JP5828478B2 - 排ガス浄化用触媒担体及び排ガス浄化用触媒 - Google Patents
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Description
また、特許文献2には、SiO2とZrO2との複合酸化物を焼結したものを排ガス浄化用触媒の触媒担体として用いることが提案されている。
さらに、特許文献3には、規則的周期構造を有する均一なメソ孔を備え且つ一定割合でSi−O−Zr結合を有するメソポーラスシリカを触媒担体として用いることが提案されている。
さらに、従来公知の触媒は、一般に耐熱耐久性が低く、例えば750℃、50時間のエージングを行った後では、350℃でのNO酸化率が大きく低下する傾向がある。
本発明のさらに他の目的は、上記の触媒担体に白金族金属を担持して得られ、耐熱耐久性に優れた排ガス浄化用触媒を提供することにある。
本発明によれば、また、上記触媒担体に白金族金属を担持してなる排ガス浄化用触媒が提供される。
排ガス浄化用触媒として使用されるシリカ分散アルミナは、アルミナ中に微量の微細なシリカが分散された構造を有しており、Si/(Si+Al)が1.0乃至10.0モル%、特に1.5乃至8.0モル%の範囲内にあると同時に、図1の電子顕微鏡写真から理解されるように、例えば倍率200,000倍の電子顕微鏡写真の画像解析で算出される面積90,000nm2でのシリカ粒子の面積占有率(Si粒子の面積占有率という)は、常に70%以上であり、このことから、シリカ粒子が偏在しておらず、均一に分散されていることが判る。
即ち、極めて微細なシリカが微量分散されているシリカ分散アルミナでは、基本的にアルミナの細孔にPt等の触媒が担持されるが、これを高温に加熱したとき、アルミナの骨格内や粒子間隙に存在する微細なシリカが細孔の熱収縮を抑制するように作用し、この結果として、細孔内に触媒が安定に保持され、高温での熱処理によっても触媒活性が損なわれず、安定に維持されるものと考えられるのである。
本発明のシリカ分散アルミナは、前述したように、極めて微細であり且つ微量のシリカ粒子が偏在することなく均一に分散しているという分散構造を有している。従って、単に微量の微細シリカをアルミナに混合するという手段によって得ることはできず、アルミナヒドロゲルからアルミナを製造する過程で微細シリカ(シリカゾル)を介在させておくという手段により製造される。
例えば、SiO2分を21乃至23質量%含むケイ酸ソーダ水溶液と、42乃至45質量%の濃度の硫酸水溶液を、容積比で約4:1になる量で連続的に高速混合してpHが1.6乃至2.2の範囲になるように調整することにより、本発明で用いる酸性ゾルを得ることができる。
焼成温度は、一般に600乃至640℃程度である。この温度が高すぎると、細孔収縮が大きく、触媒の担持に不適当となるおそれがある。また、温度が低すぎると、粒子間空隙が大きく、この結果、内部に分散されている微細シリカ粒子による細孔の熱収縮を抑制する効果が損なわれるおそれがある。
上記のような特性を有するシリカ分散アルミナは、極めて安価であり、例えば押出成形、造粒成形等の公知の方法によって、円筒状、粒状、錠剤等の種々の形態に成形し、これに触媒を担持させて触媒としての使用に供される。特に触媒活性の耐熱耐久性に優れていることから、白金族金属を担持させた排ガス浄化用触媒として極めて好適であり、炭化水素の分解、NOx及びカーボンの酸化等を促進させ、自動車等の排ガスをクリーンに浄化することができる。
また、上述した触媒担体として使用されるシリカ分散アルミナは、特に高価な白金族触媒以外にも、水素化精製触媒、水素化脱硫触媒、水素化脱窒素触媒等の触媒としての機能を有する他の金属、例えば、クロム、モリブデン、タングステン、鉄、コバルト、ニッケル、オスミウム、モリブデン−コバルト、モリブデン−ニッケル、タングステン−ニッケル、モリブデン−コバルト−ニッケル、タングステン−コバルト−ニッケルまたはモリブデン−タングステン−コバルト−ニッケル等を、必要に応じて担持させ、各種の触媒として使用することもできる。
尚、以下の実験に用いた各種の測定方法は次の通りである。
Si、Alの測定はJIS.M.8853に準拠して測定した。
Micromeritics社製TriStarII 3020を用いて窒素吸着法にて測定を行った。細孔容積は、脱離側窒素吸着等温線からBJH法で求めた細孔分布において細孔直径2.0nm〜50nmまでの細孔容積を積算して求めた。比表面積は比圧が0.05から0.20の吸着側窒素吸着等温線からBET法で解析した。細孔直径はP/Po=0.975未満のN2吸着量をVとし、比表面積をAとして4V/Aより計算して求めた。
透過型電子顕微鏡で200,000倍の倍率で観察したTEM像を用いて、EDX分析を行ってSiをマッピングし、これを画像解析ソフト「ImageJ」を用いて解析し90,000nm2中のSi粒子占有率を求めた。
シリカ分散アルミナに対して1wt%Ptとなるようにジニトロジアンミン白金硝酸溶液を含浸担持し、水素中400℃で還元し空気中500℃1時間処理したものをエージング前試料とし、これを空気中750℃50時間のエージング処理を行ったものをエージング後試料とした。
常圧固定床流通反応法により行った。試料40mgに模擬排ガスとしての200ppmNO+180ppmC10H22(デカン)+18ppm C11H10(α-メチルナフタレン)+10%H2O+5%O2(N2希釈)を400ml・min-1流通させ、500℃から階段状に降温し、HCが50%転化する温度、および350℃におけるNOからNO2への転化率を求めた。
アルミナ源の原料として硫酸アルミニウム(Al2O3 11.3%、SO3 14.5%、SG 1.25)を使用した。シリカ源の原料としてケイ酸ソーダ(SiO2 22.5%、Na2O 7.2%、SG 1.30)と45%濃度の硫酸を両者が瞬時接触を可能な装置を用いてケイ酸ソーダを7.5L/min、硫酸を2.0L/minを該装置に供給し、この溶液に等倍の水を加えて酸性シリカゾルを調製する。硫酸アルミニウム300gに対し、酸性シリカゾル15gを注加し攪拌混合したものを、水600mlと49%苛性ソーダ62.8gを混ぜ60℃に加熱した容器に注加してシリカ分散アルミナヒドロゲルを得る。このゲルを60℃に加温したイオン交換水で、洗浄液が1μS/cm以下になるまで洗浄し、150℃で乾燥後、620℃で焼成してシリカ分散アルミナを得た。得られたシリカ分散アルミナについて物性測定を行い結果を表1に、TEM−EDXによるマッピングを図1に示す。
酸性シリカゾルを使用しない以外は実施例1と同様にして行い試料を得た。物性測定の結果を表1に示す。
実施例1で酸性シリカゾルではなくコロイダルシリカ「スノーテックス20L」を6.9g使ったこと以外は、実施例1と同様にして行い試料を得た。物性測定結果を表1に、TEM−EDXによるマッピングを図2に示す。
Claims (2)
- アルミナ粒子中にシリカ粒子が分散したシリカ分散アルミナからなる排ガス浄化用触媒担体であって、前記シリカ分散アルミナは、Si/(Si+Al)が1.0〜10.0モル%の範囲内にあると共に、倍率200,000倍の電子顕微鏡写真の画像解析で算出される面積90,000nm 2 でのSi粒子の面積占有率が70%以上として観察されることを特徴とする排ガス浄化用触媒担体。
- 請求項1に記載の触媒担体に白金族金属を担持してなる排ガス浄化用触媒。
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