JP5927170B2 - 光ファイバ素線の製造方法 - Google Patents
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Description
まず、光ファイバ裸線7の原料となる光ファイバ母材(石英系ガラス母材)8を紡糸用加熱炉11において2000℃以上の高温に加熱して溶融させ、紡糸用加熱炉11の下部から、高温状態で光ファイバ裸線7として伸長させながら下方に引き出し、この光ファイバ裸線7を、樹脂組成物の塗布が可能となる温度まで第一の冷却装置12Aにより冷却する。
次いで、第一の塗布装置(コーティング装置)13Aにおいて、所定の温度まで冷却された光ファイバ裸線7の外周面上に第一の樹脂組成物を塗布し、第一の硬化装置14Aにおいて、この塗布された第一の樹脂組成物を、その種類に応じて加熱硬化又は光硬化等の硬化方法により硬化させて、第一の被覆層を形成する。
次いで、必要に応じて、第一の被覆層を形成した光ファイバ裸線7を第二の冷却装置12Bにより強制冷却した後、第二の塗布装置(コーティング装置)13Bにおいて、第一の被覆層上に第二の樹脂組成物を塗布し、第二の硬化装置14Bにおいて、この塗布された第二の樹脂組成物を、その種類に応じて加熱硬化又は光硬化等の硬化方法により硬化させて、第二の被覆層を形成し、被覆層が積層された光ファイバ素線6とする。得られた光ファイバ素線6は、ターンプーリ15を経て引取装置16によって所定速度で引き取られる。
かかる製造方法によれば、光ファイバ裸線の長手方向において内側被覆層及び外側被覆層の厚さの変動が抑制された光ファイバ素線が得られる。
前記熱硬化型樹脂組成物が、前記熱硬化型シリコーン樹脂組成物よりも、同じ硬化条件での硬化速度が速いことで、これら樹脂組成物を積層後に、これらの積層構造を同時に加熱した場合であっても、外側被覆層が内側被覆層よりも先に形成され、光ファイバ裸線の長手方向における内側被覆層の厚さの変動が抑制される。
また、前記その他の樹脂組成物として光硬化型樹脂組成物を用いた場合、外側被覆層又はその形成過程にある前記その他の樹脂組成物の硬化物が、熱によって損傷しないように加熱条件を調節して、前記熱硬化型シリコーン樹脂組成物を加熱硬化させ、内側被覆層を形成する必要がある。これに対して、前記その他の樹脂組成物として熱硬化型樹脂組成物を用いた場合には、このような、熱硬化型シリコーン樹脂組成物の加熱硬化時の条件の制約がないという利点を有する。
前記その他の樹脂組成物が、光硬化型樹脂組成物である場合、熱硬化型樹脂組成物である場合の上述の硬化速度の制約がないという利点を有する。
前記熱硬化型シリコーン樹脂組成物及びその他の樹脂組成物を同時に塗布することで、これら樹脂組成物間への、異物の混入が抑制される。また、光ファイバ素線の製造装置において、これら樹脂組成物の塗布装置の一体化が可能であり、光ファイバ素線の製造装置の高さを塗布装置が一体化されていない場合よりも低くできるために小型化が可能であり、また、光ファイバ素線の製造装置の高さを塗布装置が一体化されていない場合とは変えずに同等程度とした場合には、冷却能力を向上させることで光ファイバ裸線の線速度を上げることが可能となるため、光ファイバ素線の生産性の向上が可能である。
かかる製造方法によれば、前記その他の樹脂組成物を硬化させてから、前記熱硬化型シリコーン樹脂組成物を硬化させることにより、外側被覆層の形成過程にあるその他の樹脂組成物の硬化物、又はその他の樹脂組成物がすべて硬化されてなる外側被覆層が、熱硬化型シリコーン樹脂組成物が硬化する過程(内側被覆層の形成過程)において、鋳型の役割を果たし、光ファイバ裸線の長手方向において内側被覆層の厚さの変動が抑制される。外側被覆層は内側被覆層よりも厚さの変動抑制が容易であり、外側被覆層の厚さの変動も抑制することで、光ファイバ裸線の長手方向において、被覆層全体で厚さの変動が抑制される。
以下、図面を参照しながら、本発明について詳細に説明する。
ここに示す光ファイバ素線6は、光ファイバ裸線7の外周面7a上に、内側被覆層51及び外側被覆層52がこの順に積層されてなる。なお、ここでは光ファイバ素線として、二層の被覆層(内側被覆層51、外側被覆層52)を備えたものを示しているが、本発明に係る製造方法は、三層以上の被覆層を備えた光ファイバ素線の製造方法にも適用でき、その場合、内側被覆層51を第一の被覆層、外側被覆層52を第二の被覆層と称し、さらに外側の被覆層を、光ファイバ素線の径方向外側へ向けて順次、第三の被覆層、・・・等と称した場合、第一の被覆層及び第二の被覆層の積層に、本発明に係る製造方法を適用できる。
本発明においては、まず、図2(a)に示すように、光ファイバ裸線7の外周面7a上に、熱硬化型シリコーン樹脂組成物510及びその他の樹脂組成物520をこの順に重ねて塗布し、樹脂組成物の積層構造を形成する。形成直後の積層構造において、熱硬化型シリコーン樹脂組成物510及びその他の樹脂組成物520はいずれも未硬化である。
ただし、熱硬化型樹脂組成物である場合、その他の樹脂組成物520は、熱硬化型シリコーン樹脂組成物510よりも、同じ硬化条件での硬化速度が速いことが必要である。ここで、「硬化速度が速い」とは、所定の温度で加熱して形成された硬化物(その他の樹脂組成物520の場合には外側被覆層52、熱硬化型シリコーン樹脂組成物510の場合には内側被覆層51)について、そのヤング率が飽和する(ヤング率が全く又はほぼ変化しなくなる)までに要する時間が短いことを意味する。熱硬化型樹脂組成物であるその他の樹脂組成物520が、このような条件を満たすことで、後述するように、たとえ熱硬化型シリコーン樹脂組成物510及びその他の樹脂組成物520を積層後に、これらの積層構造を同時に加熱した場合であっても、外側被覆層52が内側被覆層51よりも先に形成され、光ファイバ裸線7の長手方向における内側被覆層51の厚さの変動が抑制される。
その他の樹脂組成物520の塗布時の厚さの上限値は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、例えば、35μmであれば、外側被覆層52が過剰な厚さとはならない。ただし、その他の樹脂組成物520が熱硬化型シリコーン樹脂組成物である場合には、その塗布時の厚さは30μm以下であることが好ましく、28.5μm以下であることがより好ましい。前記厚さが前記上限値以下であることで、光ファイバ裸線7の長手方向における外側被覆層52の厚さの変動抑制効果が高くなる。
ここでは、熱硬化型シリコーン樹脂組成物510は未硬化のまま、その他の樹脂組成物520をすべて硬化させて外側被覆層52を形成する場合を示しているが、次工程で硬化を開始する段階の熱硬化型シリコーン樹脂組成物の鋳型となり得る程度の強度を有していれば、必ずしもその他の樹脂組成物520をすべて硬化させる必要性はない。
ただし、その他の樹脂組成物520として光硬化型樹脂組成物を用いた場合には、熱硬化型樹脂組成物を用いた場合の、上述の硬化速度の制約がないという利点も有する。
以下、ここに示す製造装置1を用いて、図1に示す光ファイバ素線6を製造する方法について説明する。
第一の塗布装置(コーティング装置)13Aにおいて、所定の温度まで冷却された光ファイバ裸線7の外周面7a上に熱硬化型シリコーン樹脂組成物510を塗布し、さらに第二の塗布装置(コーティング装置)13Bにおいて、未硬化のままの熱硬化型シリコーン樹脂組成物510上に、その他の樹脂組成物520を塗布して、樹脂組成物の積層構造を形成する。
次いで、第一の硬化装置14Aにおいて、この積層構造を形成した光ファイバ裸線7のうち、その他の樹脂組成物520のみを、その種類に応じた方法で硬化させて、外側被覆層52の形成を開始する。
次いで、第二の硬化装置14Bにおいて、外側被覆層52又はその形成過程にあるその他の樹脂組成物520の硬化物で被覆された熱硬化型シリコーン樹脂組成物510を加熱硬化させて、外側被覆層52を形成した後に内側被覆層51を形成して、被覆層が積層された光ファイバ素線6とする。
なお、以下の実施例及び比較例で用いた熱硬化型シリコーン樹脂組成物及びその他の樹脂組成物は、それぞれ以下のとおりである。
熱硬化型シリコーン樹脂組成物:樹脂組成物(A)(パーフルオロエーテルポリマー構造を有するシリコーン樹脂の組成物、粘度(20℃)4500mPa・s、硬化物のヤング率0.8MPa、硬化速度「低」)
その他の樹脂組成物:樹脂組成物(B)(熱硬化型シリコーン樹脂組成物、粘度(20℃)1600mPa・s、硬化物のヤング率2.2MPa、硬化速度「中」)
図3に示す製造装置を用いて光ファイバ素線を製造した。
まず、光ファイバ母材(石英系ガラス母材)を直径125μmの光ファイバ裸線に紡糸し、冷却した後、15m/分の線速度で移動させながら、この光ファイバ裸線の外周面上に樹脂組成物(A)を塗布し、この樹脂組成物(A)を未硬化のまま、その上に、同じ硬化条件での硬化速度が樹脂組成物(A)よりも速い樹脂組成物(B)を塗布して、光ファイバ裸線上に樹脂組成物の積層構造を形成した。そして、この積層構造を形成した光ファイバ裸線を一つの硬化装置で同時に400℃で加熱することで、樹脂組成物(B)を加熱硬化させて外側被覆層を形成した後、樹脂組成物(A)を加熱硬化させて内側被覆層を形成し、被覆層が積層された光ファイバ素線を得た。光ファイバ素線の製造条件の要点を表1に示す。
樹脂組成物(A)及び(B)を順次塗布するのに代えて、前記第一及び第二の塗布装置が一体化された構成の装置を用いて、表1に示すように、樹脂組成物(A)及び(B)を同時に塗布した点以外は、実施例1と同じ方法で光ファイバ素線を製造した。
得られた光ファイバ素線は、内側被覆層及び外側被覆層の厚さが実施例1の場合と同様であり、光ファイバ裸線の長手方向において、内側被覆層の厚さの平均値に対する変動値は−5〜+5μmの範囲に収まっており、厚さの変動値が10μmに抑制されていた。外側被覆層の厚さも変動が抑制されていた。
従来法に従って、前記光ファイバ裸線の外周面上に樹脂組成物(A)のみを塗布し、これを加熱硬化させて単層の被覆層を形成し、光ファイバ素線を得た。樹脂組成物(A)の塗布量は、実施例1〜2の場合と同じとした。
得られた光ファイバ素線は、その長手方向において、被覆層の厚さが2.5〜62.5μmとなっており、変動値が60μmと大きくなっていた。
Claims (4)
- 光ファイバ裸線の外周面上に、熱硬化型シリコーン樹脂組成物及び前記熱硬化型シリコーン樹脂組成物以外のその他の樹脂組成物をこの順に重ねて塗布し、前記その他の樹脂組成物を硬化させてから前記熱硬化型シリコーン樹脂組成物を硬化させることにより、前記その他の樹脂組成物から外側被覆層を形成した後、前記熱硬化型シリコーン樹脂組成物から内側被覆層を形成する光ファイバ素線の製造方法において、
前記その他の樹脂組成物は、ヤング率が前記内側被覆層のヤング率の2.5倍以上である前記外側被覆層を形成するものであり、
前記その他の樹脂組成物の粘度が前記熱硬化型シリコーン樹脂組成物の粘度よりも小さいことを特徴とする光ファイバ素線の製造方法。 - 前記その他の樹脂組成物が、前記熱硬化型シリコーン樹脂組成物よりも、同じ硬化条件での硬化速度が速い熱硬化型樹脂組成物であることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ素線の製造方法。
- 前記その他の樹脂組成物が、光硬化型樹脂組成物であることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ素線の製造方法。
- 光ファイバ裸線の外周面上に、前記熱硬化型シリコーン樹脂組成物及びその他の樹脂組成物を同時に塗布することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光ファイバ素線の製造方法。
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