JP5903900B2 - 粒子存在比率算出方法及び粒子結晶サイズ算出方法 - Google Patents
粒子存在比率算出方法及び粒子結晶サイズ算出方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5903900B2 JP5903900B2 JP2012005946A JP2012005946A JP5903900B2 JP 5903900 B2 JP5903900 B2 JP 5903900B2 JP 2012005946 A JP2012005946 A JP 2012005946A JP 2012005946 A JP2012005946 A JP 2012005946A JP 5903900 B2 JP5903900 B2 JP 5903900B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction
- coarse particles
- test sample
- rocking curve
- particle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
1 概要
2 粒子存在比率算出方法
3 粒子結晶サイズ算出方法
4 実施例
本実施の形態は、X線回折によって、粗大粒子及び微細粒子を含有する被検試料中の粗大粒子の存在比率を算出する粒子存在比率算出方法を提供するものである。また、本実施の形態は、X線回折によって、粗大粒子及び微細粒子を含有する被検試料中の粗大粒子の結晶サイズを算出する粒子結晶サイズ算出方法を提供するものである。
先ず、粗大粒子及び微細粒子を含有する被検試料中の粗大粒子の存在比率を算出する粒子存在比率算出方法について詳細に説明する。
Rs=Is/Ia×100 (1)
Rs=Is/Ia×100 (1)
Rb=Ib/Ia×100 (2)
次に、X線回折によって、粗大粒子及び微細粒子を含有する被検試料中の粗大粒子の結晶サイズを算出する粒子結晶サイズ算出方法について詳細に説明する。
D[nm]=(0.9λ)/(β・cosθ) (3)
以下、本発明の実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。
所定の化合物の粗大粒子及び微細粒子が混在した被検試料(以下、「被検試料A」という。)について、次の処理を行い、粗大粒子の存在比率を算出した。すなわち、粗大粒子及び微細粒子を含む被検試料の任意の回折面におけるロッキングカーブを測定した。次に、測定されたロッキングカーブの回折強度からバックグラウンドによる回折強度を差し引いた。
Rs=Is/Ia×100 (1)
比較例1では、実施例1で用いた被検試料A及び被検試料Bについて、従来の一般的なX線回折を行った。すなわち、被検試料A及び被検試料Bについて、被検試料の傾角を0deg.で固定し、入射角と回折角とが同じ値になるように走査し、横軸を回折角[deg.]、縦軸を回折強度とした広角回折パターンを得た。そして、実施例1と同じ回折線について波形分離ソフトを用いて、被検試料の傾角0deg.での回折面における広角回折パターンの全面積強度Ia、この広角回折パターンにおける粗大粒子由来の回折線の面積強度Isを測定し、上記式(1)から被検試料中における粗大粒子の存在比率Rsを算出した。
実施例1で用いた被検試料Aについて、次の処理を行い、粗大粒子及び微細粒子それぞれの結晶サイズを算出した。すなわち、粗大粒子及び微細粒子を含有する被検試料の任意の回折面におけるロッキングカーブを測定した。
比較例2では、実施例2で用いた被検試料Aについて、従来のX線回折を行った。すなわち、被検試料Aについて、傾角を0deg.で固定し、入射角と回折角とが同じ値になるように走査し、横軸を回折角[deg.]、縦軸を回折強度とした広角回折パターンを得た。実施例2と同じ回折線について波形分離ソフトを用いて、被検試料Aの傾角0deg.での回折面における広角回折パターンを用いて、上記式(3)から、被検試料A中の粗大粒子の結晶サイズを算出した。その結果、傾角が0deg.で存在する中間的な粒子の結晶サイズ(約78nm)のみが算出され、被検試料Aに一様に存在する微細粒子の結晶サイズ、傾斜して存在する粗大粒子の結晶サイズは算出できなかった。
Claims (2)
- X線回折によって、粗大粒子及び微細粒子を含有する被検試料中の該粗大粒子の存在比率を算出する粒子存在比率算出方法であって、
前記被検試料の任意の回折面のロッキングカーブを測定し、
前記ロッキングカーブにおいて、前記粗大粒子由来の回折線が急唆な強度分布となり、又は、前記微細粒子由来の回折線が緩やかな或いは略平坦な強度分布となることにより、該粗大粒子を特定し、
前記ロッキングカーブの全面積強度に対する該ロッキングカーブにおける前記粗大粒子由来の回折線の面積強度を該粗大粒子の存在比率として算出することを特徴とする粒子存在比率算出方法。 - X線回折によって、粗大粒子及び微細粒子を含有する被検試料中の該粗大粒子の結晶サイズを算出する粒子結晶サイズ算出方法であって、
前記被検試料の任意の回折面におけるロッキングカーブを測定し、
前記ロッキングカーブにおいて、前記粗大粒子由来の回折線が急唆な強度分布となり、又は、前記微細粒子由来の回折線が緩やかな或いは略平坦な強度分布となることにより、該粗大粒子を特定し、該粗大粒子由来の回折線が検出される傾角に固定して入射X線に対する回折角と前記被検試料の試料面に対する該入射X線の入射角とを走査して前記回折面の回折パターンを取得し、
前記回折パターンにおける該粗大粒子由来の回折ピークの回折角及び半価幅を用いてシェラーの式から前記結晶サイズを算出することを特徴とする粒子結晶サイズ算出方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012005946A JP5903900B2 (ja) | 2012-01-16 | 2012-01-16 | 粒子存在比率算出方法及び粒子結晶サイズ算出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012005946A JP5903900B2 (ja) | 2012-01-16 | 2012-01-16 | 粒子存在比率算出方法及び粒子結晶サイズ算出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013145188A JP2013145188A (ja) | 2013-07-25 |
JP5903900B2 true JP5903900B2 (ja) | 2016-04-13 |
Family
ID=49041042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012005946A Active JP5903900B2 (ja) | 2012-01-16 | 2012-01-16 | 粒子存在比率算出方法及び粒子結晶サイズ算出方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5903900B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103913476B (zh) * | 2014-03-20 | 2016-08-17 | 青海师范大学 | 一种获取植物类药材粉末衍射文件的方法 |
JP6314778B2 (ja) * | 2014-10-01 | 2018-04-25 | 住友金属鉱山株式会社 | 結晶子径算出方法 |
CN105866151B (zh) * | 2016-04-22 | 2018-07-24 | 西北核技术研究所 | 一种基于能量分辨探测器的晶体摇摆曲线测量方法 |
TW202342973A (zh) * | 2022-03-07 | 2023-11-01 | 日商理學股份有限公司 | X射線繞射資料處理裝置及x射線分析裝置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6093335A (ja) * | 1983-10-27 | 1985-05-25 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 多結晶体の結晶粒子状態の検出測定装置 |
JPH095497A (ja) * | 1995-06-15 | 1997-01-10 | Hitachi Ltd | X線回折装置および酸化物分散強化型合金粉末 |
JP2000109321A (ja) * | 1998-10-05 | 2000-04-18 | Mitsubishi Materials Corp | Ito薄膜及びその製造方法 |
US6882739B2 (en) * | 2001-06-19 | 2005-04-19 | Hypernex, Inc. | Method and apparatus for rapid grain size analysis of polycrystalline materials |
JP3813512B2 (ja) * | 2002-01-07 | 2006-08-23 | 株式会社東芝 | 貼り合わせ基板の評価方法及び評価装置、半導体装置の製造方法 |
JP2007271766A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Casio Electronics Co Ltd | 非磁性一成分電子写真用トナー |
JP5201855B2 (ja) * | 2007-03-13 | 2013-06-05 | 宇部マテリアルズ株式会社 | 高分散性炭酸ストロンチウム微粉末 |
-
2012
- 2012-01-16 JP JP2012005946A patent/JP5903900B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013145188A (ja) | 2013-07-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Nolze | Image distortions in SEM and their influences on EBSD measurements | |
JP5903900B2 (ja) | 粒子存在比率算出方法及び粒子結晶サイズ算出方法 | |
JP5051295B2 (ja) | 微細構造体検査方法、微細構造体検査装置、および微細構造体検査プログラム | |
Winkelmann et al. | Improving EBSD precision by orientation refinement with full pattern matching | |
JP2011033423A (ja) | パターン形状選択方法、及びパターン測定装置 | |
Crouzier et al. | Development of a new hybrid approach combining AFM and SEM for the nanoparticle dimensional metrology | |
JP2018205247A (ja) | X線回折分析方法及びx線回折分析装置 | |
JP6004033B1 (ja) | エピタキシャルウェーハの評価方法および評価装置 | |
Mark et al. | Comparison of grain to grain orientation and stiffness mapping by spatially resolved acoustic spectroscopy and EBSD | |
Ioanid et al. | Surface changes upon high-frequency plasma treatment of heritage photographs | |
JP2014025746A (ja) | X線応力測定方法とその装置 | |
JP6314890B2 (ja) | 結晶方位の解析方法および解析装置 | |
CN106030294A (zh) | 用于标定由多晶材料制备的样品的晶体学取向的方法 | |
US7633617B2 (en) | Defective particle measuring apparatus and defective particle measuring method | |
Weyland et al. | Electron tomography | |
Liu et al. | Quantifying surface deformation around micrometer-scale indents by digital image correlation | |
JP2009097937A (ja) | 試料分析装置、試料分析方法および試料分析プログラム | |
WO2007078023A1 (en) | Characterization of three-dimensional distribution of defects by x-ray topography | |
TWI516760B (zh) | Semiconductor inspection device and inspection method using charged particle line | |
TWI675200B (zh) | 定向自組裝方法的品質評估 | |
TWI831744B (zh) | 在圖案化結構中基於x射線的測量 | |
JP5724441B2 (ja) | 光学特性評価方法及び光学素子の検査方法 | |
Omote | Direct observation of in‐plane texture in cobalt recording media by means of a laboratory‐scale x‐ray diffractometer | |
WO2021090624A1 (ja) | レーザー表面検査装置の座標位置特定精度校正方法および半導体ウェーハの評価方法 | |
JP3950074B2 (ja) | 厚さ測定方法及び厚さ測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140516 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150908 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150924 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160216 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160229 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5903900 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |