JP5831220B2 - 循環流動層ガス化装置 - Google Patents
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前記流動層ガス化炉内部の流動層上部の空間に、前記流動粒子よりも大きい粒径を有する触媒体と、該触媒体を支持して流動粒子は流下させる落下口を備えた触媒支持部材とからなるタール捕捉改質層を設置し、
前記流動層からのガス化ガスは前記タール捕捉改質層を流通して前記取出口に向かうようにし、
前記流動層ガス化炉の天井部には複数の前記粒子導入口を配置し、分配器を介して前記分離装置に接続した分配管を複数の前記粒子導入口に接続し、前記分離装置からの流動粒子が前記分配管及び前記粒子導入口を介して前記タール捕捉改質層上に分散して落下するようにしたことを特徴とする循環流動層ガス化装置、に係るものである。
前記流動層ガス化炉内部の流動層上部の空間に、前記流動粒子よりも大きい粒径を有する触媒体と、該触媒体を支持して流動粒子は流下させる落下口を備えた触媒支持部材とからなるタール捕捉改質層を設置し、
前記流動層からのガス化ガスは前記タール捕捉改質層を流通して前記取出口に向かうようにし、
前記流動層ガス化炉の流動層の上部に、絞り部を介して前記流動層ガス化炉よりも断面積が小さいタール捕捉改質層を形成し、該タール捕捉改質層の上部に前記粒子導入口を配置したことを特徴とする循環流動層ガス化装置、に係るものである。
2 流動層ガス化炉
2a 一側壁
3 流動燃焼炉
4 流動粒子
6 ガス化剤
7 流動層
8 有機固体原料(原料)
9 原料供給口
11 空間
14 ガス化ガス
18 分離装置
20 落下口
21 触媒支持部材
22 触媒体
23 タール捕捉改質層
24 取出口
24' 取出口
25 粒子導入口
25a,25b 粒子導入口
31 分配器
32a,32b 分配管
33 粒子導入口
34 絞り部
35 タール捕捉改質層
36 粒子導入口
Claims (5)
- 流動燃焼炉と流動層ガス化炉を有し、前記流動層ガス化炉は、前記流動燃焼炉で加熱され分離装置で分離された流動粒子を粒子導入口により導入し、下部から供給されるガス化剤により流動層を形成して原料供給口から流動層上に供給される原料のガス化を行い、生成したガス化ガスは上部の取出口から取り出し、前記流動層ガス化炉内の流動粒子と未反応のチャーは前記流動燃焼炉に供給して流動粒子の加熱を行う循環流動層ガス化装置であって、
前記流動層ガス化炉内部の流動層上部の空間に、前記流動粒子よりも大きい粒径を有する触媒体と、該触媒体を支持して流動粒子は流下させる落下口を備えた触媒支持部材とからなるタール捕捉改質層を設置し、
前記流動層からのガス化ガスは前記タール捕捉改質層を流通して前記取出口に向かうようにし、
前記流動層ガス化炉の天井部には複数の前記粒子導入口を配置し、分配器を介して前記分離装置に接続した分配管を複数の前記粒子導入口に接続し、前記分離装置からの流動粒子が前記分配管及び前記粒子導入口を介して前記タール捕捉改質層上に分散して落下するようにしたことを特徴とする循環流動層ガス化装置。 - 前記原料供給口は、前記流動層ガス化炉内の流動粒子と未反応のチャーを前記流動燃焼炉に供給する前記流動層ガス化炉の他側壁に対して一側壁に配置されたことを特徴とする請求項1に記載の循環流動層ガス化装置。
- 流動燃焼炉と流動層ガス化炉を有し、前記流動層ガス化炉は、前記流動燃焼炉で加熱され分離装置で分離された流動粒子を粒子導入口により導入し、下部から供給されるガス化剤により流動層を形成して原料供給口から流動層上に供給される原料のガス化を行い、生成したガス化ガスは上部の取出口から取り出し、前記流動層ガス化炉内の流動粒子と未反応のチャーは前記流動燃焼炉に供給して流動粒子の加熱を行う循環流動層ガス化装置であって、
前記流動層ガス化炉内部の流動層上部の空間に、前記流動粒子よりも大きい粒径を有する触媒体と、該触媒体を支持して流動粒子は流下させる落下口を備えた触媒支持部材とからなるタール捕捉改質層を設置し、
前記流動層からのガス化ガスは前記タール捕捉改質層を流通して前記取出口に向かうようにし、
前記流動層ガス化炉の流動層の上部に、絞り部を介して前記流動層ガス化炉よりも断面積が小さいタール捕捉改質層を形成し、該タール捕捉改質層の上部に前記粒子導入口を配置したことを特徴とする循環流動層ガス化装置。 - 前記粒子導入口が、前記タール捕捉改質層の上部に備えられるガス化ガスの取出口に対して同心に配置されたことを特徴とする請求項3に記載の循環流動層ガス化装置。
- 前記原料供給口は、前記流動層ガス化炉内の流動粒子と未反応のチャーを前記流動燃焼炉に供給する前記流動層ガス化炉の他側壁に対して一側壁に配置されたことを特徴とする請求項3に記載の循環流動層ガス化装置。
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