JP5937318B2 - 磁性薄膜 - Google Patents
磁性薄膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5937318B2 JP5937318B2 JP2011190765A JP2011190765A JP5937318B2 JP 5937318 B2 JP5937318 B2 JP 5937318B2 JP 2011190765 A JP2011190765 A JP 2011190765A JP 2011190765 A JP2011190765 A JP 2011190765A JP 5937318 B2 JP5937318 B2 JP 5937318B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- electron beam
- beam irradiation
- alloy thin
- alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
実質的に薄膜の結晶構造の規則化を行うことができず、反対に、Pの添加量(含有量)が10at%を越えると、得られる合金薄膜に電子線を照射しても実質的に薄膜の結晶構造の規則化を行うことができないか、できたとしても、十分な保磁力が得られない。しかして、Pの添加量(含有量)は、好ましくは2.5〜8at%、さらに好ましくは2.5〜7at%とすることができる。また、Cuの添加量(含有量)が2at%未満の場合、保磁力がCuを添加しない場合と変わらず、逆に、Cuの添加量(含有量)が22at%を越えると、十分な保磁力が得られない。しかして、Cuの添加量(含有量)は、好ましくは2.5〜20at%、さらに好ましくは2.5〜15at%とすることができる。
有利に使用することができる。上記の如くして形成された磁性薄膜からの磁気記録媒体の製造は、例えば、非磁性基板上に軟磁性層を設けた基板を用い、その上に本発明の磁性薄膜を上記の如くして成膜し、さらにその上に、必要に応じて、保護層、潤滑層等を積層することにより行なうことができる。
Ptターゲット上に、Fe、Pt、P、Cu及びAgがほぼ下記表1に示す割合となるようにして、Fe−P焼結合金チップ、Fe−Cu−P焼結合金チップ、Cuチップ、Agチップ及び/又はAg−P焼結合金チップを載せ複合ターゲット材を作製した。また、Fe、Pt、P、Cu及びAgがほぼ下記表1に示す割合のFe−Pt−Cu−P焼結スパッタリングターゲット材及びFe−Pt−P焼結スパッタリングターゲット材を準備した。
けで基板からの剥離が確認され、その後の処理に耐えられないことから、その後の調査は実施しなかった。
Claims (5)
- 薄膜の組成が1at%より多く5at%以下のP、35〜60at%のFe及び35〜60at%のPtからなり、残りが不可避不純物であるFe−Pt系合金薄膜であって、電子線照射により薄膜の結晶構造の少なくとも一部がA1構造からL10構造に変化しうる磁性薄膜。
- 薄膜の組成が2at%より多く10at%以下のP、30〜60at%のFe、30〜60at%のPt及び2〜22at%のCuからなり、残りが不可避不純物であるFe−Pt系合金薄膜であって、電子線照射により薄膜の結晶構造の少なくとも一部がA1構造からL10構造に変化しうる磁性薄膜。
- 薄膜の組成が2at%より多く10at%以下のP、30〜60at%のFe、30〜60at%のPtならびに2〜22at%のCu及びAgからなり、残りが不可避不純物であるFe−Pt系合金薄膜であって、電子線照射により薄膜の結晶構造の少なくとも一部がA1構造からL10構造に変化しうる磁性薄膜。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の磁性薄膜であって、該薄膜の結晶構造の少なくとも一部がA1構造からL10構造に変化した磁性薄膜。
- 請求項4に記載の磁性薄膜を使用してなる磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011190765A JP5937318B2 (ja) | 2011-09-01 | 2011-09-01 | 磁性薄膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011190765A JP5937318B2 (ja) | 2011-09-01 | 2011-09-01 | 磁性薄膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013055127A JP2013055127A (ja) | 2013-03-21 |
JP5937318B2 true JP5937318B2 (ja) | 2016-06-22 |
Family
ID=48131881
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011190765A Expired - Fee Related JP5937318B2 (ja) | 2011-09-01 | 2011-09-01 | 磁性薄膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5937318B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016047236A1 (ja) * | 2014-09-22 | 2016-03-31 | Jx金属株式会社 | 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003166040A (ja) * | 2001-02-08 | 2003-06-13 | Hitachi Maxell Ltd | 金属合金微粒子及びその製造方法 |
JP2004111254A (ja) * | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Asahi Glass Co Ltd | 電子デバイスの電気的接続用金属含有組成物 |
JP4810360B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2011-11-09 | 石福金属興業株式会社 | 磁性薄膜 |
JP5062754B2 (ja) * | 2008-04-09 | 2012-10-31 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | FePtP3元合金 |
JP2010260783A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-11-18 | Tatsuhiko Aizawa | 光学素子用成形型及びその製造方法 |
-
2011
- 2011-09-01 JP JP2011190765A patent/JP5937318B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013055127A (ja) | 2013-03-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4175829B2 (ja) | 記録媒体用スパッタリングターゲットと磁気記録媒体 | |
JP5623552B2 (ja) | Fe−Pt系強磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JP5705993B2 (ja) | C粒子が分散したFe−Pt−Ag−C系スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JP6088192B2 (ja) | 圧粉磁芯の製造方法 | |
US20140083847A1 (en) | Fe-Pt-C Based Sputtering Target | |
JP4810360B2 (ja) | 磁性薄膜 | |
JP6692724B2 (ja) | 非磁性材料分散型Fe−Pt系スパッタリングターゲット | |
WO2010007980A1 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法 | |
WO2021066056A1 (ja) | 軟磁性合金および磁性部品 | |
CN113388766B (zh) | 一种锰基纳米晶/非晶复合结构合金及其制备方法 | |
JP6514654B2 (ja) | 磁気記録媒体に適した磁性膜及びその製造方法 | |
JP6094848B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体用Fe−Co系合金軟磁性膜の製造方法 | |
JP5937318B2 (ja) | 磁性薄膜 | |
TW201814738A (zh) | 軟磁性合金 | |
JP5944580B2 (ja) | スパッタリングターゲット | |
JP6744238B2 (ja) | 軟磁性粉末、磁性部品及び圧粉磁芯 | |
JP2014041682A (ja) | 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | |
JP2007081308A (ja) | 磁性薄膜 | |
JP5946922B2 (ja) | 磁性記録媒体用スパッタリングターゲット | |
JP5826945B2 (ja) | 磁性記録媒体用スパッタリングターゲット | |
WO2020031460A1 (ja) | スパッタリングターゲット、磁性膜および垂直磁気記録媒体 | |
JP2020027677A (ja) | 熱アシスト磁気記録媒体の軟磁性膜および熱アシスト磁気記録媒体の軟磁性膜形成用スパッタリングターゲット | |
JP2011181140A (ja) | 磁気記録媒体用Fe−Co系合金軟磁性膜 | |
JP2018085156A (ja) | 軟磁性膜形成用スパッタリングターゲット | |
TWI671418B (zh) | 濺鍍靶、積層膜之製造方法、積層膜及磁記錄媒體 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140502 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150304 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150414 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151014 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151029 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160413 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160512 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5937318 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |