JP5856760B2 - 表示装置及び表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
に関する。
以下、図8乃至図10を参照して、本発明の第1の実施形態に係る表示装置の端子部の製造工程について、説明する。
以下、図11を参照して、本発明の第2の実施形態に係る表示装置100の端子部101eの製造工程について説明する。なお、上述した第1の実施形態に係る表示装置100の端子部101eの製造工程と同様の工程については説明を省略する。
以下、図12を参照して、本発明の第3の実施形態に係る表示装置100の端子部101eの製造工程について説明する。なお、上述した第1の実施形態に係る表示装置100の端子部101eの製造工程と同様の工程については説明を省略する。
以下、図13を参照して、本発明の第4の実施形態に係る表示装置100の端子部101eの製造工程について説明する。なお、上述した第1の実施形態に係る表示装置100の端子部101eの製造工程と同様の工程については説明を省略する。
上述の第1乃至第4の実施形態においては、第2絶縁膜104(104aも含む)が、端子102の近傍から表示部側まで延在して形成されているが、シール材108から表示部側の領域においては、第2絶縁膜104を形成しない構成にしてもよい。シール材108から表示部側の領域にの第2絶縁膜104を除去する工程を含むようにしてもよい。このような構成においても、TFT基板の表面を保護する絶縁膜の膜減りを抑制しつつ、端子上の絶縁膜を除去することができる。
101 基板
102 端子
103 第1絶縁膜
104 第2絶縁膜
105 第3絶縁膜
108 シール材
109 対向基板
101a 表示部
101b、101c データドライバ
101d ゲートドライバ
101e 端子部
120 コントローラ
122 バックライト
200 画素
202 MEMSシャッター
204 スイッチング素子
206 保持容量
210 シャッター
212、214 開口部
216、218、220、222 第1バネ
224、226、228、230 第2バネ
232、234、236、238、240、242 アンカー部
Claims (11)
- 基板上に配置された複数のデータ線と複数のゲート線との交点のそれぞれに対応して配置される複数の画素と、
前記基板上に配置された第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜の上層に前記第1絶縁膜の少なくとも一部と接して配置され、前記第1絶縁膜とは異なる材質の膜である第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜上に前記複数の画素のそれぞれに対応して配置され、側部に第3絶縁膜が配置される複数のMEMSシャッターと、
前記複数のゲート線及び前記複数のデータ線に電位を供給する複数の端子であって、前記複数の端子の上部に配置された前記第1絶縁膜及び前記第2絶縁膜の開口部から前記電位の供給を受ける前記複数の端子と、を含み、
前記第2絶縁膜は、前記第1絶縁膜及び前記第3絶縁膜とは異なるエッチングレートを有することを特徴とする表示装置。 - 前記MEMSシャッターは、開口部を有するシャッター、前記シャッターに接続された第1バネ、前記第1バネに接続された第1アンカー、第2バネ、及び前記第2バネに接続された第2アンカーを有し、
前記第1アンカーと前記第2アンカーとの電位差によって、前記第1バネと前記第2バネとが静電駆動されることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 前記MEMSシャッターは、前記MEMSシャッターのそれぞれに対応して接続されるスイッチング素子を有し、
前記第1アンカーと前記第2アンカーとの電位差は、前記スイッチング素子によって供給されることを特徴とする請求項2に記載の表示装置。 - 前記基板と接合される光透過部を有する対向基板と、
前記対向基板と対向して配置されるバックライトと、をさらに含み、
前記シャッターの前記開口部と、前記対向基板の前記光透過部との重なる部分から前記バックライトから供給される光を透過させることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の表示装置。 - 基板上に複数のスイッチング素子及び複数の端子を形成し、
前記複数のスイッチング素子及び前記複数の端子上に第1絶縁膜を形成し、
前記複数の端子上の前記第1絶縁膜をエッチングして前記複数の端子の一部を露出させ、
前記第1絶縁膜上に、前記第1絶縁膜とは異なる材質の膜である第2絶縁膜を形成し、
前記複数の端子上の前記第2絶縁膜をエッチングして前記複数の端子の一部を露出させ、
前記第2絶縁膜上に、前記複数のスイッチング素子によってそれぞれ駆動され、開口部を有するシャッター、前記シャッターに接続された第1バネ、前記第1バネに接続された第1アンカー、第2バネ、及び前記第2バネに接続された第2アンカーを有する複数のMEMSシャッターを形成し、
前記複数のMEMSシャッター及び前記複数の端子上に第3絶縁膜を形成し、
前記複数の端子上の前記第3絶縁膜をエッチングして前記複数の端子の一部を露出させることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 基板上に複数のスイッチング素子及び複数の端子を形成し、
前記複数のスイッチング素子及び前記複数の端子上に第1絶縁膜を形成し、
前記第1絶縁膜上に、前記第1絶縁膜とは異なる材質の膜である第2絶縁膜を形成し、
前記複数の端子上の前記第1絶縁膜及び前記第2絶縁膜をエッチングして前記複数の端子の一部を露出させ、
前記第2絶縁膜上に、前記複数のスイッチング素子によってそれぞれ駆動され、開口部を有するシャッター、前記シャッターに接続された第1バネ、前記第1バネに接続された第1アンカー、第2バネ、及び前記第2バネに接続された第2アンカーを有する複数のMEMSシャッターを形成し、
前記複数のMEMSシャッター及び前記複数の端子上に第3絶縁膜を形成し、
前記複数の端子上の前記第3絶縁膜をエッチングして前記複数の端子の一部を露出させることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 基板上に複数のスイッチング素子及び複数の端子を形成し、
前記複数のスイッチング素子及び前記複数の端子上に第1絶縁膜を形成し、
前記複数の端子上の前記第1絶縁膜をエッチングして前記複数の端子の一部を露出させ、
前記第1絶縁膜上に、前記第1絶縁膜とは異なる材質の膜である第2絶縁膜を形成し、
前記第2絶縁膜上に、前記複数のスイッチング素子によってそれぞれ駆動され、開口部を有するシャッター、前記シャッターに接続された第1バネ、前記第1バネに接続された第1アンカー、第2バネ、及び前記第2バネに接続された第2アンカーを有する複数のMEMSシャッターを形成し、
前記複数のMEMSシャッター及び前記複数の端子上に第3絶縁膜を形成し、
前記複数の端子上の前記第2絶縁膜及び前記第3絶縁膜をエッチングして前記複数の端子の一部を露出させることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記第2絶縁膜は、前記第1絶縁膜及び前記第3絶縁膜とは異なるエッチングレートを有する成膜材料を用いて形成することを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2絶縁膜は、複数の層からなる積層構造に形成することを特徴とする請求項5乃至8のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1絶縁膜及び前記第3絶縁膜は、CVD法を用いてシリコン窒化膜を形成することを特徴とする請求項5乃至9のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
- 前記基板上の前記複数のスイッチング素子が形成された面と対向して対向基板がシール材を介して接合されることを特徴とする請求項5乃至10のいずれか一項に記載の表示装置の製造方法。
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