JP5957616B2 - 新規なリガンド化合物、その製造方法、遷移金属化合物、およびその製造方法 - Google Patents

新規なリガンド化合物、その製造方法、遷移金属化合物、およびその製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、新規なリガンド化合物、その製造方法、前記リガンド化合物を含む遷移金属化合物、およびその製造方法に関する。本出願は、2012年12月11日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第10−2012−0143806号、2012年12月11日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第10−2012−0143809号および2013年11月18日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第10−2013−0140006号の出願日の利益を主張し、その内容全体は本明細書に含まれる。
オレフィン重合用メタロセン触媒は長期間にかけて発展してきた。メタロセン化合物は、一般にアルミノキサン、ボラン、ボレートまたは他の活性化剤を用いて活性化させて使用する。例えば、シクロペンタジエニル基を含むリガンドと二つのシグマクロライドリガンドを有するメタロセン化合物は、アルミノキサンを活性化剤として用いる。このようなメタロセン化合物のクロライド基を他のリガンド(例えば、ベンジルまたはトリメチルシリルメチル基(−CH2SiMe3)で置換する場合、触媒活性度の増加などの効果を奏する例が報告されている。
ヨーロッパ特許EP1462464は、クロライド、ベンジル、トリメチルシリルメチル基を有するハフニウムメタロセン化合物を用いた重合実施例が開示されている。また中心金属と結合したアルキルリガンドにより活性化種の生成エネルギーなどが変化する結果も報告されている(J. Am. Chem. Soc. 2000、122、10358)。韓国特許第820542号には、キノリン系リガンドを有するオレフィン重合用触媒が開示されており、本特許はメチル基以外のシリコン、ゲルマニウム原子を含むリビンググループを有する触媒に関するものである。
Dow社が1990年代初期[Me2Si(Me45)NtBu]TiCl2(Constrained−Geometry Catalyst、CGC)を米国特許第5,064,802号などで開示しているが、エチレンとα−オレフィンの共重合反応でCGCが既存に知られたメタロセン触媒に比べて優れた側面を次のとおり大きく2つに要約することができる。(1)高い重合温度でも高い活性度を示しながら高分子量の重合体を生成し、(2)1−ヘキセンおよび1−オクテンのような立体的障害が大きいα−オレフィンの共重合性も非常に優れているという点である。それ以外にも、重合反応時、CGCの多様な特性が漸次に知られながらその誘導体を合成して重合触媒として使用しようとする努力が学界および産業界で活発に行われている。
その一つの接近方法として、シリコンブリッジの代わりに他の多様なブリッジおよび窒素置換体が導入された金属化合物の合成とこれを用いた重合が試みられた。最近まで知られた代表的な金属化合物は、CGC構造のシリコンブリッジの代わりにフォスフォラス、エチレンまたはプロピレン、メチリデンおよびメチレンブリッジがそれぞれ導入されているが、エチレン重合またはエチレンとα−オレフィンの共重合への適用時に、CGCに比べて重合活性度や共重合性能などの側面で優れた結果を奏することができなかった。
もう一つの接近方法としては、前記CGCのアミドリガンドの代わりにオキシドリガンドから構成された化合物が多く合成され、これを用いた重合も一部試みられた。
しかし、このような全ての試みの中で実際に商業工場に適用されている触媒は数個に過ぎない水準である。
ヨーロッパ特許EP1462464 韓国特許第820542号
J. Am. Chem. Soc. 2000、122、10358
上記問題点を解決するために、本発明は、新規なリガンド化合物、およびその製造方法を提供することをその目的とする。
また本発明は、前記リガンド化合物を含む遷移金属化合物およびその製造方法を提供することをその目的とする。
前記目的を達成するために、本発明は、下記の化学式1で表されるリガンド化合物を提供する。
Figure 0005957616
nは、1〜2の整数であり、
1〜R16は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のヘテロ環基、またはシリル基であり、R1〜R16のうち互いに隣接する2つ以上は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を含むアルキリジン基により互いに連結されて環を形成することができ、
17は、水素、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数1〜20のアルコキシであり、
Qは、炭素またはシリコンである。
また本発明は、下記の化学式3で表される化合物と下記の化学式4で表される化合物またはそのリチウム塩とを反応させる段階を含む下記の化学式1で表されるリガンド化合物の製造方法を提供する。
Figure 0005957616
Figure 0005957616
Figure 0005957616
前記化学式1、3および4中、
1〜R17、Qおよびnは、前記化学式1で定義したとおりである。
また本発明は、下記の化学式2で表される遷移金属化合物を提供する。
Figure 0005957616
前記化学式2中、
1〜R17、Qおよびnは、前記化学式1で定義したとおりであり、
Mは、4族の遷移金属であり、
1およびX2は、同一または異なり、それぞれ独立して、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数1〜20のアルキルアミノ基、炭素数6〜20のアリールアミノ基または炭素数1〜20のアルキリデン基である。
また本発明は、下記の化学式1で表されるリガンド化合物と、下記の化学式9で表される化合物とを反応させる段階を含む下記の化学式2で表される遷移金属化合物の製造方法を提供する。
Figure 0005957616
Figure 0005957616
Figure 0005957616
前記化学式1、2および9中、
1〜R17、Qおよびnは、前記化学式1で定義したとおりであり、
Mは、4族の遷移金属であり、
1およびX2は、同一または異なり、それぞれ独立して、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数1〜20のアルキルアミノ基、炭素数6〜20のアリールアミノ基または炭素数1〜20のアルキリデン基である。
本発明の新規なリガンド化合物およびこれを含む遷移金属化合物は、オレフィン系重合体の製造において重合反応の触媒として有用に用いることができる。
本明細書で使用される用語は、単に例示的な実施形態を説明するために使用されたものに過ぎず、本発明を限定する意図はない。単数の表現は文脈上明白に異なる意味を有しない限り、複数の表現を含む。本明細書で、「含む」または「有する」などの用語は、実施された特徴、数字、段階、構成要素またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定するものであって、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、構成要素、またはこれらを組み合わせたものの存在または付加の可能性を予め排除しないものと理解しなければならない。
本発明は、多様な変更を加えることができ、多様な形態を有することができるところ、 特定の実施形態を例示し、下記で詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定の開示形態に対して限定するものでなく、本発明の思想および技術範囲に含まれる全ての変更、均等物または代替物を含むものと理解しれなければならない。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の一実施形態によれば、下記の化学式1で表されるリガンド化合物を提供する。
Figure 0005957616
前記化学式1中、
nは、1〜2の整数であり、
1〜R16は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のヘテロ環基、またはシリル基であり、R1〜R16のうち互いに隣接する2つ以上は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を含むアルキリジン基により互いに連結されて環を形成することができ、
17は、水素、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数1〜20のアルコキシであり、
Qは、炭素またはシリコンである。
次に、本発明の化学式1〜9で定義された各置換基について詳細に説明する。
前記アルキル基は、直鎖または分枝鎖のアルキル基を含む。
前記アルケニル基は、直鎖または分枝鎖のアルケニル基を含む。
本発明の一実施形態によれば、前記アリール基は、炭素数6〜20であることが好ましく、具体的にはフェニル、ナフチル、アントラセニル、ピリジル、ジメチルアニリニル、アニソリルなどがあるが、これらの例だけに限定されない。
前記アルキルアリール基は、前記アルキル基により置換されたアリール基を意味する。
前記アリールアルキル基は、前記アリール基により置換されたアルキル基を意味する。
前記ハロゲン基は、フッ素基、塩素基、臭素基またはヨウ素基を意味する。
前記シリル基は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリブチルシリル、トリヘキシルシリル、トリイソプロピルシリル、トリイソブチルシリル、トリエトキシシリル、トリフェニルシリル、トリス(トリメチルシリル)シリルなどがあるが、これらの例だけに限定されない。
前記アリール基は、炭素数6〜20であることが好ましく、具体的には、フェニル、ナフチル、アントラセニル、ピリジル、ジメチルアニリニル、アニソリルなどがあるが、これらの例だけに限定されない。
前記ヘテロ環基は、炭素数5〜20個の環原子を有し、1個以上のヘテロ原子を含む1価の脂肪族または芳香族の炭化水素基を意味し、単一環または2以上の環の縮合環であってもよい。
また前記ヘテロ環基は、アルキル基で置換されてもよく、置換されなくてもよい。これらの例としては、インドリン、テトラヒドロキノリンなどが挙げられるが、本発明がこれらだけに限定されない。
本発明の一実施形態によれば、R1〜R16は、それぞれ独立して、水素、または炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、または炭素数5〜20のヘテロ環基であってもよく、R17は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基であってもよい。
前記化学式1で表されるリガンド化合物は、ビスインデニル基がQ(炭素またはシリコン)により架橋された構造を形成し、一つのインデニル基にはインドリン基またはテトラヒドロキノリン基が連結されていてC1非対称的な架橋構造を示す。
本発明の一実施形態によれば、前記化学式1で表されるリガンド化合物は、下記構造式のうちの一つで表され得るが、これに限定されない。
Figure 0005957616
Figure 0005957616
Figure 0005957616
Figure 0005957616
Figure 0005957616
Figure 0005957616
Figure 0005957616
Figure 0005957616
Figure 0005957616
前記構造式中、Meはメチル(methyl)基、Phはフェニル(phenyl)基を示す。
前記化学式1で表される化合物は、金属とキレートを形成することができるリガンド化合物であってもよい。
また、本発明の他の一実施形態によれば、下記の化学式3で表される化合物と下記の化学式4で表される化合物またはそのリチウム塩とを反応させる段階を含む、下記の化学式1で表されるリガンド化合物の製造方法を提供する。
Figure 0005957616
Figure 0005957616
Figure 0005957616
前記化学式1、3および4中、
nは、1〜2の整数であり、
1〜R16は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のヘテロ環基、またはシリル基であり、R1〜R16のうち互いに隣接する2つ以上は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を含むアルキリジン基により互いに連結されて環を形成することができ、
17は、水素、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数1〜20のアルコキシであり、
Qは、炭素またはシリコンである。
本発明のリガンド化合物の製造方法において、前記化学式3で表される化合物と、前記化学式4で表される化合物またはそのリチウム塩とを反応させて前記化学式1で表される化合物を製造する。
より具体的には、本発明の一実施形態によれば、前記化学式4で表される化合物をn−BuLiのような有機リチウム化合物と反応させて化学式4の化合物のリチウム塩を製造する。そして、前記化学式3で表される化合物と混合した後、エテール、CuCN下で反応させて化学式1で表されるリガンド化合物を得ることができる。
この時、前記化学式3で表される化合物は、下記の化学式5で表される化合物またはそのリチウム塩と下記の化学式6で表される化合物とを反応させて得ることができる。より具体的には、前記化学式5で表される化合物をn−BuLiのような有機リチウム化合物と反応させて化学式5の化合物のリチウム塩を製造する。そして、前記化学式6で表される化合物と混合した後、混合物を攪拌して反応させることによって下記の化学式3で表される化合物を得ることができる。
Figure 0005957616
また、前記化学式4で表される化合物は、前記化学式7で表されるインデニルのハロゲン化合物と下記の化学式8で表されるインドリンまたはテトラヒドロキノリン誘導体化合物とを塩基およびパラジウム触媒の存在下でカップリング反応させてC−N結合を形成することによって製造することができる。この時に用いるパラジウム触媒は、特に制限されず、例えば、ビス(トリ(第3ブチル)ホスフィン))パラジウム(((tert−Bu)3P)2Pd)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(Pd(PPh34)、パラジウムクロライド(PdCl2)、パラジウムアセテート(Pd(OAc)2)またはビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(Pd(dba)2)などを用いることができる。
Figure 0005957616
Figure 0005957616
前記化学式3〜8中、R1〜R17、Qおよびnは、前記化学式1で定義したとおりであり、X3は、ハロゲンである。
前記本発明の製造方法によれば、前記化学式1で表されるリガンド化合物は、ラセミ体(racemic)とメソ(meso)化合物の2種類の形態のうちの一つで収得されるか、またはラセミ体とメソが混合された形態で収得され得る。
また、本発明の他の一実施形態によれば、下記の化学式2で表される遷移金属化合物を提供する。本発明の遷移金属化合物は、前記化学式1で表される化合物をリガンドにして4族遷移金属が配位結合された形態であり、下記の化学式2で表され得る。
Figure 0005957616
前記化学式2中、
nは、1〜2の整数であり、
1〜R16は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のヘテロ環基、またはシリル基であり、R1〜R16のうち互いに隣接する2つ以上は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を含むアルキリジン基により互いに連結されて環を形成することができ、
17は、水素、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数1〜20のアルコキシであり、
Qは、炭素またはシリコンであり、
Mは、4族の遷移金属であり、
1およびX2は、同一または異なり、それぞれ独立して、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数1〜20のアルキルアミノ基、炭素数6〜20のアリールアミノ基または炭素数1〜20のアルキリデン基である。
本発明の一実施形態によれば、R1〜R16は、それぞれ独立して、水素、または炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、または炭素数5〜20のヘテロ環基であってもよく、R17は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基であってもよい。
本発明の一実施形態によれば、前記Mに該当する4族の遷移金属としては、Ti、Zr、Hfなどが挙げられるが、これに限定されない。
また本発明の一実施形態によれば、前記化学式2で表される遷移金属化合物は、下記構造式のうちの一つで表され得るが、これに限定されない。
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前記構造式中、Meはメチル基(methyl)、Phはフェニル基(phenyl)を示す。
また、本発明の他の一実施形態によれば、前記化学式2で表される遷移金属化合物の製造方法を提供する。
本発明の他の一実施形態に係る遷移金属化合物の製造方法は、下記の化学式1で表されるリガンド化合物と、下記の化学式9で表される化合物とを反応させる段階を含む。
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前記化学式1、2および9中、
nは、1〜2の整数であり、
1〜R16は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のヘテロ環基、またはシリル基であり、R1〜R16のうち互いに隣接する2つ以上は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を含むアルキリジン基により互いに連結されて環を形成することができ、
17は、水素、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数1〜20のアルコキシであり、
Qは、炭素またはシリコンであり、
Mは、4族の遷移金属であり、
1およびX2は、同一または異なり、それぞれ独立して、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数1〜20のアルキルアミノ基、炭素数6〜20のアリールアミノ基または炭素数1〜20のアルキリデン基である。
本発明の一実施形態によれば、前記Mに該当する4族の遷移金属としては、Ti、Zr、Hfなどが挙げられるが、これに限定されない。
より具体的には、前記化学式1で表されるリガンド化合物をn−BuLiのような有機リチウム化合物と反応させてリチウム塩を製造した後、前記化学式9で表される金属ソースと混合した後、混合物を攪拌して反応させる。以降、反応物を濾過して生成された沈殿物を洗浄し、減圧下で乾燥することによってリガンド化合物に金属原子が結合した錯体(complex)形態に化学式2で表される有機金属化合物を得ることができる。
前記本発明の製造方法によれば、前記化学式2で表される遷移金属化合物は、ラセミ体(racemic)とメソ(meso)化合物の2種類の形態でそれぞれ得られるか、またはラセミ体とメソが混合された形態で得られてもよい。ラセミ体とメソが混合された形態である場合、再結晶化段階を経て最終的にラセミ体だけの遷移金属化合物を得ることができる。
前記化学式1で表されるリガンド化合物および化学式2で表される遷移金属化合物は、ビスインデニル基が炭素またはシリコンにより架橋された構造を形成し、インデニル基にそれぞれインドリン基またはテトラヒドロキノリン基が連結されており、C1非対称的な架橋構造を示す。前記のように、本発明の遷移金属化合物は、電子的に豊富なインドリン基またはテトラヒドロキノリン基を含むことによって中心金属の電子密度が高くなって高温安定性が高く、高分子量のポリオレフィン系重合体、特に、アイソタクチックポリオレフィン系重合体、例えばアイソタクチックポリプロピレン(isotatic polypropylene)を合成する際に有用に用いることができる。
本発明による新規な構造のリガンド化合物およびこれを含む遷移金属化合物は、オレフィン系重合体を製造する際に重合反応触媒として用いることができる。
以下、本発明の理解のために好ましい実施例を記載する。下記の実施例は、本発明を例示するためのものに過ぎず、本発明の範囲を限定するものではない。
<実施例>
下記の実施例で、「一晩中」という用語は、ほぼ12〜16時間を意味し、「常温」という用語は、20〜30℃の温度を意味する。用いた有機試薬および溶媒は、アルドリッチ(Aldrich)社と、メルク(Merck)社で購入して標準方法により精製して用いた。合成のすべての段階において空気と水分の接触を遮断して実験の再現性を高めた。生成された化合物の構造を立証するために、500MHzの核磁気共鳴器(NMR)を用いてスペクトルを得た。
リガンド化合物および遷移金属化合物の合成
実施例1
実施例1−1:1−(2−methyl−1H−inden−4−yl)−1,2,3,4−tetrahydroquinoleの合成
500mLの2口シュレンクフラスコ(2−neck Schlenk flask)に4−bromo−2−methyl−1H−indene(10g、47.83mmol)を入れてグローブボックスに入ってLiOtBu(11.49g、143.49mmol)の重量を測った後、このフラスコにテトラヒドロキノン(tetrahydroquinone)(6.244mL、49.74mmol)を投入した。他の100mLのシュレンクフラスコにグローブボックスでパラジウム触媒Pd(P(tBu)32(0.049g、0.096mmol)を重量を測った。パラジウム触媒をテトラヒドロキノンがあるフラスコに移した後、110℃で4時間30分間反応させてまとめた(work−up)。水を入れて焼入れ(quenching)し、メチレンクロライド(MC)で抽出した後、Na2SO4で水を除去し、真空乾燥した。橙色を帯びる化合物(10.5g、84%収率)を得た。
1H-NMR (CDCl3): δ 7.41〜7.36 (m, 3H in isomers), 7.27〜7.16 (m, 8H in isomers), 6.98 (t, 3H in isomers), 6.74 (m, 3H in isomers), 6.61 (m, 2H in isomers), 6.44 (s, 1H in isomers). 6.43 (d, 1H in isomers), 6.38 (d, 1H in isomers), 3.74〜3.72 (m, 6H in isomers), 3.46 (s, 3H in isomers), 3.24 (s, 3H in isomers), 3.04〜3.02 (m, 6H in isomers), 2.32〜2.22 (m, 15H in somers)
実施例1−2:chloro(2−methyl−4−phenyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silaneの合成
2−methyl−4−phenylindene(4.4g、21.3mmol)、ジエチルエテール(100mL)に対して−78℃でn−BuLi(2.5M in n−Hx)(1.1eq、9.38mL)を徐々に滴加した後、常温で一晩中反応させた。反応後、真空乾燥してヘキサンでフィルターしてリチウム塩を得た。得られたリチウム塩を再びヘキサンで分散(dispersion)させ、−78℃で(CH32SiCl2(ジクロロジメチルシラン)(10eq、27.5mL in hexane)を滴加した後、常温で一晩中反応させた。ラインフィルター後、真空乾燥して淡黄色固体形態の化合物を93%収率に得た。
1H-NMR (CDCl3): δ 7.28 (d, 2H), 7.22〜7.21 (m, 3H), 7.13 (t, 1H), 7.06 (d, 1H), 6.96 (t, 1H), 6.56 (s, 1H), 3.43 (s, 1H), 2.04 (s, 3H), 0.205 (s, 3H), -0.033 (s, 3H)
実施例1−3:4−(3,4−dihydroquinolin−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−phenyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silaneの合成
100mLのシュレンクフラスコに1−(2−methyl−1H−inden−4−yl)−1,2,3,4−tetrahydroquinole(2.2g、8.42mmol)を入れてドライジエチルエテール(dry diethyl ether)40mLを加えて出発物質を溶かした後、−78℃でn−BuLi(2.5M in n−Hx)(3.7mL)を加えて常温で一晩中攪拌した。以降、ガラスフリット(G4)を用いて濾過した。ガラスフリットに残っている固体を真空乾燥して白色固体のlithiated product(2.2g、98%の収率)を得た。グローブボックス内で前記lithiated product(2.2g、8.03mmol)、chloro(2−methyl−4−phenyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silane(2.40g、8.03mmol)、シアン化銅(0.026g、0.29mmol)を250mLのシュレンクフラスコに入れた後、−78゜Cでドライジエチルエテール80mLを加えて常温で一晩中攪拌した。反応完了後、水生NH4Cl100mL、脱イオン水(deionized water)100mLを加えて反応を終了させた。
有機層を水層から分離してMgSO4で乾燥し濾過した後、真空乾燥して淡黄色を帯びる固体のリガンド化合物(4.20g、lithiated product対比定量収率、出発物質対比99%収率)を得た。1H−NMR分析結果、rac:mesoの比率は約1:1であった。
1H-NMR (CDCl3): δ 7.55〜7.12 (m, 22H in rac- and meso-isomers), 7.04 (dd, 2H in rac- and meso-isomers), 6.85〜6.80 (m, 4H in rac- and meso-isomers), 6.63 (td, 2H in rac- and meso-isomers), 6.47 (s, 2H in rac- and meso-isomers), 6.29 (d, 2H in rac- and meso-isomers), 3.81 (s, 2H in rac-isomer), 3.80 (s, 2H in meso-isomer), 3.70〜3.59 (m, 4H in rac- and meso-isomers), 2.94 (t, 4H in rac- and meso-isomers), 2.27 (d, 2H in rac- and meso-isomers), 2.20 (d, 6H in meso-isomer), 2.18 (d, 6H in rac-isomer), 2.13〜2.08 (m, 8H in rac- and meso-isomers), -0.22 (s, 3H in meso-isomer), 0.23 (d, 6H in rac-isomer), -0.25 (s, 3H in meso-isomer)
実施例1−4:rac−dimethylsilylene−(4−(3,4−dihydroquinolin−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−phenyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)zircoium dichlorideの合成
100mLのシュレンクフラスコに4−(3,4−dihydroquinolin−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−phenyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silane1.4g(2.67mmol、rac:meso=1:1)を入れてドライジエチルエテール30mLを加えて出発物質を溶かした後、−78℃でn−BuLi(2.5M in n−Hx)2.4mLを加えて常温で一晩中攪拌した。以降、ガラスフリット(G4)を用いて濾過した。ガラスフリットに残っている固体は、真空乾燥して白色固体のlithiated productを得た。グローブボックス内でこのlithiated product、ZrCl4(0.69g、2.94mmol)を100mLのシュレンクフラスコに入れた後、−78℃でドライヘキサン15mL、ジエチルエテール15mLを順次に加えて常温で一晩中攪拌した。反応終結後、セライト(celite)が敷かれたガラスフリット(G4)で濾過した。ガラスフリットに残っている固体は、ジクロロメタン(DCM)で溶かし出した。DCM濾過液を真空乾燥して赤色の固体を得た。1H−NMR分析結果、rac:meso=1:1のZr錯体(Zr complex)であった。この粗生成物(crude product)を集めてドライトルエン、ヘキサンで−30℃の冷凍室に3日間保管して再結晶させた。生成された赤色固体をガラスフリット(G4)で濾過してドライn−ヘキサン10mLで二回洗浄した後、真空乾燥してラセミ体型の最終結果物0.2g(11%収率)を得た。
1H-NMR (CDCl3): δ 7.61〜7.30 (m, 8H), 7.14 (d, 1H), 7.07〜6.99 (m, 3H), 6.88 (s, 1H), 6.80〜6.75 (m, 1H), 6.63 (t, 1H), 6.57 (s, 1H), 6.29 (d, 1H), 3.79〜3.75 (m, 2H), 2.83〜2.78 (m, 2H), 2.23 (s, 3H), 2.18 (s, 3H), 2.05〜1.94 (m, 2H), 1.29 (s, 6H)
実施例2
rac−dimethylsilylene−4−(3,4−dihydroquinolin−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−phenyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)hafnium dichlorideの合成
100mLのシュレンクフラスコに前記実施例1−3で製造された4−(3,4−dihydroquinolin−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−phenyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silane1.6g(3.05mmol、rac:meso=1:1)を入れてドライジエチルエテール40mLを加えて出発物質を溶かした後、−78℃でn−BuLi(2.5M in n−Hx)2.7mLを加えて常温で一晩中攪拌した。以降、ガラスフリット(G4)を用いて濾過した。ガラスフリットに残っている固体は、真空乾燥して白色固体のlithiated productを得た。グローブボックス内でこのlithiated product、HfCl4(1.1g、3.36mmol)を100mLのシュレンクフラスコに入れた後、−78℃でドライヘキサン20mL、ジエチルエテール20mLを順次に加えて常温で一晩中攪拌した。反応終結後、セライトが敷かれたガラスフリット(G4)で濾過した。ガラスフリットに残っている固体は、ジクロロメタン(DCM)で溶かした。DCM濾過液を真空乾燥して赤色の固体を得た。1H−NMR分析結果、rac:meso=1:1のHf錯体(Hf complex)であった。この粗生成物を集めて45゜Cのoil bathに置いた後、攪拌しながらドライトルエン(dry toluene)30mLを加えて溶かした。これを−30℃の冷凍室に3日間保管して再結晶させた。生成された赤色固体をガラスフリット(G4)で濾過してドライn−ヘキサン10mLで二回洗浄した後、真空乾燥してラセミ体型の最終結果物0.4g(17%収率)を得た。
1H-NMR (CDCl3): δ 7.64 (td, 1H), 7.57〜7.55 (m, 2H), 7.41〜7.38 (m, 3H), 7.32〜7.27 (m, 3H), 7.15〜7.09 (m, 2H), 7.04〜6.97 (m, 3H), 6.80 (t, 1H), 6.62 (td, 1H), 6.48 (s, 1H), 3.76〜3.75 (m ,2H), 2.82〜2.78 (m, 2H), 2.31 (s, 3H), 2.27 (s, 3H), 2.06〜1.91 (m, 2H), 1.28 (s, 6H)
実施例3
実施例3−1:(4−(3,4−dihydroquinolin−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−naphthyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silaneの合成
100mLのシュレンクフラスコに前記実施例1−1で製造された1−(2−methyl−1H−inden−4−yl)−1,2,3,4−tetrahydroquinole(3.0g、11.5mmol)を入れてドライジエチルエテール60mLを加えて出発物質を溶かした後、−78℃でn−BuLi(2.5M in n−Hx)(5.1mL)を加えて常温で一晩中攪拌した。以降、ガラスフリット(G4)を用いて濾過した。ガラスフリットに残っている固体を真空乾燥して白色固体のlithiated product(3.0g、98%の収率)を得た。グローブボックス内で前記lithiated product(3.0g、11.2mmol)、chloro(2−methyl−4−naphthyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silane(3.9g、11.2mmol)、シアン化銅(0.036g、0.40mmol)を250mLのシュレンクフラスコに入れた後、−78゜Cでドライジエチルエテール110mLを加えて常温で一晩中攪拌した。反応完了後、水生NH4Cl 150mL、脱イオン水 150mLを加えて反応を終了させた。
有機層を水層から分離してMgSO4で乾燥し濾過した後、真空乾燥して淡黄色を帯びる固体のリガンド化合物(6.3g、lithiated product対比定量収率、出発物質対比98%収率)を得た。1H−NMR分析結果、rac:mesoの比率は約1:1であった。
1H-NMR (CDCl3): δ 7.90〜7.02 (m, 30H in rac- and meso-isomers), 6.86〜6.83 (m, 2H in rac- and meso-isomers), 6.60 (t, 2H in rac- and meso-isomers), 6.50〜6.48 (m, 2H in rac- and meso-isomers), 6.31〜6.29 (s, 2H in rac- and meso-isomers), 3.88〜3.80 (m, 4H in rac- and meso-isomers), 3.67〜3.58 (m ,4H in rac- and meso-isomers), 2.92〜2.89 (m, 4H in rac- and meso-isomers), 2.25〜2.06 (m, 16H in rac- and meso-isomers), -0.18〜-0.23 (m, 12H in rac- and meso-isomers)
実施例3−2:rac−dimethylsilylene−(4−(3,4−dihydroquinolin−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−naphthyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)zircoium dichlorideの合成
100mLのシュレンクフラスコに(4−(3,4−dihydroquinolin−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−naphthyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silane2.9g(5.05mmol、rac:meso=1:1)を入れてドライジエチルエテール50mLを加えて出発物質を溶かした後、−78℃でn−BuLi(2.5M in n−Hx)4.5mLを加えて常温で一晩中攪拌した。以降、ガラスフリット(G4)を用いて濾過した。ガラスフリットに残っている固体は、真空乾燥して白色固体のlithiated productを得た。グローブボックス内でこのlithiated product、ZrCl4(1.3g、5.56mmol)を100mLのシュレンクフラスコに入れた後、−78℃でドライヘキサン20mL、ジエチルエテール20mLを順次に加えて常温で一晩中攪拌した。反応終結後、セライトが敷かれたガラスフリット(G4)で濾過した。ガラスフリットに残っている固体は、ジクロロメタン(DCM)で溶かし出した。DCM濾過液を真空乾燥して赤色の固体を得た。1H−NMR分析結果、rac:meso=3:1のZr錯体であった。この粗生成物を集めてドライトルエン、ペンタンで−30゜Cの冷凍室で再結晶させた。生成された赤色固体をガラスフリット(G4)で濾過してドライn−ペンタン10mLで二回洗浄した後、真空乾燥してラセミ体型の最終結果物1.07g(29%収率)を得た。
1H-NMR (CDCl3): δ 7.86〜6.77 (m, 17H), 6.59 (s, 1H), 6.40 (s, 1H), 3.81〜3.72 (m, 2H), 2.85〜2.82 (m, 2H), 2.23 (s, 3H), 2.15 (s, 3H), 2.10〜1.95 (m, 2H), 1.32 (s, 3H), 1.29 (s, 3H)
実施例4
rac−dimethylsilylene−(4−(3,4−dihydroquinolin−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−naphthyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)hafnium dichlorideの合成
100mLのシュレンクフラスコに前記実施例3−1で製造された(4−(3,4−dihydroquinolin−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−naphthyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silane2.7g(4.70mmol、rac:meso=1:1)を入れてドライジエチルエテール25mLを加えて出発物質を溶かした後、−78℃でn−BuLi(2.5M in n−Hx)4.14mLを加えて常温で一晩中攪拌した。以降、ガラスフリット(G4)を用いて濾過した。ガラスフリットに残っている固体は、真空乾燥して白色固体のlithiated productを得た。グローブボックス内でこのlithiated product、HfCl4(1.66g、5.18mmol)を100mLのシュレンクフラスコに入れた後、−78℃でドライヘキサン25mL、ジエチルエテール350mLを順次に加えて常温で一晩中攪拌した。反応終結後、セライトが敷かれたガラスフリット(G4)で濾過した。ガラスフリットに残っている固体は、ジクロロメタン(DCM)で溶かし出した。DCM濾過液を真空乾燥して樺色の固体を得た。1H−NMR分析結果、rac:meso=4:1のHf錯体であった。この粗生成物を集めてドライトルエン、ペンタン で−30℃冷凍室に再結晶させた。生成された黄色固体をガラスフリット(G4)で濾過してドライn−ペンタン10mLで二回洗浄した後、真空乾燥してラセミ体型の最終結果物1.00g(26%収率)を得た。
1H-NMR (CDCl3): δ 7.85〜6.62 (m, 17H), 6.50 (s, 1H), 6.31 (s, 1H), 3.75〜3.74 (m, 2H), 2.84〜2.82 (m, 2H), 2.32 (s, 3H), 2.23 (s, 3H), 2.07〜1.92 (m, 2H), 1.31 (s, 3H), 1.28 (s, 3H)
実施例5
実施例5−1:(4−(indoline−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−naphthyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silaneの合成
100mLのシュレンクフラスコに1−(2−methyl−1H−inden−4−yl)−indoline(0.43g、1.73mmol)を入れてドライジエチルエテール8.7mLを加えて出発物質を溶かした後、−78℃でn−BuLi(2.5M in n−Hx)(0.76mL)を加えて常温で一晩中攪拌した。以降、ガラスフリット(G4)を用いて濾過した。ガラスフリットに残っている固体を真空乾燥して白色固体のlithiated product(0.42g、96%の収率)を得た。グローブボックス内で前記lithiated product(0.42g、1.66mmol)、chloro(2−methyl−4−naphthyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silane(0.58g、1.66mmol)、シアン化銅(6.0mg、0.067mmol)を1000mLのシュレンクフラスコに入れた後、−78℃でドライジエチルエテール16mLを加えて常温で一晩中攪拌した。反応完了後、脱イオン水20mLを加えて反応を終了させた。
有機層を水層から分離してMgSO4で乾燥し濾過した後、真空乾燥して淡黄色を帯びる固体のリガンド化合物(0.79g、lithiated product対比定量収率、出発物質対比85%収率)を得た。1H−NMR分析結果、rac:mesoの比率は約1:1であった。
1H-NMR (CDCl3): δ 7.93〜6.21 (m, 19H in rac- and meso-isomers), 3.75〜3.54 (m, 4H in rac- and meso-isomers), 2.90〜2.76 (m, 2H in rac- and meso-isomers), 2.01〜1.75 (m, 6H in rac- and meso-isomers), -0.17〜-0.26 (m, 6H in rac- and meso-isomers)
実施例5−2:rac−dimethylsilylene−(4−(indoline−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−naphthyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)zircoium dichlorideの合成
100mLのシュレンクフラスコに4−(indoline−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−naphthyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silane0.772g(1.39mmol、rac:meso=1:1)を入れてドライジエチルエテール13mLを加えて出発物質を溶かした後、−78℃でn−BuLi(2.5M in n−Hx)1.16mLを加えて常温で一晩中攪拌した。以降、ガラスフリット(glass frit)(G4)を用いて濾過した。ガラスフリットに残っている固体は、真空乾燥して白色固体のリチウム化生成物(lithiated product)を得た。グローブボックス内でこのリチウム化生成物、ZrCl4(0.354g、1.53mmol)を100mLのシュレンクフラスコに入れた後、−78℃でドライヘキサン(dry hexane)13mL、ジエチルエテール350mLを順次に加えて常温で一晩中攪拌した。反応終結後、セライトが敷かれたガラスフリット(G4)で濾過した。ガラスフリットに残っている固体は、ジクロロメタン(DCM)で溶かし出した。DCM濾過液を真空乾燥して樺色の固体を得た。1H−NMR分析結果、rac:meso=3:1のZr錯体であった。この粗生成物を集めてドライトルエンで−30℃の冷凍室で再結晶させた。生成された樺色固体をガラスフリット(G4)で濾過してドライトルエン10mLで二回洗浄した後、真空乾燥してラセミ体型の最終結果物0.11g(11%収率)を得た。
1H-NMR (toluene-dδ): δ 8.20〜8.18 (dd, 1H), 7.75 (d, 1H), 7.58 (d, 1H), 7.49 (d, 1H), 7.30〜6.87 (m, 1H), 6.75〜6.70 (m, 2H), 6.53 (s, 1H), 4.14〜4.03 (m, 2H), 2.73〜2.71 (m, 2H), 2.12 (s, 3H), 1.88 (s, 3H), 0.91 (s, 3H), 0.86 (s, 3H)
実施例6
rac−dimethylsilylene−(4−(indoline−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−naphthyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)hafnium dichlorideの合成
100mLのシュレンクフラスコに前記実施例5−1で製造された(4−(indoline−1(2H)−yl)−2−methyl−1H−inden−1−yl)(4−naphthyl−2−methyl−1H−inden−1−yl)dimethyl silane2.0g(3.57mmol、rac:meso=1:1)を入れてドライジエチルエテール18mLを加えて出発物質を溶かした後、−78℃でn−BuLi(2.5M in n−Hx)3.14mLを加えて常温で一晩中攪拌した。以降、ガラスフリット(G4)を用いて濾過した。ガラスフリットに残っている固体は真空乾燥して白色固体のリチウム化生成物を得た。グローブボックス内でこのリチウム化生成物、HfCl4(1.26g、3.93mmol)を100mLのシュレンクフラスコに入れた後、−78℃でドライトルエン18mLを順次に加えて常温で一晩中攪拌した。反応終結後、セライトが敷かれたガラスフリット(G4)で濾過した。ガラスフリットに残っている固体はジクロロメタン(DCM)で溶かし出した。DCM濾過液を真空乾燥して樺色の固体を得た。1H−NMR分析結果、rac:meso=3:1のHf錯体であった。この粗生成物を集めてドライトルエンで−30℃の冷凍室で再結晶させた。生成された黄色固体をガラスフリット(G4)で濾過してドライトルエン10mLで二回洗浄した後、真空乾燥してラセミ体型の最終結果物0.3g(10%収率)を得た。
1H-NMR (toluene-dδ): δ 8.12 (d, 1H), 7.76 (d, 1H), 7.62 (d, 1H), 7.55 (d, 1H), 7.51 (d, 1H), 7.27〜6.85 (m, 10H), 6.70〜6.67 (m, 2H), 6.42 (s, 1H), 4.07〜3.98 (m, 2H), 2.70〜2.67 (m, 2H), 2.19 (s, 3H), 1.95 (s, 3H), 0.88 (s, 3H), 0.84 (s, 3H)
比較例1
rac−1,1’−dimethtylsilylene−bis(indenyl)hafnium dichloride
rac−1,1’−dimethtylsilylene−bis(indenyl)hafnium dichloride化合物は、米国特許No.5,905,162のExample1により合成して用いた。
プロピレン単独重合体の製造
実施例7
250mLのミニクレーブ反応器にトルエン溶媒(0.2L)を加えた後、反応器の温度を70℃に予熱した。5x10-6Mのジメチルアニリウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート助触媒0.2mLをシリンジで反応器に投入した後、トリイソブチルアルミニウム化合物で処理された前記実施例1の遷移金属化合物(1x10-6M、0.1mL)を反応器に入れた。重合反応は10分間5barプロピレンを注入しながら進行した。重合反応を10分間進行した後、残ったガスを取り出して高分子溶液を過量のエタノールを加えて冷却させ、沈澱を誘導した。得られた高分子をエタノールおよびアセトンでそれぞれ2〜3回洗浄した後、80℃の真空オーブンで12時間以上乾燥した後、物性を測定した。
実施例8
前記実施例2の遷移金属化合物を用いたことを除いては、前記実施例7と同様な方法でオレフィン系重合体を製造した。
実施例9
前記実施例3の遷移金属化合物を用いたことを除いては、前記実施例7と同様な方法でオレフィン系重合体を製造した。
実施例10
前記実施例4の遷移金属化合物を用いたことを除いては、前記実施例7と同様な方法でオレフィン系重合体を製造した。
比較例2
5x10-6Mのジメチルアニリウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート助触媒を1.0mL用い、トリイソブチルアルミニウム化合物で処理された前記比較例1の遷移金属化合物(1x10-6M、0.5mL)を用いたことを除いては、前記実施例7と同様な方法でオレフィン系重合体を製造した。
重合体の融点(Tm)は、TA社のQ100を用いて測定した。測定値は重合体の熱履歴(thermal history)をなくすために、1分当り10℃に昇温させた第2次の溶融(melting)を通じて得た。
前記実施例7〜10および比較例2に対して上記のような方法で物性を測定した後、その結果を下記表1に示した。
Figure 0005957616
前記表1を参照すれば、実施例7〜10により製造されたプロピレン重合体は、比較例2の重合体に比べて高い融点(Tm)を示した。つまり、本発明の遷移金属化合物を触媒として用いる場合、高い触媒活性度を示し、アイソタクチシティー(isotacticity)が高いオレフィン系重合体が得られることを確認した。
プロピレン−エチレン共重合体の製造
実施例11
2Lのオートクレーブ反応器にトルエン溶媒(0.8L)とプロピレン(250g)、エチレン(70psi)を加えた後、高圧アルゴン圧力で500psiになるように圧力を調節して反応器の温度を70℃に予熱した。5x10-6Mのジメチルアニリウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート助触媒0.2mLを高圧アルゴン圧力を加えて反応器に入れ、トリイソブチルアルミニウム化合物で処理された前記実施例1の遷移金属化合物(1x10-6M、0.1mL)を触媒貯蔵タンクに入れた後、高圧のアルゴン圧力を加えて反応器に入れた。重合反応は10分間進行した。反応熱は、反応機内部の冷却コイルを通じて除去し、重合温度を最大限一定に維持した。重合反応を10分間進行した後、残ったガスを取り出して高分子溶液を反応器の下部に排出させ、過量のエタノールを加えて冷却させ、沈澱を誘導した。得られた高分子をエタノールおよびアセトンでそれぞれ2〜3回洗浄した後、80℃の真空オーブンで12時間以上乾燥した後、物性を測定した。
実施例12
前記実施例3の遷移金属化合物を用いたことを除いては、前記実施例11と同様な方法でオレフィン系重合体を製造した。
実施例13
前記実施例5の遷移金属化合物を用いたことを除いては、前記実施例11と同様な方法でオレフィン系重合体を製造した。
比較例3
5x10-6Mのジメチルアニリウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート助触媒を1.0mL用い、トリイソブチルアルミニウム化合物で処理された前記比較例1の遷移金属化合物(1x10-6M、0.5mL)を用いたことを除いては、前記実施例11と同様な方法でオレフィン系重合体を製造した。
重合体の溶融指数(melt flow rate、MFR)は、ASTM D−1238(条件E、230℃、2.16kg荷重)に準拠して測定した。融点(Tm)は、TA社のQ100を用いて測定した。測定値は、重合体の熱履歴をなくすために、1分当り10℃に昇温させた第2次の溶融を通じて得た。
前記実施例11〜13および比較例3に対して上記のような方法で物性を測定した後、その結果を下記表2に示した。
Figure 0005957616
前記表2を参照すれば、実施例11〜13により製造されたプロピレン−エチレン重合体は、比較例3に比べて高い触媒活性度、溶融指数など優れた効果を奏した。

Claims (12)

  1. 下記の化学式1で表されるリガンド化合物。
    Figure 0005957616
    (前記化学式1中、
    nは、1〜2の整数であり、
    1〜R16は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のヘテロ環基、またはシリル基であり、R1〜R16のうち互いに隣接する2つ以上は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を含むアルキリジン基により互いに連結されて環を形成することができ、
    17は、水素、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数1〜20のアルコキシであり、
    Qは、炭素またはシリコンである。)
  2. 前記R1〜R16は、それぞれ独立して、水素、または炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、または炭素数5〜20のヘテロ環基であり、R17は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基である、請求項1に記載のリガンド化合物。
  3. 前記化学式1で表される化合物は、下記構造式のうちの一つで表される、請求項1に記載のリガンド化合物。
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
  4. 下記の化学式2で表される遷移金属化合物。
    Figure 0005957616
    (前記化学式2で、
    nは、1〜2の整数であり、
    1〜R16は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のヘテロ環基、またはシリル基であり、R1〜R16のうち互いに隣接する2つ以上は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を含むアルキリジン基により互いに連結されて環を形成することができ、
    17は、水素、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数1〜20のアルコキシであり、
    Qは、炭素またはシリコンであり、
    Mは、4族の遷移金属であり、
    1およびX2は、同一または異なり、それぞれ独立して、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数1〜20のアルキルアミノ基、炭素数6〜20のアリールアミノ基または炭素数1〜20のアルキリデン基である。)
  5. 前記R1〜R16は、それぞれ独立して、水素、または炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、または炭素数5〜20のヘテロ環基であり、R17は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基である、請求項4に記載の遷移金属化合物。
  6. 前記Mは、Ti、ZrおよびHfからなる群より選択される、請求項4に記載の遷移金属化合物。
  7. 前記化学式2で表される遷移金属化合物は、下記の構造式のうちの一つで表される、請求項4に記載の遷移金属化合物。
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
  8. 下記の化学式3で表される化合物と下記の化学式4で表される化合物またはそのリチウム塩とを反応させる段階を含む下記の化学式1で表されるリガンド化合物の製造方法。
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    (前記化学式1、3および4中、
    nは、1〜2の整数であり、
    1〜R16は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のヘテロ環基、またはシリル基であり、R1〜R16のうち互いに隣接する2つ以上は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を含むアルキリジン基により互いに連結されて環を形成することができ、
    17は、水素、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数1〜20のアルコキシであり、
    Qは、炭素またはシリコンである。)
  9. 前記R1〜R16は、それぞれ独立して、水素、または炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、または炭素数5〜20のヘテロ環基であり、R17は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基である、請求項8に記載のリガンド化合物の製造方法。
  10. 下記の化学式1で表されるリガンド化合物と、下記の化学式9で表される化合物とを反応させる段階を含む下記の化学式2で表される遷移金属化合物の製造方法。
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    Figure 0005957616
    (前記化学式1、2および9中、
    nは、1〜2の整数であり、
    1〜R16は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のヘテロ環基、またはシリル基であり、R1〜R16のうち互いに隣接する2つ以上は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を含むアルキリジン基により互いに連結されて環を形成することができ、
    17は、水素、ハロゲン基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数1〜20のアルコキシであり、
    Qは、炭素またはシリコンであり、
    Mは、4族の遷移金属であり、
    1およびX2は、同一または異なり、それぞれ独立して、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、炭素数1〜20のアルキルアミノ基、炭素数6〜20のアリールアミノ基または炭素数1〜20のアルキリデン基である。)
  11. 前記R1〜R16は、それぞれ独立して、水素、または炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基、炭素数7〜20のアリールアルキル基、または炭素数5〜20のヘテロ環基であり、R17は、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基である、請求項10に記載の遷移金属化合物の製造方法。
  12. 前記Mは、Ti、ZrおよびHfからなる群より選択される、請求項10に記載の遷移金属化合物の製造方法。
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