JP5947233B2 - 電界効果トランジスタ - Google Patents
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- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
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Description
窒化物系半導体からなる第2半導体部と、前記第1半導体部と前記第2半導体部との間に形成された、前記第1半導体部と前記第2半導体部との間の原子拡散を防止する拡散防止層と、前記第1半導体部の表面に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極と、前記第2半導体部から前記第1半導体部に到る深さまで形成されたリセス部とを備え、前記ゲート絶縁膜および前記ゲート電極は前記リセス部に形成されていることを特徴とする。
図1は、本発明の実施の形態1に係る電界効果トランジスタの模式的な断面図である。この電界効果トランジスタ100は、基板1上に形成された、バッファ層2、電子走行層3、電子供給層4、拡散防止層6、シリコン層7、ゲート絶縁膜8、ソース電極9、ドレイン電極10、およびゲート電極11を備えている。
図2は、本発明の実施の形態2に係る電界効果トランジスタの模式的な断面図である。この電界効果トランジスタ200は、シリコン基板27上に形成された、拡散防止層26、n−−GaN層23、n+−GaN層24、ゲート絶縁膜8、ソース電極9、ドレイン電極10、およびゲート電極11を備えている。
図3は、本発明の実施の形態3に係る電界効果トランジスタの模式的な断面図である。この電界効果トランジスタ300は、図2に示す電界効果トランジスタ200において、n−−GaN層23およびn+−GaN層24を、電子走行層33とその上に形成した電子供給層34に置き換え、エッチング等によって電子供給層34からシリコン基板27に到る深さまでリセス部35を形成した構成を有する。
つぎに、本発明の実施の形態4について説明する。上記実施の形態1〜3に係る電界効果トランジスタは、素子内部で電流が半導体積層面方向に流れる横型デバイスであるが、本実施の形態4に係る電界効果トランジスタは、素子内部で電流が半導体積層方向に流れる縦型デバイスである。
図5は、本発明の実施の形態5に係る電界効果トランジスタの模式的な断面図である。この電界効果トランジスタ500は、基板1上に形成された、バッファ層2、n+−GaN層54a、n−−GaN層53、拡散防止層56、p−Si層57、n+−Si層54b、ゲート絶縁膜8、ソース電極9、ドレイン電極10、およびゲート電極11を備えている。
2 バッファ層
3、33 電子走行層
3a、33a 2次元電子ガス層
4、34 電子供給層
5、25、35、45、55 リセス部
6、26、46、56 拡散防止層
6a、7a 底面部
6b、7b 側壁部
7 シリコン層
8 ゲート絶縁膜
9 ソース電極
10 ドレイン電極
11 ゲート電極
23、43、53 n−−GaN層
24 n+−GaN層
27 シリコン基板
44a、54a n+−GaN層
44b、54b n+−Si層
47、57 p−Si層
100、200、300、400、500 電界効果トランジスタ
Claims (6)
- シリコン、ゲルマニウム、またはシリコンゲルマニウムからなる第1半導体部と、
窒化物系半導体からなる第2半導体部と、
前記第1半導体部と前記第2半導体部との間に形成された、前記第1半導体部と前記第
2半導体部との間の原子拡散を防止する拡散防止層と、
前記第1半導体部の表面に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極と、
前記第2半導体部と電気的に接続するドレイン電極と、
前記ゲート電極に所定の電圧を印加し、前記第1半導体部にチャネルが形成されると、該チャネルおよび前記拡散防止層を介して前記ドレイン電極と電気的に接続するように形成されたソース電極と、を備えることを特徴とする電界効果トランジスタ。 - 前記第2半導体部は、電子走行層と、前記電子走行層上に形成された、前記電子走行層よりもバンドギャップが広い電子供給層とを有し、
前記電子走行層の前記電子供給層との界面には2次元電子ガス層が形成されており、前記第1半導体部に前記チャネルが形成されると、該チャネル、前記拡散防止層および前記2次元電子ガス層を介して前記ドレイン電極と前記ソース電極とが電気的に接続することを特徴とする請求項1に記載の電界効果トランジスタ。 - 前記第2半導体部はドリフト層を含み、前記ソース電極と前記ドレイン電極とが異なる半導体層上に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の電界効果トランジスタ。
- シリコン、ゲルマニウム、またはシリコンゲルマニウムからなる第1半導体部と、
窒化物系半導体からなる第2半導体部と、
前記第1半導体部と前記第2半導体部との間に形成された、前記第1半導体部と前記第
2半導体部との間の原子拡散を防止する拡散防止層と、
前記第1半導体部の表面に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極と、
前記第2半導体部から前記第1半導体部に到る深さまで形成されたリセス部とを備え、
前記ゲート絶縁膜および前記ゲート電極は、前記リセス部に形成されていることを特徴とする電界効果トランジスタ。 - 前記第1半導体部はシリコン基板に含まれることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の電界効果トランジスタ。
- 前記第2半導体部に形成されたリセス部を有し、
前記第1半導体部、前記拡散防止層、前記ゲート絶縁膜および前記ゲート電極は前記リ
セス部に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の電界効果トランジスタ。
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