JP5900196B2 - ウェーハの片面研磨方法およびウェーハの片面研磨装置 - Google Patents
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Description
(1)研磨布の使用期間に依存した研磨能力の変化は、研磨布の表面状態の変化によるものと考えられる。具体的には、研磨布を複数回使用することにより、研磨布の反発力が下がり、また、研磨布に研磨液が溜まることから、ウェーハの外周部が削れ易くなっているものと思われる。そして、このような表面状態の変化をモニターする指標として、研磨布の接触角が適していることを見出した。
(2)外周部の研磨量は、ヘッドおよび定盤の回転速度にも依存する。そのため、研磨布の接触角を測定し、測定した接触角に基づいてヘッドおよび定盤の回転速度を調整すれば、研磨布の使用期間に依存せず、所望の外周部の研磨量を得ることができる。
本発明のウェーハの片面研磨方法は、ヘッドに固定したウェーハを、定盤の表面に設けられた研磨布に接触させて、前記ヘッドおよび前記定盤を回転させることによって前記ウェーハの片面を研磨するウェーハの片面研磨方法であって、前記研磨布の接触角を測定する工程と、予め求めた、特定のウェーハ外周形状を得るための前記研磨布の接触角と、前記ヘッドおよび前記定盤の回転速度との関係、および、測定した前記研磨布の接触角に基づいて、前記ヘッドおよび前記定盤の回転速度を決定する工程と、決定した前記回転速度で前記ヘッドおよび前記定盤を回転させて前記ウェーハの片面を研磨する工程と、を有することを特徴とする。
図1は、本発明の一実施形態にかかるウェーハの片面研磨装置100である。ウェーハの片面研磨装置100は、ウェーハ104を固定するヘッド102と、表面に研磨布112を有する定盤110と、ヘッド102および定盤110を回転させる回転機構としてのモータ108,116と、を有する。ヘッド102に固定したウェーハ104を研磨布112に接触させて、ヘッド102および定盤110を共に回転させ、ヘッド102および定盤110を相対運動させて、研磨液供給部126から研磨液128を供給しながらウェーハ104の片面を研磨する。
次に、本発明にかかるウェーハの片面研磨方法について説明する。
図2を参照して、本発明にかかるウェーハの片面研磨方法の一実施形態を説明する。まず、研磨布112の接触角の測定を行う(ステップS1)。次いで、接触角が例えば70°などの、閾値以下かを判定する。(ステップS2)。接触角が閾値以下の場合は、ステップS4へ進む。接触角が閾値超えの場合は、研磨布112の交換を行い(ステップS3)、再度ステップS1から開始する。
直径300mmの6枚のシリコンウェーハを用意し、スウェード素材の研磨布を定盤の表面に設置した、図1に示す片面研磨装置100により仕上げ研磨を行った。研磨条件は以下のとおりとした。
研磨圧力:125g/cm2
研磨時間:360秒
研磨液:アルカリ研磨液(コロイダルシリカ含有)
目標ロールオフ変化量:15nm
以下の研磨条件にて、目標のロールオフ変化量を実施例1と同様に15nmとして、直径300mmの6枚のシリコンウェーハの仕上げ研磨を行った。ヘッドおよび定盤の回転速度は15rpmで固定し、その他の研磨条件は実施例1と同様とした。
実施例では、比較例よりも6枚のウェーハ全体を通して、目標のロールオフ変化量を精度良く実現できたことがわかる。
102 ヘッド
104 ウェーハ
106 ヘッド昇降軸
108 モータ
110 定盤
112 研磨布
114 定盤回転軸
116 モータ
118 水滴供給部
120 水滴
122 接触角の測定装置
124 制御部
126 研磨液供給部
128 研磨液
Claims (5)
- ヘッドに固定したウェーハを、定盤の表面に設けられた研磨布に接触させて、前記ヘッドおよび前記定盤を回転させることによって前記ウェーハの片面を研磨するウェーハの片面研磨方法であって、
前記研磨布の接触角を測定する工程と、
予め求めた、特定のウェーハ外周形状を得るための前記研磨布の接触角と、前記ヘッドおよび前記定盤の回転速度との関係、および、測定した前記研磨布の接触角に基づいて、前記ヘッドおよび前記定盤の回転速度を決定する工程と、
決定した前記回転速度で前記ヘッドおよび前記定盤を回転させて前記ウェーハの片面を研磨する工程と、
を有することを特徴とするウェーハの片面研磨方法。 - 複数の特定のウェーハ外周形状について、前記研磨布の接触角と、前記ヘッドおよび前記定盤の回転速度との関係を予め求めておき、研磨に供するウェーハの目標のウェーハ外周形状に対応する前記関係を用いて、前記ヘッドおよび前記定盤の回転速度を決定する請求項1に記載のウェーハの片面研磨方法。
- 前記接触角を測定する前に、前記定盤を回転させて前記研磨布上の研磨液を除去する請求項1または2に記載のウェーハの片面研磨方法。
- 測定した前記接触角が閾値以下の場合、前記研磨布を用いて研磨を行い、測定した前記接触角が前記閾値超えの場合、前記研磨布を交換した後研磨を行う請求項1〜3のいずれか1項に記載のウェーハの片面研磨方法。
- ウェーハを固定するヘッドと、
表面に研磨布を有する定盤と、
前記ヘッドおよび定盤を回転させる回転機構と、
を有し、前記ヘッドに固定したウェーハを前記研磨布に接触させて、前記ヘッドおよび前記定盤を回転させることによって前記ウェーハの片面を研磨するウェーハの片面研磨装置であって、
前記研磨布の接触角を測定する測定装置と、
予め求めた、特定のウェーハ外周形状を得るための前記研磨布の接触角と、前記ヘッドおよび前記定盤の回転速度との関係、および、前記測定装置により測定された前記研磨布の接触角に基づいて、前記ヘッドおよび前記定盤の回転速度を決定し、決定した前記回転速度で前記ヘッドおよび前記定盤を回転するように前記回転機構を駆動する制御部と、
を有することを特徴とするウェーハの片面研磨装置。
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