JP5849308B2 - 表面改質フッ素樹脂フィルムの製造方法及び表面改質フッ素樹脂フィルム - Google Patents
表面改質フッ素樹脂フィルムの製造方法及び表面改質フッ素樹脂フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP5849308B2 JP5849308B2 JP2011189785A JP2011189785A JP5849308B2 JP 5849308 B2 JP5849308 B2 JP 5849308B2 JP 2011189785 A JP2011189785 A JP 2011189785A JP 2011189785 A JP2011189785 A JP 2011189785A JP 5849308 B2 JP5849308 B2 JP 5849308B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- rubber
- fluororesin film
- test piece
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 114
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 114
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 73
- -1 organosilane compound Chemical class 0.000 claims description 48
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 48
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 44
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims description 32
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 30
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 29
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 28
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 23
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 claims description 21
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 16
- 125000002081 peroxide group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 10
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 7
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 7
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 claims description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 6
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 5
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 160
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 75
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 50
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 35
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 32
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 31
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 30
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 15
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 14
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 13
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 11
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 10
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 6
- 229920005555 halobutyl Polymers 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N naphthalene;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229940127554 medical product Drugs 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000181 Ethylene propylene rubber Polymers 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHOQXEIFYTTXJU-UHFFFAOYSA-N Isobutylene-isoprene copolymer Chemical compound CC(C)=C.CC(=C)C=C VHOQXEIFYTTXJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- KDFQYGBJUYYWDJ-UHFFFAOYSA-N azane;sodium Chemical compound N.[Na] KDFQYGBJUYYWDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 229920005556 chlorobutyl Polymers 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000006115 defluorination reaction Methods 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036541 health Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N (4e)-hexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C\CC=C PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N 0.000 description 1
- OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N (5e)-5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(=C/C)/CC1C=C2 OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N 0.000 description 1
- SWYZZEPJSISERH-KHPPLWFESA-N (z)-2-(3-triethoxysilylpropyl)but-2-enedioic acid Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC\C(=C\C(O)=O)C(O)=O SWYZZEPJSISERH-KHPPLWFESA-N 0.000 description 1
- ONILJRYQYWLXQU-UHFFFAOYSA-N 1,1-dioctyl-3-(3-triethoxysilylpropyl)urea Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)C(=O)NCCC[Si](OCC)(OCC)OCC ONILJRYQYWLXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPWZCJFZJCOBHO-UHFFFAOYSA-N 11-triethoxysilylundecan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCCCCCN LPWZCJFZJCOBHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHJRQDUWYYJDBE-UHFFFAOYSA-N 11-trimethoxysilylundecane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCCS VHJRQDUWYYJDBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- QMOCHTLIIWRLQV-UHFFFAOYSA-N 2-[methyl(3-trimethoxysilylpropyl)amino]ethanol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN(C)CCO QMOCHTLIIWRLQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4,6-dichloropyrimidine-5-carbaldehyde Chemical group NC1=NC(Cl)=C(C=O)C(Cl)=N1 GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUPGCAGBHBJUJC-UHFFFAOYSA-N 3-(3-trimethoxysilylpropoxy)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC1=CC=CC(N)=C1 HUPGCAGBHBJUJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJIKKNFJBDSHO-UHFFFAOYSA-N 3-[3-aminopropyl(diethoxy)silyl]oxy-3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound NCCC[Si](OCC)(OCC)OC(C)(CCO)CCO PMJIKKNFJBDSHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLISOBUNKGBQCL-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(dimethyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCN GLISOBUNKGBQCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJURIXUDYDHOMA-UHFFFAOYSA-N 3-[tris[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]silyl]propan-1-amine Chemical compound COCCOCCO[Si](CCCN)(OCCOCCOC)OCCOCCOC PJURIXUDYDHOMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZTPAOAMKBXNSH-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl acetate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(C)=O FZTPAOAMKBXNSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYFWOBSAALCFRS-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl benzoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 HYFWOBSAALCFRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWDDLRSGGCWDPH-UHFFFAOYSA-N 4-triethoxysilylbutan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCN SWDDLRSGGCWDPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNODSORTHKVDEM-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylaniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(N)C=C1 CNODSORTHKVDEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOTKGMAKADCEDH-UHFFFAOYSA-N 5-triethoxysilylpentane-1,3-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(N)CCN ZOTKGMAKADCEDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXDGHAZCSMVIFX-UHFFFAOYSA-N 6-(dibutylamino)-1h-1,3,5-triazine-2,4-dithione Chemical compound CCCCN(CCCC)C1=NC(=S)NC(=S)N1 IXDGHAZCSMVIFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- OOQNZINXQHZMDP-UHFFFAOYSA-N CO[Si](CCCCCCCCCCC(CCN)N)(OC)OC Chemical compound CO[Si](CCCCCCCCCCC(CCN)N)(OC)OC OOQNZINXQHZMDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROULBGYZWBACHI-UHFFFAOYSA-N NCCC[Si](C)(C)C.NCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound NCCC[Si](C)(C)C.NCCC[Si](OC)(OC)OC ROULBGYZWBACHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- VXQOFNJETKUWLT-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(methyl)silyl]methanethiol Chemical compound CO[Si](C)(CS)OC VXQOFNJETKUWLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMHVFBWXJOFCKJ-UHFFFAOYSA-N [methoxy-methyl-(2-methylpropyl)silyl]oxymethanamine Chemical compound CC(C)C[Si](C)(OC)OCN LMHVFBWXJOFCKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000000089 atomic force micrograph Methods 0.000 description 1
- 229920005557 bromobutyl Polymers 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012668 chain scission Methods 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical group 0.000 description 1
- 150000004662 dithiols Chemical group 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920005558 epichlorohydrin rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRQMOODLXBBSRW-UHFFFAOYSA-N methyl 11-[methoxy(dimethyl)silyl]undecanoate Chemical compound COC(=O)CCCCCCCCCC[Si](C)(C)OC XRQMOODLXBBSRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBELKEREKFGFNM-UHFFFAOYSA-N n'-[[4-(2-trimethoxysilylethyl)phenyl]methyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=C(CNCCN)C=C1 HBELKEREKFGFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical compound [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002589 poly(vinylethylene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 1
- 238000010058 rubber compounding Methods 0.000 description 1
- KHYCKXNQNMBFAU-UHFFFAOYSA-N s-(3-trimethoxysilylpropyl) octanethioate Chemical compound CCCCCCCC(=O)SCCC[Si](OC)(OC)OC KHYCKXNQNMBFAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- MMZPUXVBQAQQDQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-pyridin-4-ylethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC1=CC=NC=C1 MMZPUXVBQAQQDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPEPIADELDNCED-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethanol Chemical compound CCO[Si](CO)(OCC)OCC HPEPIADELDNCED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDVDSUBFYNSMC-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl acetate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(C)=O CSDVDSUBFYNSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJQHYEFNLXHUGV-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl acetate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(C)=O IJQHYEFNLXHUGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Description
アミノ基を有するものとして、3−アミノプロピルトリメトキシシラン(APS)、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、3−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、4−アミノブチルトリエトキシシラン、アミノフェニルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリ(メトキシエトキシエトキシ)シラン、11−アミノウンデシルトリエトキシシラン、2−(4−ピリジルエチル)トリエトキシシラン、3−(m−アミノフェノキシ)プロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、6−(アミノヘキシル)アミノメチルトリエトキシシラン、11−(2−アミノエチル)アミノウンデシルトリメトキシシラン、(アミノエチルアミノメチル)フェネチルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、3−(アミノエチルアミノ)イソブチルジメチルメトキシシランなどが挙げられる。
カルボニル基を有するものとして、トリエトキシシリルプロピルマレイン酸などが挙げられる。
アミド基を有するものとして、N,N−ジオクチル−N’−トリエトキシシリルプロピルウレアなどが挙げられる。
水酸基を有するものとして、ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(ヒドロキシエチル)−N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリエトキシシランなどが挙げられる。
エポキシ基を有するものとして、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
エステル基を有するものとして、アセトキシメチルトリエトキシシラン、アセトキシメチルトリメトキシシラン、アセトキシプロピルトリメトキシシラン、ベンゾイルオキシプロピルトリメトキシシラン、10−(カルボメトキシ)デシルジメチルメトキシシラン、2−(カルボメトキシ)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
チオール基を有するものとして、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、11−メルカプトウンデシルトリメトキシシラン、S−(オクタノイル)メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メルカプトメチルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランなどが挙げられる。
なかでも、アミノ基を有するもの、特にAPSを好適に使用できる。
以下の5つの工程により、表面改質フッ素樹脂フィルムとゴムとが接合されたゴム複合体を形成した。
希ガスを用いた大気圧プラズマ処理を施して、フッ素樹脂フィルム表面に過酸化物官能基を導入する工程(1)、
上記フッ素樹脂フィルムを水に浸漬して、上記フッ素樹脂フィルム表面に親水基を形成する工程(2)、
有機シラン化合物の成膜処理を施して、上記フッ素樹脂フィルム表面に上記有機シラン化合物の自己組織化膜を形成する工程(3)、
減圧乾燥処理を施して、上記フッ素樹脂フィルムから未反応の上記有機シラン化合物を除去する工程(4)、
表面改質フッ素樹脂フィルムとゴムとを加硫成形することにより、表面改質フッ素樹脂フィルムとゴムとの複合体を得る工程(5)の各工程である。以下、それぞれの工程について説明する。
厚み0.2mmのPTFEフィルム(日本バルカー工業(株)製、バルフロン(登録商標))を50mm×80mmの寸法に切り出し、この切片を試験片とした。試験片は、焼成樹脂材がスカイブド成形されたものであり、図2のSEM観察像のように、試験片表面には、無数の焼成孔や繊維くずが存在している。そのため、先ず、試験片を水洗してからアセトン中で超音波洗浄を行った。その後、大気圧プラズマ処理を施した。大気圧プラズマ処理には、図3に示す容量結合型大気圧プラズマ発生装置を用いた。プラズマ処理の試験条件は、表1に示すとおりとした。
大気圧プラズマ処理後の表面改質試験片を、蒸留水を入れたビーカーの中で浸漬処理した。処理時間は5分間であった。工程(1)の大気圧プラズマ処理により試験片表面に形成された過酸化物官能基やカルボニル基は、ここでの蒸留水の浸漬処理により、水分子と加水分解反応が生じて親水性官能基(水酸基、カルボキシル基等)に変化するため、試験片の濡れ性は良好となった。なお、浸漬処理により、試験片表面の低分子残渣が除去された。浸漬処理後に試験片を乾燥させた。
本実施例では、ゴムとの親和性の高い有機シラン化合物を成膜させて、有機シラン化合物の自己組織化膜をフッ素樹脂フィルム表面に成膜する工程として、気相蒸着法を適用した。また、有機シラン化合物には、APSを用いた。
工程(3)後の試験片を、減圧乾燥炉内に入れて、減圧乾燥処理をした。本処理を施すことにより、試験片表面と未反応である有機シラン化合物のAPS凝縮物を除去することができ、後述する工程(5)で表面改質フッ素樹脂フィルムとゴムとの加硫成形を行う際に、表面改質フッ素樹脂フィルムとゴムとの界面で気泡が発生することなく、表面改質フッ素樹脂フィルムとゴムとの複合体を形成することが可能となった。なお、到達真空度は大気圧に対して−100kPa、乾燥温度は150℃、乾燥時間は1時間とした。
工程(4)後の試験片とゴムとの複合体の成形は加硫成形にて行った。架橋剤として2−ジ−n−ブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−S−トリアジン(三協化成(株)製、ジスネットDB)を含む未加硫ゴムシート(ハロゲン化ブチルゴム、厚み2mm)を準備し、表面改質された側の試験片の表面と未加硫ゴムシートとを重ねた状態でプレス型に入れた。なお、後述する剥離試験で必要な掴み代を形成するため、試験片と未加硫ゴムシートとの間には、該掴み代に相当する形状の不活性フィルムを挿入した。加硫温度は180℃、加硫処理時間は10分間、加硫処理圧力は10MPaに設定して加硫成形を行い、表面改質フッ素樹脂フィルムとゴムとの複合体を得た。
I.大気圧プラズマ処理条件(励起ガスの供給流速)について
工程(1)のみを実施した試験片を用いて、励起ガスの供給流速の最適値を検討した。図4(a)のGAP(3)を無限大(∞)、すなわち、遮蔽板14を取り外して、試験片を大気圧プラズマ処理した。プラズマ処理の条件は、表3に示すとおりとした。蒸留水の静的接触角を測定した。
工程(1)及び工程(5)のみを実施した試験片を用いて、試験片走査往復回数の最適値を検討した。図4(a)のGAP(3)を無限大(∞)、すなわち、遮蔽板14を取り外して、試験片を大気圧プラズマ処理した。プラズマ処理の条件は、表5に示すとおりとした。工程(1)処理後に蒸留水の静的接触角を測定した。また、工程(5)処理後に表面改質フッ素樹脂フィルムとゴムとの複合体の剥離試験を行った。
工程(1)及び工程(5)のみを実施した試験片を用いてGAP(3)の最適値を検討した。図4(a)のGAP(3)を変化させて、試験片を大気圧プラズマ処理した。プラズマ処理の条件は、表7に示すとおりとした。工程(1)処理後に蒸留水の静的接触角を測定した。また、工程(5)処理後に表面改質フッ素樹脂フィルムとゴムとの複合体の剥離試験を行った。
工程(1)及び工程(5)のみを実施した試験片を用いて、GAP(3)を0.5mmに設定した場合の試験片走査往復回数の最適値を検討した。プラズマ処理の条件は、表9に示すとおりとした。工程(1)処理後に蒸留水の静的接触角を測定した。また、工程(5)処理後に表面改質フッ素樹脂フィルムとゴムとの複合体の剥離試験を行った。
工程(1)後の試験片表面のXPS分析を行った結果を図11(a)に示している。図10(試験片走査往復回数10回)の場合に比べて、O1sピーク強度が若干低くなっている。これは、試験片往復走査回数、すなわち、大気圧プラズマ処理時間の減少によって、形成される過酸化物官能基や親水性官能基(水酸基等)が減少したためと考えられる。
工程(2)後の試験片表面のXPS分析を行った結果を図12(a)に示している。工程(1)後の結果を示す図11(a)に比べて、C1sピークが低くなっている。これは、蒸留水への浸漬処理により、試験片表面の低分子残渣が除去されたことが主な要因と考えられる。図12(b)に示すC1sスペクトルでは、−CH2や−C=C−に由来する284.6eVのピークが低くなった一方、291.0eVの−CFに由来するピークが相対的に高くなったが、その他の変化は認められなかった。しかしながら、蒸留水の静的接触角を測定した結果は37.6°となった。これは、試験片表面の過酸化物官能基等が水分子と加水分解反応することで、親水性官能基に変化したため、試験片表面の濡れ性が良好となったものと考えられる。
工程(3)後の試験片表面のXPS分析、及びSEM観察の結果を、図13、図14、図15に示している。実施例1では、ゴムとの親和性の高い有機シラン化合物APSを気相蒸着法により試験片表面に成膜させている。工程(3)における試験条件に関して、表2中のAPS量を0.10mL、APS加熱温度を130℃として、APS加熱時間の試験条件を30分、1時間、2時間の3つに設定して、試験片に成膜処理を施した。
工程(4)後の試験片表面のXPS分析、及びSEM像観察した結果を、図16、図17、図18に示している。ここで、APS加熱時間を30分とした試験片表面のXPS分析の結果を図16(a)に、SEM像を図16(b)に示している。APS加熱時間を1時間とした試験片表面のXPS分析の結果を図17(a)に、SEM像を図17(b)に示している。APS加熱時間を2時間とした試験片表面のXPS分析の結果を図18(a)に、SEM像を図18(b)に示している。
工程(5)における加硫成形により、試験片とゴムとの複合体を成形した。その後、図7に示されるように、180°剥離試験による試験片とゴムとの複合体成形との剥離試験を行った。表13には、剥離試験の試験結果を示している。工程(3)における試験条件のAPS加熱時間を1時間とした場合、8.5N/cm以上の剥離強度が得られることが分かった。これは、大気圧プラズマ処理による親水化のみを施した試験片表面とゴムとを加硫成形した後に行った剥離試験の結果(表10)と比較して、約3倍の剥離強度を得られたことになる。
実施例1における工程(4)を省略すること以外、その他の全ての工程を実施したところ、図19(b)に示すように、試験片とゴムとの界面において気泡が発生して、試験片とゴムとの複合体成形は不可能であった。これは、工程(4)の減圧乾燥処理を行わなかったため、試験片表面にAPS凝縮物が残留して、ゴムとの加硫成形を行う際に高温度雰囲気によってAPS凝縮物が気化して気泡が生じるためと推察される。これは、APS加熱時間のいずれの条件でも同様であった。
2:配管経路
3:マスフローコントローラー
4:配管経路
5:吹き出しノズル
6:試料台走査ステージ
7:試験片
8:プラズマ
9:アルミナ製絶縁パイプ(絶縁管)
10:アルミ合金製ロッド(電極)
11:高周波発振電源
12:マッチング回路ユニット
13:遮蔽板
14:遮蔽板
21:ステンレス製容器
22:PFA製容器
23:ビーカー
24:APSのトルエン溶液
25:APSの蒸気
26:オーブン
31:ゴムシート
32:接着界面
Claims (7)
- 希ガスを用いた大気圧プラズマ処理を施して、フッ素樹脂フィルム表面に過酸化物官能基を導入する工程(1)、
前記フッ素樹脂フィルムを水に浸漬して、前記フッ素樹脂フィルム表面に親水基を形成する工程(2)、
有機シラン化合物の成膜処理を施して、前記フッ素樹脂フィルム表面に前記有機シラン化合物の自己組織化膜を形成する工程(3)、
減圧乾燥処理を施して、前記フッ素樹脂フィルムから未反応の前記有機シラン化合物を除去する工程(4)、
を順次行って得られた表面改質フッ素樹脂フィルムをゴムと加硫成形し、
得られた複合体を用いて医療用ゴム製品を作製する医療用ゴム製品の製造方法。 - 前記フッ素樹脂フィルムは、ポリテトラフルオロエチレン、変性ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体及びテトラフルオロエチレン・エチレン共重合体からなる群より選択される少なくとも1種のフッ素樹脂の成形物であることを特徴とする請求項1に記載の医療用ゴム製品の製造方法。
- 前記有機シラン化合物は、アミノ基、カルボニル基、アミド基、水酸基、エポキシ基、エステル基及びチオール基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の医療用ゴム製品の製造方法。
- 前記有機シラン化合物は、アルコキシ基を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の医療用ゴム製品の製造方法。
- 前記有機シラン化合物は、一方の末端にアミノ基、カルボニル基、アミド基、水酸基、エポキシ基、エステル基及びチオール基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を有し、他方の末端にアルコキシ基を有するシランカップリング剤であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の医療用ゴム製品の製造方法。
- 前記有機シラン化合物の成膜処理は、気相蒸着法又は液相成膜法で行うことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の医療用ゴム製品の製造方法。
- 前記複合体は、実質的に有機系接着剤を使用せずに得られたものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の医療用ゴム製品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011189785A JP5849308B2 (ja) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | 表面改質フッ素樹脂フィルムの製造方法及び表面改質フッ素樹脂フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011189785A JP5849308B2 (ja) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | 表面改質フッ素樹脂フィルムの製造方法及び表面改質フッ素樹脂フィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013049819A JP2013049819A (ja) | 2013-03-14 |
JP5849308B2 true JP5849308B2 (ja) | 2016-01-27 |
Family
ID=48012110
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011189785A Active JP5849308B2 (ja) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | 表面改質フッ素樹脂フィルムの製造方法及び表面改質フッ素樹脂フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5849308B2 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5895468B2 (ja) * | 2011-11-18 | 2016-03-30 | 大日本印刷株式会社 | 積層フィルム及びそれを用いたゴム成形体 |
SG11201504717YA (en) * | 2012-12-18 | 2015-07-30 | Lanxess Butyl Pte Ltd | Butyl rubber with increased impermeability |
JP6102458B2 (ja) * | 2013-04-19 | 2017-03-29 | 大日本印刷株式会社 | 親水性層を有する基材の製造方法 |
JP6201428B2 (ja) * | 2013-05-29 | 2017-09-27 | 大日本印刷株式会社 | フッ素系樹脂積層フィルム |
JP6202369B2 (ja) * | 2013-05-29 | 2017-09-27 | 大日本印刷株式会社 | 表面平滑化フッ素系樹脂フィルムの製造方法およびそのフィルム |
JP6809771B2 (ja) * | 2013-10-11 | 2021-01-06 | 住友電工プリントサーキット株式会社 | フッ素樹脂基材、プリント配線板、及び回路モジュール |
JP6315758B2 (ja) * | 2013-10-11 | 2018-04-25 | 住友電工プリントサーキット株式会社 | フッ素樹脂基材、プリント基板、表示パネル、表示装置、タッチパネル、照明装置、及びソーラパネル |
WO2015053309A1 (ja) * | 2013-10-11 | 2015-04-16 | 住友電工プリントサーキット株式会社 | フッ素樹脂基材、プリント配線板、及び回路モジュール |
CN105612055B (zh) | 2013-10-11 | 2018-01-09 | 住友电工印刷电路株式会社 | 氟树脂基材、印刷线路板和电路模块 |
JP6256832B2 (ja) * | 2013-12-27 | 2018-01-10 | 住友電工プリントサーキット株式会社 | 歪ゲージ用プリント配線板 |
JP6332787B2 (ja) * | 2014-02-17 | 2018-05-30 | 住友電工プリントサーキット株式会社 | カバーレイ及びプリント配線板 |
JP6318773B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2018-05-09 | 大日本印刷株式会社 | フッ素系樹脂積層フィルム |
JP6601814B2 (ja) * | 2014-05-21 | 2019-11-06 | 住友電工プリントサーキット株式会社 | プリント配線板及びプリント配線板の製造方法 |
US10730253B2 (en) | 2014-09-05 | 2020-08-04 | Osaka University | Process for producing surface-modified molded article, and process for producing composite using surface-modified molded article |
JP6639775B2 (ja) * | 2014-10-21 | 2020-02-05 | 住友電工プリントサーキット株式会社 | 樹脂フィルム、プリント配線板用カバーレイ、プリント配線板用基板及びプリント配線板 |
JP6471634B2 (ja) * | 2015-07-21 | 2019-02-20 | 日立金属株式会社 | ゴム積層体 |
WO2018168167A1 (ja) * | 2017-03-17 | 2018-09-20 | バンドー化学株式会社 | 搬送用ベルト |
WO2019083949A2 (en) * | 2017-10-27 | 2019-05-02 | Corning Incorporated | METHODS OF TREATING A SURFACE OF AN ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA POLYMER MATERIAL |
KR102285899B1 (ko) * | 2018-07-23 | 2021-08-03 | 주식회사 엘지화학 | 친수성 필름 적층체 |
CN115175953A (zh) | 2020-03-19 | 2022-10-11 | Agc株式会社 | 表面改性的四氟乙烯类聚合物的制造方法、改性粉末的制造方法、液态组合物、改性成形物的制造方法及改性成形物 |
CN113231273B (zh) * | 2021-04-14 | 2023-03-17 | 中国科学院电工研究所 | 一种大气压低温等离子体沉积功能性涂层的方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5266309A (en) * | 1989-03-27 | 1993-11-30 | The Research Foundation Of State University Of New York | Refunctionalized oxyfluoropolymers |
JP3232643B2 (ja) * | 1991-04-12 | 2001-11-26 | 株式会社ブリヂストン | ゴム系複合材料の製造方法 |
JPH07330930A (ja) * | 1994-06-03 | 1995-12-19 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 高分子フィルムの表面処理方法 |
JPH1030761A (ja) * | 1996-07-16 | 1998-02-03 | Tokai Rubber Ind Ltd | チューブの製法 |
JP2006282871A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Univ Nagoya | 疎水性高分子基板表面の親水性維持方法 |
-
2011
- 2011-08-31 JP JP2011189785A patent/JP5849308B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013049819A (ja) | 2013-03-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5849308B2 (ja) | 表面改質フッ素樹脂フィルムの製造方法及び表面改質フッ素樹脂フィルム | |
Abourayana et al. | Plasma processing for tailoring the surface properties of polymers | |
Mandolfino et al. | Influence of cold plasma treatment parameters on the mechanical properties of polyamide homogeneous bonded joints | |
US9828671B2 (en) | Method for fixation onto layer comprising amorphous carbon film, and laminate | |
JP5649772B2 (ja) | フッ素樹脂系成形物の表面改質方法 | |
EP3320986B1 (en) | Hydrophilic, multifunctional ultra-thin coatings with excellent stability and durability | |
Shearer et al. | Composite SiO2/TiO2 and amine polymer/TiO2 nanoparticles produced using plasma-enhanced chemical vapor deposition | |
JP3475085B2 (ja) | 表面改質層を有するフッ素樹脂成形体、フッ素樹脂の表面処理方法、及び処理装置 | |
JP5226827B2 (ja) | フッ素系高分子材料の表面を超疎水性表面に改質する方法 | |
Okubo et al. | Molecular-level reinforced adhesion between rubber and PTFE film treated by atmospheric plasma polymerization | |
JPH06116430A (ja) | 撥水撥油性フィルムとその製造方法 | |
Butrón-García et al. | Use of statistical design of experiments in the optimization of Ar–O2 low-pressure plasma treatment conditions of polydimethylsiloxane (PDMS) for increasing polarity and adhesion, and inhibiting hydrophobic recovery | |
Valinataj Omran et al. | Atmospheric pressure surface modification and cross‐linking of UHMWPE film and inside HDPE tube by transporting discharge | |
Kusano et al. | Atmospheric pressure plasma treatment of glassy carbon for adhesion improvement | |
Cho et al. | Improvement of paint adhesion to a polypropylene bumper by plasma treatment | |
Bhatnagar et al. | Physico-chemical characteristics of high performance polymer modified by low and atmospheric pressure plasma | |
US20210146662A1 (en) | Layered product and method for producing same | |
JP6202369B2 (ja) | 表面平滑化フッ素系樹脂フィルムの製造方法およびそのフィルム | |
Guragain et al. | Treatment of polypropylene by dielectric barrier discharge generated at 40 Torr | |
Wang et al. | Homogeneous surface hydrophilization on the inner walls of polymer tubes using a flexible atmospheric cold microplasma jet | |
JP7060276B2 (ja) | 接合体及びその製造方法 | |
JP2004323593A (ja) | フッ素樹脂粉体の改質方法及びフッ素樹脂粉体 | |
JPH03164246A (ja) | 複合構造体 | |
Yin et al. | Influence of differently structured aluminium–polypropylene interfaces on adhesion | |
Yoshida et al. | Enhanced adhesion of copper plating to polyether ether ketone based on active oxygen species generated under ultraviolet irradiation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140509 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7426 Effective date: 20140509 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20140509 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150825 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151014 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151109 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5849308 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |