JP5938277B2 - 半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 19
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 302
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 claims description 36
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 20
- 101100365883 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) SLG1 gene Proteins 0.000 description 69
- 101100156779 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) wsc1 gene Proteins 0.000 description 69
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 59
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 46
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 45
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 16
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 13
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 12
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 101000979629 Homo sapiens Nucleoside diphosphate kinase A Proteins 0.000 description 9
- 102100023252 Nucleoside diphosphate kinase A Human genes 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 101000631695 Homo sapiens Succinate dehydrogenase assembly factor 3, mitochondrial Proteins 0.000 description 8
- 101100156780 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) WSC2 gene Proteins 0.000 description 8
- 102100028996 Succinate dehydrogenase assembly factor 3, mitochondrial Human genes 0.000 description 8
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 8
- 102100022210 COX assembly mitochondrial protein 2 homolog Human genes 0.000 description 7
- 101000900446 Homo sapiens COX assembly mitochondrial protein 2 homolog Proteins 0.000 description 7
- 101100257194 Homo sapiens SMIM8 gene Proteins 0.000 description 7
- 102100024789 Small integral membrane protein 8 Human genes 0.000 description 7
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 7
- 102100029235 Histone-lysine N-methyltransferase NSD3 Human genes 0.000 description 6
- 101100461044 Homo sapiens NSD3 gene Proteins 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 101100533652 Homo sapiens SLIRP gene Proteins 0.000 description 5
- 102100025491 SRA stem-loop-interacting RNA-binding protein, mitochondrial Human genes 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- -1 DC21 Proteins 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
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- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/412—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger using field-effect transistors only
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/413—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
- G11C11/417—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the field-effect type
- G11C11/419—Read-write [R-W] circuits
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0207—Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0684—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape, relative sizes or dispositions of the semiconductor regions or junctions between the regions
- H01L29/0692—Surface layout
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B10/00—Static random access memory [SRAM] devices
- H10B10/12—Static random access memory [SRAM] devices comprising a MOSFET load element
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B10/00—Static random access memory [SRAM] devices
- H10B10/18—Peripheral circuit regions
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Description
また、ウェル電圧供給セルは、各メモリセルに設けられたトランジスタの特性及び形状の変動を抑制し、信頼性を高めるため、周辺のメモリセルと同様の規則性を維持したまま配置されることが望ましい。
さらに、メモリセルの低消費電力あるいはセル動作マージンを向上させため、多電源化することが望ましい。
特許文献2には、素子分離領域の応力が抑制されたSRAMが開示されている。
特許文献3、4には、周辺のメモリセルと同様の規則性を維持したまま配置されたウェル電圧供給セルを備えたSRAMが開示されている。
特許文献5には、多電源化されたSRAMが開示されている。
上述の多電源化されたSRAMでは、周辺のメモリセルと同様の規則性を維持したままウェル電圧供給セルを配置するのが困難であった。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
Pウェル上において、対向配置された第3のゲート電極と第4のゲート電極との間に設けられたP型不純物拡散領域と、第3のゲート電極の第1のSRAMセル側に設けられた第1のN型不純物拡散領域と、第4のゲート電極の第2のSRAMセル側に設けられた第2のN型不純物拡散領域と、を備えている。
図1は、第1の実施の形態に係る半導体装置のブロック図である。実施の形態1に係る半導体装置は、制御回路CNT、メモリセルアレイCA、ワードドライバWD、列選択回路CSELを備えたSRAMである。ここで、列選択回路CSELは、入出力制御機能も有している。
メモリセルアレイCAは、行列状(マトリクス状)に複数配置されたメモリセルMCを有している。具体的には、行方向(X方向)に、n(nは自然数)本のワード線WL1、WL2、・・・、WLnが設けられている。また、列方向(Y方向)には、m組のビット線対DT1、DB1、DT2、DB2、・・・、DTm、DBm、が設けられている。各ワード線と各ビット線対とが交差する位置に、メモリセルMCが配置されている。つまり、図1の例では、メモリセルアレイCAは、n×m個のメモリセルを備えている。
第1層配線ML101aは、拡散領域コンタクトDC3aが形成されたX方向の境界線に沿って、拡散領域コンタクトDC3aの形成位置から近接するメモリセルMC1のコーナー(角部)まで延設されている。
第1層配線ML110aは、拡散領域コンタクトDC6aが形成されたX方向の境界線に沿って、拡散領域コンタクトDC6aの形成位置から近接するメモリセルMC1のコーナー(角部)まで延設されている。
ここで、拡散領域コンタクトDC3a、DC6aは、メモリセルMC1の中心Oに関して、互いに点対称に配置されている。そのため、第1層配線ML110a、ML101aも、互いに点対称に配置されている。
第1層配線ML109aは、ゲートコンタクトGC2aが形成されたY方向の境界線に沿って、ゲートコンタクトGC2aの形成位置から当該境界線の中央部まで設けられている。
ここで、ゲートコンタクトGC1a、GC2aは、メモリセルMC1の中心Oに関して、互いに点対称に配置されている。そのため、第1層配線ML102a、ML110aも、互いに点対称に配置されている。
第1層配線ML108aは、拡散領域コンタクトDC8aが形成されたX方向の境界線に沿って、拡散領域コンタクトDC8aの形成位置からメモリセルMC1の中央側に若干延びて設けられている。
ここで、拡散領域コンタクトDC5a、DC8aは、メモリセルMC1の中心Oに関して、互いに点対称に配置されている。そのため、第1層配線ML103a、ML108aも、互いに点対称に配置されている。
第1層配線ML107aは、メモリセルMC1のY方向中央部において、拡散領域コンタクトDC7aの形成位置から共通コンタクトSC2aの形成位置までX方向に延設されている。
ここで、第1層配線ML104a、ML107aも、互いに点対称に配置されている。
第1層配線ML106aは、拡散領域コンタクトDC2a上において、拡散領域コンタクトDC2aよりもやや大きく形成されている。
ここで、拡散領域コンタクトDC1a、DC2aは、メモリセルMC1の中心Oに関して、互いに点対称に配置されている。そのため、第1層配線ML105a、ML106aも、互いに点対称に配置されている。
第2層配線ML204aは、第2の低電圧側電源ARVSSに接続される第1ビアV106a上において、第1ビアV106aよりもやや大きく形成されている。ここで、第1ビアV106aは第1層配線ML110a上において、メモリセルMC1のコーナーに設けられている。
ここで、第1ビアV103a、106aは、メモリセルMC1の中心Oに関して、互いに点対称に配置されている。そのため、第2層配線ML201a、ML204aも、互いに点対称に配置されている。
第2層配線ML203aは、ワード線WLに接続される第1ビアV107a上において、第1ビアV107aよりもやや大きく形成されている。ここで、第1ビアV107aは、Y方向の境界線上に設けられた第1層配線ML109aの中央部に設けられている。
ここで、第1ビアV104a、107aは、メモリセルMC1の中心Oに関して、互いに点対称に配置されている。そのため、第2層配線ML202a、ML203aも、互いに点対称に配置されている。
また、第2配線層からなるビット線DBは、第1ビアV108aを通るように、Y方向に延設されている。ここで、第1ビアV108aは、X方向の境界線上に設けられた第1層配線ML108a上に設けられている。
ここで、第1ビアV105a、108aは、メモリセルMC1の中心Oに関して、互いに点対称に配置されている。そのため、ビット線DT、DBも、メモリセルMC1の中心Oから等距離に位置する。
ここで、第1ビアV101a、102aは、メモリセルMC1の中心Oに関して、互いに点対称に配置されている。また、電源線PS1は、メモリセルMC1の中心Oを含み、点対称な形状を有している。
また、第3配線層からなる電源線PS22aは、第2ビアV204aを通るように、X方向の境界線に沿って延設されている。ここで、第2ビアV204aは、第2層配線ML204a上において、メモリセルMC1のコーナーに設けられている。
ここで、第2ビアV201a、204aは、メモリセルMC1の中心Oに関して、互いに点対称に配置されている。そのため、電源線PS21a、PS22aは、互いに対向するX方向の境界線に沿って延設されている。電源線PS21a、PS22aは、何れも第2の低電圧側電源ARVSSに接続されている。
ここで、第2ビアV202a、203aは、メモリセルMC1の中心Oに関して、互いに点対称に配置されている。また、ワード線WLは、メモリセルMC1の中心Oを含み、点対称な形状を有している。
図5に示すように、読み出し又は書き込みを待機している通常のスタンバイ状態(STAND−BY)では、ワード線WLはL(VSS)となる。また、ビット線対DT、DBは共にH(VDD)にプリチャージされる。記憶ノードNDT、NDBでは値が保持される。一方、書き込み動作時又は読み出し動作時には、ワード線WLはHとなる。
また、メモリセルMC1をY軸に線対称に反転させたメモリセルをMC3、メモリセルMC3をさらにX軸に線対称に反転させたメモリセルをMC4とすると、MC3とMC4とがY軸方向に交互に列状に配置される(MC3、MC4は、図9Aに図示)。またメモリセルMC1とMC2による列とMC3とMC4による列は、MC1とMC3が隣接するように、互いに隣接して配置される。
なお、メモリセルMC1そのものがMC1の中心に対して点対称なので、MC4はMC1とMC2はMC3と同じレイアウトになる。
換言すると、図2に示すメモリセルアレイCAは、メモリセルアレイCAのメモリセルMCとしてメモリセルMC1、MC2、MC3、MC4を備え、1つのメモリセルMCは隣接するメモリセルMCとX軸あるいはY軸に対して互いに反転したレイアウトとなるように構成される。つまり実質1種のメモリセルMCのレイアウト構成で均一に構成される。
ウェル電圧供給セルWSC1は、ウェル電圧供給セルWSCaとウェル電圧供給セルWSCbとから成る。ウェル電圧供給セルWSCaとウェル電圧供給セルWSCbとは、図7Aに示すように、互いに隣接し、隣接する境界線を軸として互いに線対称に構成されている。言い換えると、ウェル電圧供給セルWSCbはウェル電圧供給セルWSCaをX軸で線対称に反転させたものである。
図3A同様に、図7Aでは、一点鎖線で囲われた単位で、ウェル電圧供給セルWSCa、WSCbが構成される。そして、ウェル電圧供給セルWSCa、WSCbをあわせたものが、1つのウェル電圧供給セルWSC1である。一点鎖線の外側の部分は隣接して配置されるセルが備える。この一点鎖線で示す部分がそれぞれウェル電圧供給セルWSCa、WSCbのセル枠である。
また、メモリセルMC1と同様、ウェル電圧供給セルWSC1をY軸に対して反転させたレイアウト構成のウェル電圧供給セルWSC2を備える。ここでウェル電圧供給セルWSC2は、ウェル電圧供給セルWSCaをY軸反転させたレイアウト構成のウェル電圧供給セルWSCcとウェル電圧供給セルWSCbをY軸反転させたレイアウト構成のウェル電圧供給セルWSCdとを備えるように構成される(WSC2、WSCc、WSCdは、図9Aに図示)。
図2に示すウェル電圧供給セルWSCにはこのように構成されたウェル電圧供給セルWSC1とWSC2とが配置される。ウェル電圧供給セルWSC1とWSC2とは交互に隣接するようにウェル電圧供給セルWSCとして配置される。
拡散領域コンタクトDC2a、DC5a、DC6aは、メモリセルMC1とウェル電圧供給セルWSC1とが半分ずつ備え、メモリセルMC1とウェル電圧供給セルWSC1を隣接配置することにより、拡散領域コンタクトDC2a、DC5a、DC6aは、それぞれ1つの拡散領域コンタクトとを構成する。なお、図7B〜図7Dの示す上層の配線層のも同様に、図の一点鎖線で示すセル枠上に掛かる配線は、メモリセルMC1とウェル電圧供給セルWSC1とが半分ずつ備え、メモリセルMC1とウェル電圧供給セルWSC1を隣接配置することによりそれぞれ1つの配線を形成する。
換言すると、ウェル電圧供給セルWSCaとメモリセルMC1とは、境界線を対称軸として、線対称なレイアウトとなっている。
拡散領域コンタクトDC2b、DC5b、DC6bは、メモリセルMC1とウェル電圧供給セルWSC1とが半分ずつ備え、メモリセルMC1とウェル電圧供給セルWSC1を隣接配置することにより、拡散領域コンタクトDC2b、DC5b、DC6bは、それぞれ1つの拡散領域コンタクトとを構成する。
換言すると、ウェル電圧供給セルWSCbとメモリセルMC2とは、境界線を対称軸として、線対称なレイアウトとなっている。
ビット線DTに接続される第1層配線ML103aは、拡散領域コンタクトDC5aが形成されたX方向の境界線に沿って、拡散領域コンタクトDC5aの形成位置からウェル電圧供給セルWSC1の中央側に若干延びて設けられている。同様に、ビット線DTに接続される第1層配線ML103bは、拡散領域コンタクトDC5bが形成されたX方向の境界線に沿って、拡散領域コンタクトDC5bの形成位置からウェル電圧供給セルWSC1の中央側に若干延びて設けられている。ここで、第1層配線ML103aと第1層配線ML103bとは、対向する境界線上に対向配置されている。
なお、メモリセルMC1と同様に、第2配線層からなるビット線DBが、ビット線DTと平行に設けられている。ウェル電圧供給セルWSC1内には、ビット線DBに接続された第1ビアは設けられていない。
また、第2の低電圧側電源ARVSSに接続するための第3配線層からなる電源線PS22bは、第2ビアV204bを通るように、X方向の境界線に沿って延設されている。ここで、第2ビアV204bは、第2層配線ML204b上において、ウェル電圧供給セルWSC1のコーナーに設けられている。当然のことながら、電源線PS22a、PS22bは異なる境界線上に設けられている。電源線PS22a、PS22bは、第2の低電圧側電源ARVSSに接続するためのものである。
なお、上述のメモリセルMC1〜MC4やウェル電圧供給セルWSCa〜WSCdは、セル枠(1点鎖線で示す)の中のみレイアウト構成物(ゲート、配線、コンタクト)を有するとして説明したが、セル枠を挟むレイアウト構成物を有するように構成してもよい。
セル枠が互いに接するようにこれらメモリセルMC1〜MC4やウェル電圧供給セルWSCa〜WSCdなどを配置することにより、互いにセル枠からはみ出た部分のレイアウト構成物がぴったり重なり合う場合は、実質的に問題を生じない。
図9Aに示すように、図7Aに示したウェル電圧供給セルWSC1の上側にメモリセルMC1、下側に図6に示したメモリセルMC2が配置されている。メモリセルMC1のさらに上側には、メモリセルMC2が配置されている。また、メモリセルMC2のさらに下側には、メモリセルMC1が配置されている。
上記したように、メモリセルMC1そのものがMC1の中心に対して点対称なので、MC4はMC1とMC2はMC3と同じレイアウトになる。従って、ウェル電圧供給セルWSC2の上側にはMC2が、下側にはMC1がそれぞれ隣接配置されたことと等価である。
図10は、図9BのA−A'断面図である。図11は、図9BのB−B'断面図である。図12は、図9BのC−C'断面図である。図13は、図9BのD−D'断面図である。なお、接続関係等についての詳細は上述の通りであるため、断面構成についてのみ説明する。
各ゲート電極の両側面にはサイドウォールSWが形成されている。また、各ゲート電極上にもシリサイド層SLが形成されている。さらに、各ゲート電極上には、ストッパ窒化膜NFが形成されている。
第1の方向(X方向)の軸に対して、第1のゲート電極群(例えばG1a〜G4a)と対称な配置関係にある第2のゲート電極群(例えばG1b〜G4b)を有し、アクセストランジスタ(例えばAC2b)を構成する第2のゲート電極(例えばG4b)を含む第2のSRAMセル(例えばMC1)と、
第1の方向(Y方向)に垂直な方向において、第1及び第2のSRAMセルの間に配置され、Pウェル及びNウェルに電圧を供給する第1のウェル電圧供給セル(例えばWSC1)と、を備えている。
第1のウェル電圧供給セル(例えばWSC1)は、
隣接して配置された第1のSRAMセル(例えばMC1)との境界線に対して、第1のゲート電極群と対称な配置関係にあり、第1のゲート電極(例えばG4a)に対応する第3のゲート電極(例えばG14a)を含む第3のゲート電極群(例えばG11a〜G14a)と、
隣接して配置された第2のSRAMセル(例えばMC2)との境界線に対して、第2のゲート電極群と対称な配置関係にあり、第2のゲート電極(例えばG4b)に対応する第4のゲート電極(例えばG14b)を含む第4のゲート電極群(例えばG11b〜G14b)と、
Pウェル上において、対向配置された第3のゲート電極(例えばG14a)と第4のゲート電極(例えばG14b)との間に設けられたP型不純物拡散領域(例えばD18)と、
第3のゲート電極(例えばG14a)の第1のSRAMセル側に設けられた第1のN型不純物拡散領域(例えばD19a)と、
第4のゲート電極(例えばG14b)の第2のSRAMセル側に設けられた第2のN型不純物拡散領域(例えばD19b)と、を備えている。
そのため、本実施の形態により、メモリセルの規則性を損なうことなく、多電源化可能なウェル電圧供給セルのレイアウトを提供することができる。メモリセルMCを駆動するための第2の電源電圧ARVDD、ARVSSと、ウェルに供給する第1の電源電圧VDD、VSSを分離することにより、ウェル電圧を強化してソフトエラー耐性、シングルイベントラッチアップ耐性を改善することが可能となる。また、書き込み動作、読み出し動作時に電源を制御することで書き込みマージンと読み出しマージンを向上することが可能となる。
図19は、図7Aにおいて、ウェルコンタクト用のP+イオン及びN+イオンの注入領域を狭くし、全てのゲート電極をMOS構造とすることにより、トランジスタとして機能させた場合のレイアウト図である。
図21に示した変形例では、拡散領域D17をX方向に拡大し、第1の高電圧側電源VDD用のウェルコンタクト領域を拡大している。これにより、製造ばらつき等の影響を受けずに、十分なウェルコンタクト面積をより確保しやすくなる。
次に、図22A〜22Dを参照して、第2の実施の形態に係るSRAMのウェル電圧供給セルのレイアウトについて説明する。図22Aは、第2の実施の形態に係るSRAMのウェル電圧供給セルWSC11のレイアウト図である。また、図22Bは、ウェル電圧供給セルWSC11における第1層配線のレイアウト図である。図22Cは、ウェル電圧供給セルWSC11における第2層配線のレイアウト図である。図22Dは、ウェル電圧供給セルWSC11における第3層配線のレイアウト図である。第2の実施の形態に係るウェル電圧供給セルWSC11は端部に設けられるものである。
ビット線DTに接続される第1層配線ML103aは、拡散領域コンタクトDC5aが形成されたX方向の境界線に沿って、拡散領域コンタクトDC5aの形成位置からウェル電圧供給セルWSC1の中央側に若干延びて設けられている。
なお、メモリセルMC1と同様に、第2配線層からなるビット線DBが、ビット線DTと平行に設けられている。ウェル電圧供給セルWSC11内には、ビット線DBに接続された第1ビアは設けられていない。
図24Aに示すように、図22Aに示したウェル電圧供給セルWSC11の上側にメモリセルMC1が配置されている。メモリセルMC1のさらに上側には、図6に示したメモリセルMC2が配置されている。
上記したように、メモリセルMC1そのものがMC1の中心に対して点対称なので、MC4はMC1とMC2はMC3と同じレイアウトになる。従って、ウェル電圧供給セルWSC2の上側にはMC12が、隣接配置されたことと等価である。
図25は、図24BのE−E'断面図である。図26は、図24BのF−F'断面図である。図27は、図24BのG−G'断面図である。図28は、図24BのH−H'断面図である。なお、接続関係等についての詳細は上述の通りであるため、断面構成についてのみ説明する。
各ゲート電極の両側面にはサイドウォールSWが形成されている。また、各ゲート電極上にもシリサイド層SLが形成されている。さらに、各ゲート電極上には、ストッパ窒化膜NFが形成されている。
CA メモリセルアレイ
CNT 制御回路
CSEL 列選択回路
D1a−D10a、D1b−D10b、D10a、D10b、D11、D12a、D12b、D15a、D15b、D16a、D16b、D17、D18、D19a、D19b、
D21、D22a、D25a、D26a、D27、D28、D29a、D30 拡散領域
DB ビット線
DC1a−DC8a、DC1b−DC8b、DC11、DC13、DC14a、DC14b、DC17a、DC17b、DC18、DC21、DC23、DC24a、DC27a、DC28、DC29a−DC29e 拡散領域コンタクト
DR1a、DR2a 駆動トランジスタ
DT、DB ビット線
G1a−G4a、G1b−G4b、G11a−G14a、G11b−G14b、G21a−G24a ゲート電極
GC11a、GC11b、GC12a、GC12b、GC1a、GC1b、GC21a、GC22a、GC2a ゲートコンタクト
LD1a、LD2a 負荷トランジスタ
MC、MC1−MC4 メモリセル
ML101a−ML111a、ML103b、ML106b、ML111b、ML112−ML114、ML121a、ML122−ML124、ML201a−ML204a、ML204b、ML211−ML213、ML221−ML223 層配線
NF ストッパ窒化膜
NW Nウェル
PD10、PD11、PD110、PD120、PD20、PD21 寄生ダイオード
PS1、PS21a、PS22a、PS22b、PS3−PS6 電源線
PSUB P型基板
PW Pウェル
SC1a、SC1b、SC2a、SC11a、SC11b、SC12a、SC12b、
SC21a、SC22a 共通コンタクト
SL シリサイド層
STI 素子分離層
SW サイドウォール
V101a−V108a、V111a、V111b、V112、V113、V114a、V114b、V121、V123、V124、V201a−V204a、V204b、V205−V210 ビア
WD ワードドライバ
WL ワード線
WSC、WSC1、WSC11、WSC12、WSCa−WSCd ウェル電圧供給セル
Claims (12)
- Pウェル及びNウェル上に、第1の方向に延設された第1のゲート電極群を有し、前記第1のゲート電極群にアクセストランジスタを構成する第1のゲート電極を含む第1のSRAMセルと、
前記第1の方向の軸に対して、前記第1のゲート電極群と対称な配置関係にある第2のゲート電極群を有し、前記第2のゲート電極群にアクセストランジスタを構成する第2のゲート電極を含む第2のSRAMセルと、
前記第1の方向に垂直な方向において、前記第1及び第2のSRAMセルの間に配置され、前記Pウェル及び前記Nウェルに電圧を供給する第1のウェル電圧供給セルと、を備え、
前記第1のウェル電圧供給セルは、
隣接して配置された前記第1のSRAMセルとの境界線を第1の境界線とし、各ゲート電極の位置が前記第1の境界線に対して前記第1のゲート電極群と線対称な配置関係にある第3のゲート電極群を有し、当該第3のゲート電極群が前記第1のゲート電極に対応する第3のゲート電極を含み、
隣接して配置された前記第2のSRAMセルとの境界線を第2の境界線とし、各ゲート電極の位置が前記第2の境界線に対して前記第2のゲート電極群と線対称な配置関係にある第4のゲート電極群を有し、当該第4のゲート電極群が前記第2のゲート電極に対応する第4のゲート電極を含み、
前記Pウェル上において、対向配置された前記第3のゲート電極と前記第4のゲート電極との間に設けられたP型不純物拡散領域と、
前記第3のゲート電極の前記第1のSRAMセル側に設けられた第1のN型不純物拡散領域と、
前記第4のゲート電極の前記第2のSRAMセル側に設けられた第2のN型不純物拡散領域と、を備える、半導体装置。 - 対向配置された前記第3のゲート電極と前記第4のゲート電極との間には、他のゲート電極が配置されていない請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1のN型不純物拡散領域は、前記第3のゲート電極に接するように形成され、前記第2のN型不純物拡散領域は、前記第4のゲート電極に接するように形成されている請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1のウェル電圧供給セルは、
前記Nウェル上において、前記第3のゲート電極群と第4のゲート電極群との間に設けられた第3のN型不純物拡散領域をさらに備えている請求項1に記載の半導体装置。 - 前記P型不純物拡散領域は、前記第3のゲート電極及び前記第4のゲート電極に接するように形成されている請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第3のゲート電極のP型不純物濃度が、前記第1のゲート電極のP型不純物濃度よりも高い請求項5に記載の半導体装置。
- 前記第4のゲート電極のP型不純物濃度が、前記第2のゲート電極のP型不純物濃度よりも高い請求項5に記載の半導体装置。
- 前記P型不純物拡散領域を介して前記Pウェルに供給する第1の低電圧側電源電圧が、前記第1及び第2のSRAMセル内のトランジスタを動作させるための第2の低電圧側電源電圧よりも低い請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第3のN型不純物拡散領域を介して前記Nウェルに供給する第1の高電圧側電源電圧が、前記第1及び第2のSRAMセル内のトランジスタを動作させるための第2の高電圧側電源電圧よりも高い請求項4に記載の半導体装置。
- 前記第1のウェル電圧供給セルに前記第1の方向に隣接配置された第2のウェル電圧供給セルをさらに備え、
前記第1のウェル電圧供給セルと前記第2のウェル電圧供給セルとは、境界線に対して線対称な配置関係にある請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第3のN型不純物拡散領域が、前記第1の方向に突出して形成されている請求項4に記載の半導体装置。
- 前記第3及び第4のゲート電極が、いずれも寄生ダイオードを構成する請求項4に記載の半導体装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012131409A JP5938277B2 (ja) | 2012-06-08 | 2012-06-08 | 半導体装置 |
US13/911,703 US8908420B2 (en) | 2012-06-08 | 2013-06-06 | Semiconductor device |
US14/547,850 US9053816B2 (en) | 2012-06-08 | 2014-11-19 | Semiconductor device |
US14/701,787 US9190414B2 (en) | 2012-06-08 | 2015-05-01 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012131409A JP5938277B2 (ja) | 2012-06-08 | 2012-06-08 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013258165A JP2013258165A (ja) | 2013-12-26 |
JP5938277B2 true JP5938277B2 (ja) | 2016-06-22 |
Family
ID=49715198
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012131409A Active JP5938277B2 (ja) | 2012-06-08 | 2012-06-08 | 半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US8908420B2 (ja) |
JP (1) | JP5938277B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102277334B1 (ko) * | 2014-08-22 | 2021-07-16 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 및 그 제조방법 |
US9449970B2 (en) * | 2014-08-22 | 2016-09-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor devices and methods of forming the same |
JP6316727B2 (ja) * | 2014-10-22 | 2018-04-25 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US9601497B1 (en) | 2016-04-28 | 2017-03-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Static random access memory and method of manufacturing the same |
CN107706233B (zh) * | 2016-08-08 | 2022-07-12 | 联华电子股份有限公司 | 半导体元件及其制作方法 |
CN106876383B (zh) * | 2017-01-03 | 2019-08-09 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 一种针对轰击nmos晶体管无面积开销的单粒子瞬态加固方法 |
WO2019077747A1 (ja) * | 2017-10-20 | 2019-04-25 | 株式会社ソシオネクスト | 半導体記憶回路 |
KR102518811B1 (ko) * | 2018-06-25 | 2023-04-06 | 삼성전자주식회사 | 멀티-하이트 스탠다드 셀을 포함하는 집적 회로 및 그 설계 방법 |
KR20220128040A (ko) * | 2021-03-12 | 2022-09-20 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW297158B (ja) * | 1994-05-27 | 1997-02-01 | Hitachi Ltd | |
JP4565700B2 (ja) | 1999-05-12 | 2010-10-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP2002316027A (ja) | 2001-04-19 | 2002-10-29 | Ebara Corp | ガス溶解水製造装置、およびその方法、超音波洗浄装置、およびその方法 |
JP4353393B2 (ja) * | 2001-06-05 | 2009-10-28 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路装置 |
JP2002373946A (ja) * | 2001-06-13 | 2002-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | スタティック型半導体記憶装置 |
JP3637299B2 (ja) * | 2001-10-05 | 2005-04-13 | 松下電器産業株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP4388274B2 (ja) * | 2002-12-24 | 2009-12-24 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体記憶装置 |
JP2006049784A (ja) | 2003-08-28 | 2006-02-16 | Renesas Technology Corp | 半導体記憶装置及びその製造方法 |
KR100706737B1 (ko) | 2003-08-28 | 2007-04-12 | 가부시끼가이샤 르네사스 테크놀로지 | 반도체 기억 장치 및 그 제조 방법 |
JP2006114683A (ja) * | 2004-10-14 | 2006-04-27 | Seiko Epson Corp | 半導体記憶装置 |
JP4827422B2 (ja) | 2005-03-10 | 2011-11-30 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置の設計方法と装置並びにプログラム |
FR2884034A1 (fr) * | 2005-04-01 | 2006-10-06 | St Microelectronics Sa | Dispositif de memoire sram avec remise a zero instantanee et procede correspondant de remise a zero instantanee |
CN1893085A (zh) | 2005-07-07 | 2007-01-10 | 松下电器产业株式会社 | 半导体装置及其制造方法 |
JP4564469B2 (ja) | 2005-07-07 | 2010-10-20 | パナソニック株式会社 | 半導体装置 |
JP4868934B2 (ja) * | 2006-05-11 | 2012-02-01 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP5594294B2 (ja) | 2009-12-25 | 2014-09-24 | パナソニック株式会社 | 半導体装置 |
JP5539241B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2014-07-02 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置 |
-
2012
- 2012-06-08 JP JP2012131409A patent/JP5938277B2/ja active Active
-
2013
- 2013-06-06 US US13/911,703 patent/US8908420B2/en active Active
-
2014
- 2014-11-19 US US14/547,850 patent/US9053816B2/en active Active
-
2015
- 2015-05-01 US US14/701,787 patent/US9190414B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150070977A1 (en) | 2015-03-12 |
JP2013258165A (ja) | 2013-12-26 |
US20150236025A1 (en) | 2015-08-20 |
US9053816B2 (en) | 2015-06-09 |
US9190414B2 (en) | 2015-11-17 |
US20130329487A1 (en) | 2013-12-12 |
US8908420B2 (en) | 2014-12-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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