JP5863588B2 - ヘリウムガスの回収方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、ヘリウムガスは窒素ガスに比べて高価であるため、作動ガスの使用量が多いコールドスプレー法による表面処理では、ヘリウムガスの使用は敬遠されている。
また、窒素と比較してヘリウムガスは比重が軽いため、ブースの頂部から該混合ガスを回収することで、ヘリウムの割合の高い混合ガスを回収することが可能となる。
このため、回収した該混合ガスから窒素を除去することで、純度の高いヘリウムガスを回収(取得)することができる。
図1を参照するに、本実施形態に用いるヘリウム回収システム10は、コールドスプレー装置本体20と、皮膜形成・ヘリウム回収用ブース(ブース、以下の説明においても単に「ブース」と記載する)31と、ヘリウム精製装置50と、ヘリウム貯蔵部80と、を備えて、概略構成されている。
コールドスプレーガン23は、加熱されたヘリウムガス(所定温度に加熱する機構(図示略))と、図示しない原料粉末供給部から供給される原料粉末と、を所定時間以上接触させる構造を有する。
基材Pとノズル23Aの先端23aとの距離は、先端23aから噴出された原料粉末によって基材Pに皮膜Cが形成されるための最適条件を勘案して設定される。したがって、ノズル23Aの先端23aから噴出された原料粉末により、基材Pに皮膜Cが形成される。このとき、ヘリウムガスを主体とし、かつ窒素を含む混合ガスが発生する。
ブース31内の空間38は、コールドスプレー処理領域38Aと、ガス回収領域38Bと、を有する。
ガス回収領域38Bには、混合ガスが貯留される。
窒素ガス供給管32a,32bは、一端がブース31の下部31Bに貫設されるとともに、他端がコールドスプレー処理領域38Aに位置するように、コールドスプレー処理領域38Aに突出して設けられている。窒素ガス供給管32a,32bの一端は、図示しない窒素供給装置に接続されている。窒素供給装置から窒素ガス供給管32a,32bを介してブース31内に供給される窒素ガスにより、ブース31内に存在する大気が窒素に置換される。このように、ブース31の下部31Bから窒素を導入することにより、ヘリウムの割合の高い混合ガスを頂部31aに集めることができる。
皮膜形成後にコールドスプレー処理領域38Aに残存する混合ガスは、集塵ラインL2の一端L2aから集塵ラインL2に導入される。混合ガスには、基材Pに皮膜Cを形成した際に発生するダストが含まれる。
集塵ラインL2に導かれた混合ガスに含まれるダストは、集塵機34で回収される。これにより、ダストを除去した混合ガスのみを、集塵ラインL2の他端L2bからガス回収領域38Bに戻すことができる。集塵機34の流量は、例えば10Nm3/分とされる。
また、集塵機34を設けることで、ブース31から混合ガスを回収する前に混合ガス中のダストを除去することができる。
回収ラインL1には、混合ガスおよび精製されたヘリウムガスの圧力等に耐え得る配管を用いる。
なお、混合ガス回収容器45内の窒素濃度が10%超えているときは、後段のヘリウム精製装置50にて精製されたヘリウムの一部を混合ガス回収容器45内に供給し、窒素濃度が10%以下になるようなシステムとすることも可能である。
なお、ヘリウム精製装置50は、圧力変動吸着装置に限らず、深冷分離法、あるいは膜分離法等の各種分離法を用いる装置で構成してもよい。
ヘリウム精製装置50は、2つの吸着塔53X,53Yと、バッファタンク55と、第3ポンプ52と、減圧弁62aと、開閉弁62b,62c,62d,62e,62f,62g,62h,62i,62j,62k,62l,62m,62nと、酸素除去装置68と、を有する。これらの各構成要素間は、導管61により接続されている。
本発明のヘリウムガスの回収方法では、回収ラインL1に回収した混合ガスのうち、ヘリウム以外は殆ど窒素であるため、窒素以外の不純物を除去するための吸着塔は不要になり、ヘリウム精製装置50における吸着塔の容積の大型化が回避される。
このように、2つの吸着塔53X,53Yが交互に用いられることにより、混合ガス中の窒素が除去され、高純度のヘリウムガスが精製される。
ヘリウム精製装置50には、図示略の制御部が設けられる場合がある。制御部は、図示しない圧力計測器や流量計等の情報を受けてヘリウム精製装置50全体の稼動と、減圧弁62a、開閉弁62b,62c,62d,62e,62f,62g,62h,62i,62j,62l,62m,62nの開閉操作と、周辺機器類の制御を行う。
また、酸素除去塔72には、酸素除去触媒が充填されている。酸素除去触媒としては、例えばPd触媒、Pt触媒が用いられる。酸素濃度が0.1%より高い場合は、酸素が反応できる最少量の水素が74b、74eを介して酸素除去塔72に供給される。これにより、酸素除去触媒の充填された酸素除去塔72で反応が起こり、酸素が水分に転換される。変換された水分は第2ポンプ70で昇圧されてから冷却されることにより、ドレイン水となって除去される。
酸素が除去された高純度のヘリウムガスは、導管61及び回収ラインL1を介して、ヘリウム貯蔵部80の第2ポンプ70に輸送される。
例えば図1では、4つの容器75a,75b,75c,75dが並列に接続されているヘリウム回収容器75を示しているが、この形態に限定されず、ヘリウム回収容器75は単数あるいは複数の容器から構成される。
なお、ヘリウム回収容器75に貯蔵されたヘリウムガスは、必ずしもコールドスプレー装置本体20に使用されなくてもよく、他の用途に使用してもよい。
このようにフィルタが設置されることにより、コールドスプレー処理領域38Aに散在する原料粉末のガス回収領域38Bへの移動が阻止される。また、フィルタの設置により、コールドスプレー処理領域38Aから導入され、集塵ラインL2を通ってガス回収領域38Bに輸送された混合ガスが、フィルタを通ってコールドスプレー処理領域38Aに戻るため、ブース31内の混合ガスの流れが円滑になる。
次に、窒素供給部32の窒素ガス供給管32a,32bにより窒素を供給することで、ブース31内(具体的には、空間38に存在する大気)を窒素で置換する。
続いて、コールドスプレー装置本体20を作動させ、基材Pに超音流速とされたヘリウムガスにより、コールドスプレーガン23のノズル23Aの先端23aから原料粉末を固相状態のまま噴出させる。噴出させた原料粉末により、基材Pに皮膜Cを形成する。
皮膜形成中及び皮膜形成後、第1ポンプ40により、頂部31aからガス回収領域38Bに集まった混合ガスを回収ラインL1内に回収する。このとき、第1ポンプ40の流量は、コールドスプレーノズルから噴射されるガスと同じ流量にすることが好ましく、例えば3Nm3/分とする。
続いて、吸着塔53Xに供給した混合ガスから、窒素を除去する。このとき、混合ガス中の窒素濃度が10%以下になるようにする。
以後2つの吸着塔53X,53Yを交互に用いて窒素吸着−除去の操作を繰り返すことで、連続的に高純度のヘリウムガスを精製する。窒素除去後のヘリウムガスはバッファタンク55に一次収容される。
したがって、窒素以外の不純物ガスを除去する除去装置を設ける必要がなくなるため、ヘリウム回収システム10の小型化を図ることができる。
窒素除去後のヘリウムガスの酸素濃度が0.1%以上の場合、酸素除去触媒により、ヘリウムガス中の酸素が除去されるため、結果として、窒素濃度1%以下、かつ酸素濃度0.01%以下のヘリウムガスを回収することができる。
Claims (7)
- 気密にされたブース内で、コールドスプレー法により基材への皮膜を形成する際に使用するヘリウムガスの回収方法であって、
前記気密にされたブース内を窒素ガスで置換する工程と、
置換後に、前記基材に皮膜を形成する工程と、
当該ブース内のヘリウムガスと窒素ガスを含む混合ガスを取り出して、ブース外に設けられた混合ガス回収容器に収容する工程と、
当該混合ガス回収容器に収容した混合ガスから窒素を分離し、ヘリウムガスを主成分とするガスに精製する工程と、
を有することを特徴とするヘリウムガスの回収方法。 - ブース内を窒素ガスで置換した後、次いでヘリウムガスで置換して前記基材に皮膜を形成することを特徴とする請求項1記載のヘリウムガスの回収方法。
- 前記混合ガス回収容器内の窒素ガス濃度が10%以下となるように分離・精製工程実施時の前記混合ガスの供給を調整することを特徴とする請求項1または請求項2記載のヘリウムガスの回収方法。
- 前記混合ガスから窒素を分離し精製したヘリウムを主成分とするガスを昇圧した後、ヘリウム回収容器に貯蔵する工程を有する請求項1乃至3のいずれか1項記載のヘリウムガスの回収方法。
- 前記基材に皮膜を形成する際に発生するダストを除去した後、前記ブース内の前記混合ガスを前記混合ガス回収容器に取り出すことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載のヘリウムガスの回収方法。
- 前記ブースの頂部から前記混合ガスを取り出すことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のヘリウムガスの回収方法。
- 前記皮膜の形成中及び形成後のいずれか、もしくは両方において、前記ブース内の前記混合ガスを前記混合ガス回収容器に取り出すことを特徴とする請求項1または請求項2記載のヘリウムガスの回収方法。
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