JP5880865B2 - 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物 - Google Patents
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Description
加えて、この様な保護膜を、カラー液晶表示装置や固体撮像素子に用いられるカラーフィルタの保護膜として使用する場合には、カラーフィルタを透過する光の透過率を維持するために、高い透明性を有する膜であることが必要とされる。
特許文献5に記載の技術では、エポキシ系架橋剤を数%添加しているが、これは液晶のチルト安定性を向上させるためのものであって、ポリマー中にはエポキシ基と反応する部位がない。そのため、重合性液晶を用いた場合、やはり、偏光照射時の光二量化反応率が低いと重合性液晶塗布時にインターミキシングが生じて配向不良となるため、かなりの露光量が必要となる。
すなわち、第1観点として、(A)成分である光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物と、(B)成分であるヒドロキシ基又はカルボキシル基のいずれか一方又は双方を有するポリマーと、(C)成分である架橋剤とを含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第2観点として、前記(A)成分の光配向性基が光二量化又は光異性化する構造の官能基である、第1観点に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第3観点として、前記(A)成分の光配向性基がシンナモイル基である、第1観点又は第2観点に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第4観点として、前記(A)成分の光配向性基がアゾベンゼン構造の基である、第1観点又は第2観点に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第5観点として、前記(B)成分が、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基のうち少なくとも一方と、カルボキシル基及びフェノール性ヒドロキシ基のうち少なくとも一方とを有するアクリル重合体である、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第6観点として、前記(B)成分が、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基を有するモノマー及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基を有するモノマーのうち少なくとも一方と、カルボキシル基を有するモノマー及びフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーのうち少なくとも一方とを含むモノマーの重合反応により得られるアクリル共重合体である、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第7観点として、前記(B)成分がフェノールノボラック樹脂である、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第8観点として、前記(B)成分がシクロデキストリン又はその誘導体である、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第9観点として、前記(B)成分がカルボキシル基を有するポリエステル樹脂である、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第10観点として、前記(C)成分の架橋剤がメチロール基又はアルコキシメチロール基を有する架橋剤である、第1観点乃至第9観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第11観点として、更に、(D)成分として酸又は熱酸発生剤を含有する、第1観点乃至第10観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第12観点として、更に、(E)成分として増感剤を含有する、第1観点乃至第11観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第13観点として、前記(A)成分と前記(B)成分との比率が質量比で5:95乃至60:40である、第1観点乃至第12観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第14観点として、前記(A)成分と前記(B)成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部の前記(C)成分を含有する、第1観点乃至第13観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第15観点として、前記(A)成分と前記(B)成分との合計量の100質量部に基づいて、0.01乃至10質量部の前記(D)成分を含有する、第11観点乃至第14観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第16観点として、前記(A)成分と前記(B)成分との合計量の100質量部に基づいて、0.1乃至20質量部の前記(E)成分を含有する、第12観点乃至第15観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第17観点として、前記成分(A)、前記成分(B)及び前記成分(C)を溶解する溶剤としてグリコール系溶剤又はグリコールエステル系溶剤を更に含有することを特徴とする、第1観点乃至第16観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物に関する。
第18観点として、第1観点乃至第17観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物から形成される液晶配向層に関する。
第19観点として、第1観点乃至第17観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物を用いて得られる位相差層を備えた光デバイスに関する。
第20観点として、第1観点乃至第17観点のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物から形成されるパターン化位相差板に関する。
<(A)成分>
(A)成分は光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物である。
本発明において、光配向性基とは光二量化又は光異性化する構造部位の官能基をいう。
結合又は尿素結合を介して結合した炭素原子数1乃至18のアルキレン基、フェニレン基、ビフェニレン基又はシクロヘキシレン基を表す。その際、アルキレン基、フェニレン基及びビフェニレン基はハロゲン原子及びシアノ基から選ばれる同一又は相異なった1以上の置換基によって置換されていてもよい。
X2は水素原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル
基、ビフェニル基又はシクロヘキシル基を表す。その際、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基及びシクロヘキシル基は、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、アミノ結合又は尿素結合を介して結合してもよく、フェニル基及びビフェニル基はハロゲン原子及びシアノ基のいずれかによって置換されていてもよい。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1乃至4のアルキル基、炭素数1乃至4のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。)
(B)成分はヒドロキシ基又はカルボキシル基のいずれか一方又は双方を有するポリマー(以下、特定重合体ともいう)である。
本発明において、特定重合体としては、ヒドロキシ基又はカルボキシル基のいずれか一方又は双方を有するものであればよく、例えばアクリル重合体、フェノールノボラック樹脂、シクロデキストリン類、セルロース類、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステルなどが挙げられる。このうち、アクリル重合体としてはアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる重合体が適用されうる。
(B)成分の特定重合体の一種である炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基のうち少なくとも一方と、カルボキシル基及びフェノール性ヒドロキシ基のうち少なくとも一方とを有するアクリル重合体は、斯かる構造を有するアクリル重合体であればよく、アクリル重合体を構成する高分子の主鎖の骨格及び側鎖の種類などについて特に限定されない。
カルボキシル基及びフェノール性ヒドロキシ基のうち少なくとも一方を有する構造単位として、好ましい構造単位は下記式[B2]で表される。
前記カルボキシル基を有するモノマーとしては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ビニル安息香酸が挙げられる。
前記フェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えばp−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシスチレンが挙げられる。
他方、b2モノマーとしてフェノール性ヒドロキシ基のみを有するモノマーを用いる場合、b1モノマーが2乃至80モル%、b2モノマーが20乃至98モル%であることが好ましい。b2モノマーが過小の場合は液晶配向性が不充分となり易く、過大の場合は(A)成分の光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物との相溶性が低下し易い。
本発明の(C)成分は、(A)成分である化合物のヒドロキシ基及び(B)成分に含まれるヒドロキシ基及び/又はカルボキシル基部位と結合する架橋剤である。架橋剤としては、エポキシ化合物、メチロール化合物、及びイソシアナート化合物等の化合物が挙げられるが、好ましくはメチロール化合物である。
アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6−テトラキス(ブトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6−テトラキス(ヒドロキシメチル)グリコールウリル、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)尿素、1,1,3,3−テトラキス(ブトキシメチル)尿素、1,1,3,3−テトラキス(メトキシメチル)尿素、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)−4,5−ジヒドロキシ−2−イミダゾリノン、及び1,3−ビス(メトキシメチル)−4,5−ジメトキシ−2−イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、日本サイテックインダストリーズ(株)(旧三井サイテック(株))製グリコールウリル化合物(商品名:サイメル[登録商標]1170、パウダーリンク[登録商標]1174)等の化合物、メチル化尿素樹脂(商品名:UFR[登録商標]65)、ブチル化尿素樹脂(商品名:UFR[登録商標]300、U−VAN10S60、U−VAN10R、U−VAN11HV)、DIC(株)(旧大日本インキ化学工業(株))製尿素/ホルムアルデヒド系樹脂(高縮合型、商品名:ベッカミン[登録商標]J−300S、同P−955、同N)等が挙げられる。
本発明においては(D)成分として酸又は熱酸発生剤を含有しても良い。この(D)成分は、本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の熱硬化反応を促進させることにおいて有効である。
本発明においては(E)成分として増感剤を含有しても良い。この(E)成分は、本発明の熱硬化膜形成後の光二量化反応を促進させることにおいて有効である。
本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物は、主として溶剤に溶解した溶液状態で用いられる。その際に使用する溶剤は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分、必要に応じて(D)成分、(E)成分及び/又は、後述するその他添加剤を溶解できればよく、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。
TACフィルムを用いる場合は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1−プロパノール、ブタノール、2−メチル−1−ブタノール、2−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が、TACフィルムが耐性を示す溶剤であるという点から好ましい。
更に、本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、シランカップリング剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤等を含有することができる。
本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物は、(A)成分の化合物と、(B)成分のポリマーと、(C)成分の架橋剤とを含有し、所望により(D)成分の酸又は熱酸発生剤、(E)成分の増感剤、更にその他添加剤のうち一種以上を含有することができる組成物である。そして、通常は、それらが溶剤に溶解した溶液として用いられる。
[1]:(A)成分と(B)成分の配合比が質量比で5:95乃至60:40であり、(A)成分と(B)成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部の(C)成分を含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
[2]:(A)成分と(B)成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部の(C)成分、溶剤を含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
[3]:(A)成分と(B)成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部の(C)成分、0.01乃至5質量部の(D)成分、溶剤を含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
[4]:(A)成分と(B)成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部の(C)成分、0.01乃至5質量部の(D)成分、0.1乃至20質量部の(E)成分、溶剤を含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
本発明の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、1乃至80質量%であり、好ましくは3乃至60質量%であり、より好ましくは5乃至40質量%である。ここで、固形分とは、光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の全成分から溶剤を除いた成分をいう。
本発明の一態様である光配向性を有する熱硬化膜形成組成物の溶液を基板(例えば、シリコン/二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロムなどが被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ITO基板等)やフィルム(例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム)等の上に、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷などによって塗布し、その後、ホットプレート又はオーブン等で予備乾燥(プリベーク)することにより、塗膜を形成することができる。その後、この塗膜を加熱処理(ポストベーク)することにより、硬化膜が形成される。
偏光UVの照射方法としては、通常150乃至450nmの波長の紫外光〜可視光が用いられ、室温又は加熱した状態で垂直又は斜め方向から直線偏光を照射することによって行われる。
以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
<光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物>
CIN1:4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)けい皮酸メチルエステル
CIN2:けい皮酸6−ヒドロキシヘキシルエステル
CIN3:4−ヒドロキシけい皮酸メチルエステル
AZB1:4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)アゾベンゼン
CIN5:4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)−3−メトキシけい皮酸メチルエステル
CD:メチル化γ−シクロデキストリン(メチル置換率1.8)(25%PM溶液)
PN:フェノールノボラック樹脂(群栄化学工業(株)製、商品名:レヂトップPSM−4324)(25%PM溶液)
PM:プロピレングリコールモノメチルエーテル
<特定重合体原料>
HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
MMA:メチルメタクリレート
MAA:メタクリル酸
CHMI:N−シクロヘキシルマレイミド
CIN4:4−(6−メタクリルオキシヘキシルオキシ)けい皮酸メチルエステル
AIBN:α、α’−アゾビスイソブチロニトリル
HBPDA:ビス(3,4−ジカルボキシシクロヘキシル)二無水物
HBPA:2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン
BTEAC:ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド
<架橋剤>
HMM:ヘキサメトキシメチルメラミン
TMGU:1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル
<酸又は熱酸発生剤>
PTSA:p−トルエンスルホン酸一水和物
<増感剤>
DEAB:N,N’−ジエチルアミノベンゾフェノン
<溶剤>
CHN:シクロヘキサノン
PM:プロピレングリコールモノメチルエーテル
PMA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
CIN4 48.0g、MMA 12.0g、重合触媒としてAIBN 1.3gをCHN 166.8gに溶解し80℃にて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液(固形分濃度27質量%)を得た(P1)。得られたアクリル共重合体のMnは8,700、Mwは18,000であった。
MAA 2.5g、MMA 9.2g、HEMA 5.0g、重合触媒としてAIBN 0.2gをPM 50.7gに溶解し70℃にて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液(固形分濃度25質量%)を得た(P2)。得られたアクリル共重合体のMnは19,600、Mwは45,200であった。
MAA 3.5g、MMA 7.0g、HEMA 7.0g、重合触媒としてAIBN 0.5gをPM 53.9gに溶解し75℃にて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液(固形分濃度25質量%)を得た(P3)。得られたアクリル共重合体のMnは10,300、Mwは24,600であった。
MMA 10.5g、CHMI 7.0g、重合触媒としてAIBN 0.5gをPM 53.9gに溶解し75℃にて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液(固形分濃度25質量%)を得た(P4)。得られたアクリル共重合体のMnは13,500、Mwは28,400であった。
HBPDA 12.0g、HBPA 10.2g、BTEAC 0.22gをPMA 54.48gに溶解し125℃にて19時間反応させることによりポリエステル溶液(固形分濃度30.0質量%)を得た(P5)。得られたポリエステルのMnは1,980、Mwは3,500であった。
表1に示す組成にて実施例1乃至10及び比較例1乃至4の各組成物を調製し、それぞれについて、溶剤耐性、配向性、及び透過率の評価を行った。
また、実施例7乃至10及び比較例1乃至2の各組成物について、解像度及びTAC上パターンの評価を行った。
実施例1乃至実施例6並びに比較例1乃至比較例4の各組成物をシリコンウェハにスピンコーターを用いて塗布した後、温度80℃で120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚1.1μmの塗膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製 F20を用いて測定した。この塗膜を温度130℃で5分間ホットプレート上でポストベークを行い、膜厚1.0μmの硬化膜を形成した。
この硬化膜をCHN又はNMP中に60秒間浸漬させた後、それぞれ温度100℃にて60秒間乾燥し、膜厚を測定した。CHN又はNMP浸漬後の膜厚変化がないものを○、浸漬後に膜厚の減少が見られたものを×とした。
実施例1乃至実施例6並びに比較例1乃至比較例4の各組成物をITO基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度80℃で120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い膜厚1.1μmの塗膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製 F20を用いて測定した。この塗膜を温度130℃で5分間ホットプレート上でポストベークを行い硬化膜を形成した。
この硬化膜に300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。この基板上に液晶モノマーからなる位相差材料溶液をスピンコーターを用いて塗布した後、80℃で60秒間ホットプレート上においてプリベークを行い膜厚0.25μmの塗膜を形成した。この基板を窒素雰囲気下1000mJ/cm2で露光した。作製した基板を偏向板に挟み、配向性を示すのに必要な偏光UVの313nmでの露光量を配向感度とした。1000mJ/cm2以上で配向しないものは「配向せず」とした。
実施例1乃至実施例6並びに比較例1乃至比較例4の各組成物を石英基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度80℃で120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い膜厚1.0μmの塗膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製 F20を用いて測定した。この塗膜を温度130℃で5分間熱風循環式オーブン中でポストベークを行い硬化膜を形成した。
この硬化膜を紫外線可視分光光度計((株)島津製作所製SHIMADSU UV−2550型番)を用いて波長400nmの光に対する透過率を測定した。
以上の評価を行った結果を、次の表2に示す。
実施例7乃至実施例10並びに比較例1乃至比較例2の各組成物をシリコンウェハにスピンコーターを用いて塗布した後、温度130℃で60秒間ホットプレート上においてベークを行い、膜厚0.2μmの硬化膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製 F20を用いて測定した。
この硬化膜をCHN又はNMP中に60秒間浸漬させた後、それぞれ温度100℃にて60秒間乾燥し、膜厚を測定した。CHN又はNMP浸漬後の膜厚変化がないものを○、浸漬後に膜厚の減少が見られたものを×とした。
実施例7乃至実施例10並びに比較例1乃至比較例2の各組成物をITO基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度130℃で60秒間ホットプレート上においてベークを行い、膜厚0.2μmの硬化膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製 F20を用いて測定した。
この硬化膜に300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。この基板上に液晶モノマーからなる位相差材料溶液をスピンコーターを用いて塗布した後、80℃で60秒間ホットプレート上においてベークを行い膜厚1.0μmの塗膜を形成した。この基板を窒素雰囲気下1000mJ/cm2で露光した。作製した基板を偏向板に挟み、配向性を示すのに必要な偏光UVの313nmでの露光量を配向感度とした。1000mJ/cm2以上で配向しないものは「配向せず」とした。
実施例7乃至実施例10並びに比較例1乃至比較例2の各組成物を石英基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度130℃で60秒間ホットプレート上においてベークを行い、膜厚0.2μmの硬化膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製 F20を用いて測定した。
この硬化膜を紫外線可視分光光度計((株)島津製作所製SHIMADSU UV−2550型番)を用いて波長400nmの光に対する透過率を測定した。
実施例7乃至実施例10並びに比較例1乃至比較例2の各組成物をガラス基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度130℃で60秒間ホットプレート上においてベークを行い、膜厚0.2μmの硬化膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製 F20を用いて測定した。
この硬化膜に10μm、15μm、30μm、100μm、300μmのライン&スペースパターンからなるフォトマスクを介し+45度の方向の300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。続いてフォトマスクを取り除き−45度の方向の300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。照射量は1回目の露光は配向感度の2倍、2回目の露光は配向感度と同じ露光量とした。この基板上に液晶モノマーからなる位相差材料溶液をスピンコーターを用いて塗布した後、80℃で60秒間ホットプレート上においてベークを行い膜厚1.0μmの塗膜を形成した。この基板を窒素雰囲気下1000mJ/cm2で露光した。作製した基板を直交した偏向板に挟み、全てのラインが欠陥なく配向している最小の線幅を解像度とした。
実施例7乃至実施例10並びに比較例1乃至比較例2の各組成物をTACフィルム上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度130℃で60秒間ホットプレート上においてベークを行い、膜厚0.2μmの硬化膜を形成した。膜厚はFILMETRICS社製 F20を用いて測定した。
この硬化膜に100μmのライン&スペースパターンからなるフォトマスクを介し+45度の方向の300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。続いてフォトマスクを取り除き−45度の方向の300乃至400nmの直線偏光を垂直に照射した。照射量は1回目の露光は配向感度の2倍、2回目の露光は配向感度と同じ露光量とした。この基板上に液晶モノマーからなる位相差材料溶液をスピンコーターを用いて塗布した後、80℃で60秒間ホットプレート上においてベークを行い膜厚1.0μmの塗膜を形成した。この基板を窒素雰囲気下1000mJ/cm2で露光した。作製した基板を直交した偏向板に挟み、全てのラインが欠陥なく配向しているものを○、配向欠陥の見られるものを×とした。
以上の評価を行った結果を、次の表3に示す。
Claims (17)
- (A)成分である光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物と、(B)成分であるヒドロキシ基又はカルボキシル基のいずれか一方又は双方を有するポリマーと、(C)成分である架橋剤とを含有する光配向性を有する熱硬化膜形成組成物であって、
前記(A)成分である光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物が下記式で表される少なくとも1種の化合物である、熱硬化膜形成組成物。
X1は単結合を表すか、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、アミノ結合又は尿
素結合を介して結合した炭素原子数1乃至18のアルキレン基、フェニレン基、ビフェニレン基又はシクロヘキシレン基を表し、前記アルキレン基、フェニレン基及びビフェニレン基はハロゲン原子及びシアノ基から選ばれる同一又は相異なった1以上の置換基によって置換されていてもよく、
X2は水素原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル
基、ビフェニル基又はシクロヘキシル基を表し、前記炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基及びシクロヘキシル基は、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、アミノ結合又は尿素結合を介して結合してもよく、また、フェニル基及びビフェニル基はハロゲン原子及びシアノ基のいずれかによって置換されていてもよく、
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1
乃至4のアルキル基、炭素数1乃至4のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。)
- 前記(B)成分が、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基のうち少なくとも一方と、カルボキシル基及びフェノール性ヒドロキシ基のうち少なくとも一方とを有するアクリル重合体である、請求項1に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 前記(B)成分が、炭素原子数2乃至5のアルキルエステル基を有するモノマー及び炭素原子数2乃至5のヒドロキシアルキルエステル基を有するモノマーのうち少なくとも一方と、カルボキシル基を有するモノマー及びフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーのうち少なくとも一方とを含むモノマーの重合反応により得られるアクリル共重合体である、請求項1に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 前記(B)成分がフェノールノボラック樹脂である、請求項1に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 前記(B)成分がシクロデキストリン又はその誘導体である、請求項1に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 前記(B)成分がカルボキシル基を有するポリエステル樹脂である、請求項1に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 前記(C)成分の架橋剤がメチロール基又はアルコキシメチロール基を有する架橋剤である、請求項1乃至請求項6のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 更に、(D)成分として酸又は熱酸発生剤を含有する、請求項1乃至請求項7のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 更に、(E)成分として増感剤を含有する、請求項1乃至請求項8のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 前記(A)成分と前記(B)成分との比率が質量比で5:95乃至60:40である、請求項1乃至請求項9のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 前記(A)成分と前記(B)成分との合計量の100質量部に基づいて、10乃至100質量部の前記(C)成分を含有する、請求項1乃至請求項10のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 前記(A)成分と前記(B)成分との合計量の100質量部に基づいて、0.01乃至10質量部の前記(D)成分を含有する、請求項8乃至請求項11のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 前記(A)成分と前記(B)成分との合計量の100質量部に基づいて、0.1乃至20質量部の前記(E)成分を含有する、請求項9乃至請求項12のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 前記成分(A)、前記成分(B)及び前記成分(C)を溶解する溶剤としてグリコール系溶剤又はグリコールエステル系溶剤を更に含有することを特徴とする、請求項1乃至請求項13のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。
- 請求項1乃至請求項14のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物から形成される液晶配向層。
- 請求項1乃至請求項14のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物を用いて得られる位相差層を備えた光デバイス。
- 請求項1乃至請求項14のうちいずれか一項に記載の光配向性を有する熱硬化膜形成組成物から形成されるパターン化位相差板。
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