JP5942476B2 - 発光素子における透明電極の製造方法 - Google Patents
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101 基板
103 n型コンタクト層
105 n型クラッド層
107 発光層
109 p型クラッド層
111 p型コンタクト層
113 第1透明電極層
115 第2透明電極層
117 P電極
119 N電極
900 発光素子
901 基板
903 n型コンタクト層
905 n型クラッド層
907 発光層
909 p型クラッド層
911 p型コンタクト層
913 透明電極層
915 N電極
917 P電極
Claims (6)
- スパッタリング法を利用して発光素子における透明電極を製造する方法であって、
所定の基板上に形成された半導体層の上に、前記半導体層に対するダメージを軽減し前記半導体層との間の接触抵抗を所望の値まで低下させることが可能な第1のRFパワーによって、透明電極用材料を第1の膜厚で形成することで、第1の透明電極層を形成し、
前記第1の透明電極層上に、前記第1のRFパワーよりも大きな値を有する第2のRFパワーであってシート抵抗を所望の値まで低下させるとともに光の透過率を所望の値まで向上させることが可能な前記第2のRFパワーによって、所望の膜厚まで前記透明電極用材料を形成する
ことを特徴とする、透明電極の製造方法。 - 前記第1のRFパワーは、50W以下である
ことを特徴とする、請求項1に記載の透明電極の製造方法。 - 前記第2のRFパワーは、100W以上である
ことを特徴とする、請求項1又は2に記載の透明電極の製造方法。 - 前記透明電極用材料は、ITO又はIZOである
ことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の透明電極の製造方法。 - 前記第1の膜厚は、50nm以下である
ことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の透明電極の製造方法。 - 前記基板の温度は、50℃以上である
ことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の透明電極の製造方法。
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