JP5872952B2 - ガスバリア性積層ポリイミドフィルム、機能性薄膜層積層ガスバリア性積層ポリイミドフィルム、ディスプレイ及び太陽電池 - Google Patents
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Description
また、本発明2は、ポリイミドフィルム(1)の100℃から200℃での熱線膨張係数が0〜9ppm/℃である本発明1に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルムである。
また、本発明3は、ポリイミドフィルム(1)がアルコキシ基含有シラン変性ブロック共重合型ポリアミック酸(b)を熱硬化して得られるブロック共重合ポリイミド−シリカハイブリッドフィルムである本発明1または2に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルムである。
また、本発明4は、アルコキシ基含有シラン変性ブロック共重合型ポリアミック酸(b)を構成するジアミンの30〜100モル%がp−フェニレンジアミンである本発明3に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルムである。
また、本発明5は、アルコキシ基含有シラン変性ブロック共重合型ポリアミック酸(b)を構成するジアミンの60〜100モル%がp−フェニレンジアミンである本発明4に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルムである。
また、本発明6は、前記ガラスペーストは、乾燥時の25℃〜350℃における熱線膨張係数が3〜15ppm/℃であることを特徴とする本発明1乃至本発明5のいずれか1項に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルムである。
また、本発明7は、本発明1乃至本発明6のいずれか1項に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム上に、更にポリアミック酸ワニス(3)を塗布、硬化することを特徴とするガスバリア性積層ポリイミドフィルムである。
また、本発明8は、本発明1乃至本発明6のいずれか1項に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルムの、ガスバリア層(2)が積層されている面とは反対側のポリイミドフィルム(1)面又はガスバリア層(2)面上に更にポリアミック酸ワニス(3)を塗布、硬化して形成されたポリイミドフィルム面に、厚さ0.01μm〜10μmの機能性薄膜層が積層されている機能性薄膜層積層ガスバリア性積層ポリイミドフィルムである。
また、本発明9は、本発明1乃至本発明7のいずれか1項に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム又は本発明8に記載の機能性薄膜層積層ガスバリア性積層ポリイミドフィルムを用いて得られたディスプレイである。
また、本発明10は、本発明1乃至本発明7のいずれか1項に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム又は本発明8に記載の機能性薄膜層積層ガスバリア性積層ポリイミドフィルムを用いて得られた太陽電池である。
αテルピネオールとブチルカルビトールアセテートとエチルセルロースとからなる混合溶剤20質量%、ガラス粉末60質量%、及びセラミックフィラー20質量%、を混合し、粘度100Pa・sのガラスペーストを調製した。調製したガラスペーストの硬化膜の熱線膨張係数は4.8ppm/℃であった。
αテルピネオールとブチルカルビトールアセテートとエチルセルロースとからなる混合溶剤33質量%、ガラス粉末67質量%を混合し、粘度10Pa・sのガラスペーストを調製した。調製したガラスペーストの硬化膜の熱線膨張係数は11ppm/℃であった。
ブロック共重合ポリイミド−シリカハイブリッドフィルム(荒川化学工業(株)製 商品名 ポミランT25 ジアミン成分中のp-フェニレンジアミンのモル%=80%、熱線膨張係数=4ppm、貯蔵弾性率=9.3GPa、膜厚25μm)上に、調製したガラスペーストを塗布、120℃で3分乾燥後、420℃で15分硬化させ、硬化膜厚30μmのガスバリア性積層ポリイミドフィルムを作製した。得られたガスバリア性積層ポリイミドフィルムの熱線膨脹係数は5ppm/℃であった。
ブロック共重合ポリイミド−シリカハイブリッドフィルム(荒川化学工業(株)製 商品名 ポミランT25 ジアミン成分中のp-フェニレンジアミンのモル%=80%、熱線膨張係数=4ppm、貯蔵弾性率=9.3GPa、膜厚25μm)上に、調整例1で調製したガラスペーストを塗布、120℃で3分乾燥後、ポリアミック酸ワニス(3)を塗布、120℃で3分乾燥後、420℃で15分硬化させ、硬化膜厚50μmのガスバリア性積層ポリイミドフィルムを作製した。得られたガスバリア性積層ポリイミドフィルムの熱線膨脹係数は5ppm/℃であった。
ブロック共重合ポリイミド−シリカハイブリッドフィルム(荒川化学工業(株)製 商品名 ポミランT25 ジアミン成分中のp-フェニレンジアミンのモル%=80%、熱線膨張係数=4ppm、貯蔵弾性率=9.3GPa、膜厚25μm)上に、調整例2で調製したガラスペーストを塗布、120℃で3分乾燥後、ポリアミック酸ワニス(3)を塗布、120℃で3分乾燥後、420℃で15分硬化させ、硬化膜厚50μmのガスバリア性積層ポリイミドフィルムを作製した。得られたガスバリア性積層ポリイミドフィルムの熱線膨脹係数は8ppm/℃であった。
ブロック共重合ポリイミド−シリカハイブリッドフィルム(荒川化学工業(株)製 商品名 ポミランN25 ジアミン成分中のp-フェニレンジアミンのモル%=40%、熱線膨張係数=19ppm、貯蔵弾性率=5.9GPa、膜厚25μm)上に、調整例2で調製したガラスペーストを塗布、120℃で3分乾燥後、420℃で15分硬化させ、硬化膜厚30μmのガスバリア性積層ポリイミドフィルムを作製した。得られたガスバリア性積層ポリイミドフィルムの熱線膨脹係数は17ppm/℃であった。
ブロック共重合ポリイミド−シリカハイブリッドフィルム(荒川化学工業(株)製 商品名 ポミランN25 ジアミン成分中のp-フェニレンジアミンのモル%=40%、熱線膨張係数=19ppm、貯蔵弾性率=5.9GPa、膜厚25μm)上に、調整例2で調製したガラスペーストを塗布、120℃で3分乾燥後、ポリアミック酸ワニス(3)を塗布、120℃で3分乾燥後、420℃で15分硬化させ、硬化膜厚40μmのガスバリア性積層ポリイミドフィルムを作製した。得られたガスバリア性積層ポリイミドフィルムの熱線膨脹係数は19ppm/℃であった。
市販のポリイミドフィルム(宇部興産(株)製 商品名 ユーピレックスS−25、熱線膨張係数=12ppm、貯蔵弾性率=9.1GPa、膜厚25μm)上に、調整例2で調製したガラスペーストを塗布、120℃で3分乾燥後、ポリアミック酸ワニス(3)を塗布、120℃で3分乾燥後、420℃で15分硬化させ、硬化膜厚30μmのガスバリア性積層ポリイミドフィルムを作製した。得られたガスバリア性積層ポリイミドフィルムの熱線膨脹係数は12ppm/℃であった。
実施例1で得られたガスバリア性積層ポリイミドフィルムに真空蒸着法でITO薄膜を形成した。ITO薄膜の抵抗率は10−4Ω・cmであった。
実施例5で得られたガスバリア性積層ポリイミドフィルムに真空蒸着法でITO薄膜を形成した。ITO薄膜の抵抗率は10−4Ω・cmであった。
市販のポリイミドフィルム(東レデュポンフィルム製 商品名 カプトンH、ジアミン成分中のp-フェニレンジアミンのモル%=0%、熱線膨張係数=43ppm、弾性率=3.5GPa、膜厚25μm)に調整例1で調製したガラスペーストを塗布、120℃で3分乾燥後、420℃で15分硬化させ、硬化膜厚30μmのガスバリア性積層ポリイミドフィルムを作製した。得られたガスバリア性積層ポリイミドフィルムの熱線膨脹係数は41ppm/℃であった。
市販のポリイミドフィルム(東レデュポンフィルム製 商品名 カプトンH、ジアミン成分中のp-フェニレンジアミンのモル%=0%、熱線膨張係数=43ppm、弾性率=3.5GPa、膜厚25μm)に調整例1で調製したガラスペーストを塗布、120℃で3分乾燥後、ポリアミック酸ワニス(3)を塗布、120℃で3分乾燥後、420℃で15分硬化させ、硬化膜厚50μmのガスバリア性積層ポリイミドフィルムを作製した。得られたガスバリア性積層ポリイミドフィルムの熱線膨脹係数は41ppm/℃であった。
ガスバリア性積層ポリイミドフィルムの酸素透過度は、JIS K 7126のB法に準じ、また、水蒸気透過度は、JIS K 7129のB法に準じ、それぞれ測定した。測定結果を表1に示す。
テープ剥離試験によりガスバリア層(2)の密着性を評価した。JIS K 5600−5−6に記載の方法で試験した。測定結果を表1に示す。
ガスバリア性積層ポリイミドフィルムの反りは、100mm角に切り出したガスバリア性積層ポリイミドフィルムを平板上に置き、4角の浮き上がり高さを測定することで評価した。高さが5mm以下で反り無し、高さが5〜10mmで反り少し、高さが10mm以上でカール大とした。測定結果を表1に示す。
顕微鏡観察によりガスバリア層(2)のピンホール、クラックを評価した。100mm角に切り出したガスバリア性積層ポリイミドフィルムを20倍の倍率で観察して目視で評価した。測定結果を表1に示す。
Claims (10)
- 100℃から200℃での熱線膨張係数が0〜23ppm/℃であるポリイミドフィルム(1)の一方の表面上に、ガスバリア層(2)を積層してなるガスバリア性積層ポリイミドフィルムにおいて、前記ガスバリア層(2)はガラスペーストを塗布、焼成することで得られることを特徴とするガスバリア性積層ポリイミドフィルム。
- ポリイミドフィルム(1)の100℃から200℃での熱線膨張係数が0〜9ppm/℃である請求項1に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム。
- ポリイミドフィルム(1)がアルコキシ基含有シラン変性ブロック共重合型ポリアミック酸(b)を熱硬化して得られるブロック共重合ポリイミド−シリカハイブリッドフィルムである請求項1または2に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム。
- アルコキシ基含有シラン変性ブロック共重合型ポリアミック酸(b)を構成するジアミンの30〜100モル%がp−フェニレンジアミンである請求項3に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム。
- アルコキシ基含有シラン変性ブロック共重合型ポリアミック酸(b)を構成するジアミンの60〜100モル%がp−フェニレンジアミンである請求項4に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム。
- 前記ガラスペーストは、乾燥時の25℃〜350℃における熱線膨張係数が3〜15ppm/℃であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム上に、更にポリアミック酸ワニス(3)を塗布、硬化することを特徴とするガスバリア性積層ポリイミドフィルム。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルムの、ガスバリア層(2)が積層されている面とは反対側のポリイミドフィルム(1)面又はガスバリア層(2)面上に更にポリアミック酸ワニス(3)を塗布、硬化して形成されたポリイミドフィルム面に、厚さ0.01μm〜10μmの機能性薄膜層が積層されている機能性薄膜層積層ガスバリア性積層ポリイミドフィルム。
- 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム又は請求項8に記載の機能性薄膜層積層ガスバリア性積層ポリイミドフィルムを用いて得られた情報表示装置。
- 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のガスバリア性積層ポリイミドフィルム又は請求項8に記載の機能性薄膜層積層ガスバリア性積層ポリイミドフィルムを用いて得られた太陽電池。
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