JP2007081308A - 磁性薄膜 - Google Patents
磁性薄膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007081308A JP2007081308A JP2005270394A JP2005270394A JP2007081308A JP 2007081308 A JP2007081308 A JP 2007081308A JP 2005270394 A JP2005270394 A JP 2005270394A JP 2005270394 A JP2005270394 A JP 2005270394A JP 2007081308 A JP2007081308 A JP 2007081308A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic thin
- magnetic
- vapor deposition
- coercive force
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
【解決手段】 32.5〜65at%のPt、32.5〜65at%のFeおよび0.5〜2.5at%のInを含有する磁性薄膜。
【選択図】 なし
Description
。
方構造(fct)である規則状態に変えなければ十分な保磁力が得られず、規則状態にするに
は、通常、面心立方構造(fcc)の薄膜を熱処理する必要がある。
が重要であり、Inの添加量が0.5at%未満では、添加の効果が得られず、反対に2.5at%を越えると、得られる磁性薄膜の保磁力が却って低下する。Inの添加量は、好ましくは1.0〜2.0at%の範囲内である。
およびTaから選ばれる少なくとも1種の金属を0.01〜10at%含有するスパッタリン
グターゲット材を、それ自体既知のスパッタリング法、例えば、高周波(RF)スパッタリング法、直流(DC)スパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法などにより適当な基体上にスパッタリングし成膜することにより行うことができ、或いはまた、例えば、ベースとなるスパッタリングターゲットを作製しそして別に他の添加金属元素の1種もしくは複数種からなるバルクチップを作製し、該バルクチップを所定の組成になるようにしてベースとなるスパッタリングターゲット上に載せたり、埋め込む等することにより複合型スパッタリングターゲット材を作製し、その複合型ターゲット材を上記のようにして基体上にスパッタリングし成膜したりすることにより行うこともできる。
することもできるが、通常、不活性ガス雰囲気もしくは真空を使用することが望ましい。得られる溶融状態の上記Pt−Fe基合金を適当な型に流し込むかまたは前記原料配合物を焼結してインゴットを作製し、所定の大きさに加工することにより、スパッタリングターゲット材を作製することができる。また、スパッタリングターゲット材は、例えば、上記の如くして調製される原料配合物を型に入れ、ホットプレス法、HIP法などにより焼結することによっても作製することができる。
販されているものを使用することができ、通常、純度が99.95%以上、好ましくは99.99%以上のものが好適である。また、添加元素であるIn、Cr、Nb、Co、Ni、Taとしては、粉末状、粒状、板状、塊状等の形態で市販されているものを使用することができ、通常、純度が99.9%以上、好ましくは99.95%以上のものが好適である。
なくとも1種の金属を0.01〜10at%を含有する蒸着用材料を電子ビームなどにより
蒸発または昇華させ、基板上に付着凝固させて薄膜を作製することからなる蒸着法によって作製することができる。
実施例1
Pt−Fe (50/50at%)スパッタリングターゲット上に、Ptチップ、Feチップ、Pt−In
合金チップ、Nbチップおよび/またはCrチップを載せて複合型スパッタリングターゲット材を準備し、RFマグネトロンスパッタ装置にて、石英ガラス基板上にスパッタリングすることにより、基板上に膜厚が15〜100nmの範囲内にある合金薄膜を有する実施例用および比較例用の試料サンプルを作製した。
を用いて、薄膜の面内保磁力Hc//および垂直保磁力Hc⊥を測定した。
Claims (10)
- 32.5〜65at%のPt、32.5〜65at%のFeおよび0.5〜2.5at%のInを含有
する磁性薄膜。 - さらにCr、Nb、Co、NiおよびTaから選ばれる少なくとも1種の金属を0.01〜10at%含有する請求項1に記載の磁性薄膜。
- 請求項1または2に記載の磁性薄膜を使用してなる磁気記録媒体。
- 物理的気相成長法を用いて薄膜を形成することを特徴とする請求項1または2に記載の磁性薄膜の形成方法。
- 物理的気相成長法がスパッタリング法または蒸着法である請求項4に記載の方法。
- 形成された薄膜を500℃以上で熱処理することを特徴とする請求項4または5に記載の方法。
- 32.5〜65at%のPt、32.5〜65at%のFeおよび0.5〜2.5at%のInを含有
するスパッタリングターゲット材。 - さらにCr、Nb、Co、NiおよびTaから選ばれる少なくとも1種に金属を0.01〜10at%含有する請求項7に記載のスパッタリングターゲット材。
- 32.5〜65at%のPt、32.5〜65at%のFeおよび0.5〜2.5at%のInを含有
する蒸着用材料。 - さらにCr、Nb、Co、NiおよびTaから選ばれる少なくとも1種に金属を0.01〜10at%含有する請求項9に記載の蒸着用材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005270394A JP2007081308A (ja) | 2005-09-16 | 2005-09-16 | 磁性薄膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005270394A JP2007081308A (ja) | 2005-09-16 | 2005-09-16 | 磁性薄膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007081308A true JP2007081308A (ja) | 2007-03-29 |
Family
ID=37941253
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005270394A Pending JP2007081308A (ja) | 2005-09-16 | 2005-09-16 | 磁性薄膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007081308A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008026439A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Ishifuku Metal Industry Co., Ltd. | Film mince magnetique |
JP2011081873A (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Ulvac Japan Ltd | 垂直磁気記録媒体用記録層、垂直磁気記録媒体、及び強磁性金属膜の作製方法 |
JP2013033581A (ja) * | 2011-07-05 | 2013-02-14 | Mitsubishi Materials Corp | 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
JP2014159638A (ja) * | 2008-08-28 | 2014-09-04 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末の製造方法及び貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09306736A (ja) * | 1996-05-17 | 1997-11-28 | Res Inst Electric Magnetic Alloys | 垂直磁化膜およびその製造法ならびに 光磁気記録媒体 |
-
2005
- 2005-09-16 JP JP2005270394A patent/JP2007081308A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09306736A (ja) * | 1996-05-17 | 1997-11-28 | Res Inst Electric Magnetic Alloys | 垂直磁化膜およびその製造法ならびに 光磁気記録媒体 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008026439A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Ishifuku Metal Industry Co., Ltd. | Film mince magnetique |
JP2008060347A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Ishifuku Metal Ind Co Ltd | 磁性薄膜 |
US8158276B2 (en) | 2006-08-31 | 2012-04-17 | Ishifuku Metal Industry Co., Ltd. | FePtP-alloy magnetic thin film |
JP2014159638A (ja) * | 2008-08-28 | 2014-09-04 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末の製造方法及び貴金属粉末と酸化物粉末からなる混合粉末 |
JP2011081873A (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Ulvac Japan Ltd | 垂直磁気記録媒体用記録層、垂直磁気記録媒体、及び強磁性金属膜の作製方法 |
JP2013033581A (ja) * | 2011-07-05 | 2013-02-14 | Mitsubishi Materials Corp | 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI550114B (zh) | Fe-Pt-C系濺鍍靶 | |
JP5041262B2 (ja) | 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | |
JP5969120B2 (ja) | 磁性薄膜形成用スパッタリングターゲット | |
WO2012133166A1 (ja) | 磁気記録膜用スパッタリングターゲット | |
JP5705993B2 (ja) | C粒子が分散したFe−Pt−Ag−C系スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JP4810360B2 (ja) | 磁性薄膜 | |
JP5041261B2 (ja) | 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | |
TWI746540B (zh) | 磁性記錄媒體之晶種層用合金、濺鍍靶材以及磁性記錄媒體 | |
JP2007081308A (ja) | 磁性薄膜 | |
JP6305881B2 (ja) | 磁気記録媒体用スパッタリングターゲット | |
JP6108064B2 (ja) | 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | |
JP6094848B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体用Fe−Co系合金軟磁性膜の製造方法 | |
JP5944580B2 (ja) | スパッタリングターゲット | |
JP5946922B2 (ja) | 磁性記録媒体用スパッタリングターゲット | |
JP5826945B2 (ja) | 磁性記録媒体用スパッタリングターゲット | |
JP5937318B2 (ja) | 磁性薄膜 | |
JPWO2016157922A1 (ja) | 軟磁性膜および軟磁性膜形成用スパッタリングターゲット | |
TW202012666A (zh) | 濺射靶以及用於製造濺射靶的粉體 | |
JP2020073715A (ja) | Co−Pt−Re系スパッタリングターゲット、その製造方法及び磁気記録層 | |
JP2011081859A (ja) | 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20070704 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100308 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20100316 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100713 |