制御データに基づいて、前記スイッチ群を制御する試験用電源供給制御部と、を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記第2電源回路は、前記第1電源回路と異なる層に形成され、
前記スイッチ群は、ビアを介して前記第1電源回路に接続される請求項1記載の半導体装置。 - 前記試験用電源は、複数の異なる電圧値を有する複数の電源であり、
前記試験用電源供給網は、前記試験用電源の複数の異なる電圧値に対応した複数組の配線を備え、
前記試験用電源供給網の各部は、前記複数組のスイッチを介して、前記複数組の配線に接続される請求項1または2記載の半導体装置。 - 前記第2電源回路は、前記試験用電源をそれぞれ生成する複数の試験用電源発生回路を備え、
前記試験用電源発生回路は、前記メモリに記憶された前記制御データに応じたベース電圧を発生するDACと、
前記ベース電圧に基づいて複数の所定電圧値の電圧電源を生成するレギュレータ回路と、を備える請求項3記載の半導体装置。 - 前記試験用電源供給網は、前記スイッチ群の前記複数のスイッチに対応した複数の領域に分割され、
前記第2電源回路は、前記試験用電源供給網の隣接する前記領域間に設けられた複数の接続スイッチを備え、
試験用電源供給制御部は、隣接する領域に前記試験用電源を供給する時には対応する前記接続スイッチを接続状態に、隣接する領域に前記試験用電源を供給しない時には対応する前記接続スイッチを非接続状態に、なるように制御する請求項4記載の半導体装置。 - 素子部と、前記素子部に電源を供給する第1電源回路と、試験時に前記第1電源回路に発生する電圧降下を補うように、前記第1電源回路の各部に試験用電源を供給するスイッチ群を有する第2電源回路と、を備える半導体装置の試験方法であって、
所定の試験パターンを実行した時に前記第1電源回路に発生する電圧降下のシミュレーションを行い、
前記シミュレーション結果に基づいて、前記所定の試験パターンを実行した時に前記第1電源回路に発生する電圧降下を補うように、前記スイッチ群を制御する制御データを生成および記憶し、
前記所定の試験パターンの実行に同期して前記メモリから読み出した前記制御データに基づいて、前記スイッチ群を制御して、前記第1電源回路の各部に試験用電源を供給する、ことを特徴とする半導体装置の試験方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012145787A JP5958120B2 (ja) | 2012-06-28 | 2012-06-28 | 半導体装置および半導体装置の試験方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014011260A JP2014011260A (ja) | 2014-01-20 |
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JP (1) | JP5958120B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US10784885B2 (en) | 2017-06-26 | 2020-09-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and electronic device |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007205813A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Toshiba Corp | 半導体試験装置用デバイス電源システムおよび電圧補正データ生成方法 |
JP2009059875A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Panasonic Corp | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
JP2012098220A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Advantest Corp | 試験装置 |
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