JP5816672B2 - 導波路とプラズモンジェネレータを備えた近接場光発生器の製造方法 - Google Patents
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Claims (8)
- 導波路と、プラズモンジェネレータとを備えた近接場光発生器の製造方法であって、
前記導波路は、光を伝播させるコアと、前記コアの周囲に配置されたクラッドとを有し、
前記コアは、下面と、その反対側の上面と、下面と上面とを接続する2つの側面とを有し、
前記クラッドは、前記コアの下面に接する第1のクラッド層と、前記コアの2つの側面に接する第2のクラッド層と、前記コアの上面に接する第3のクラッド層とを含み、
前記プラズモンジェネレータは、前記コアの上面より発生されるエバネッセント光と結合することによって表面プラズモンが励起されるプラズモン励起部と、前記表面プラズモンに基づいて近接場光を発生する前端面とを有し、前記コアの上面の上方に配置され、
前記近接場光発生器の製造方法は、
前記第1のクラッド層を形成する工程と、
前記第1のクラッド層の上に、前記コアと、前記コアの上面上に配置された研磨停止層とを含む構造体を形成する工程と、
前記第1のクラッド層と前記構造体を覆うように、後に前記第2のクラッド層となるクラッド材料層を形成する工程と、
前記研磨停止層が露出するまで、前記クラッド材料層を研磨する第1の研磨工程と、
前記第1の研磨工程の後で、前記クラッド材料層が、前記コアの上面よりも上方に突出した突出部を有する状態になるように、前記研磨停止層を除去する工程と、
前記研磨停止層を除去する工程の後で、前記突出部が除去されて、前記クラッド材料層が前記第2のクラッド層になるように、前記クラッド材料層を研磨する第2の研磨工程と、
前記第2の研磨工程の後で、前記第3のクラッド層および前記プラズモンジェネレータを形成する工程とを備え、
前記構造体を形成する工程は、前記第1のクラッド層の上に、後に前記コアとなるコア材料層を形成する工程と、前記コア材料層の上に、前記研磨停止層を形成する工程と、前記コア材料層がパターニングされて前記コアになるように、前記研磨停止層をマスクとして用いて前記コア材料層をエッチングする工程とを含むことを特徴とする近接場光発生器の製造方法。 - 前記第1の研磨工程と前記第2の研磨工程は、化学機械研磨を用いて行われることを特徴とする請求項1記載の近接場光発生器の製造方法。
- 前記研磨停止層を除去する工程は、反応性イオンエッチングを用いて行われることを特徴とする請求項1記載の近接場光発生器の製造方法。
- 前記構造体を形成する工程では、前記構造体の他に、前記第1のクラッド層の上であって前記構造体を挟む位置に、それぞれ前記構造体に対して間隔をあけて、第1および第2の補助構造体を形成し、
前記第1の補助構造体は、前記コアと同じ材料よりなる第1のダミーコアと、この第1のダミーコアの上に配置された第1の補助研磨停止層とを含み、
前記第2の補助構造体は、前記コアと同じ材料よりなる第2のダミーコアと、この第2のダミーコアの上に配置された第2の補助研磨停止層とを含み、
前記クラッド材料層を形成する工程では、前記第1のクラッド層、前記構造体、第1の補助構造体および第2の補助構造体を覆うように、前記クラッド材料層を形成し、
前記第1の研磨工程では、前記研磨停止層、第1の補助研磨停止層および第2の補助研磨停止層が露出するまで、前記クラッド材料層を研磨し、
前記研磨停止層を除去する工程では、前記研磨停止層の他に、前記第1および第2の補助研磨停止層を除去し、
前記コア材料層を形成する工程では、前記第1のクラッド層の上に、後に前記コアの他に第1のダミーコアおよび第2のダミーコアとなるコア材料層を形成し、
前記研磨停止層を形成する工程では、前記コア材料層の上に、前記研磨停止層の他に第1の補助研磨停止層および第2の補助研磨停止層を形成し、
前記コア材料層をエッチングする工程では、前記コア材料層がパターニングされて前記コアの他に第1のダミーコアおよび第2のダミーコアになるように、前記研磨停止層の他に第1の補助研磨停止層および第2の補助研磨停止層をマスクとして用いて前記コア材料層をエッチングすることを特徴とする請求項1記載の近接場光発生器の製造方法。 - 近接場光発生器に含まれる導波路の製造方法であって、
前記近接場光発生器は、前記導波路と、プラズモンジェネレータとを備え、
前記導波路は、光を伝播させるコアと、前記コアの周囲に配置されたクラッドとを有し、
前記コアは、下面と、その反対側の上面と、下面と上面とを接続する2つの側面とを有し、
前記クラッドは、前記コアの下面に接する第1のクラッド層と、前記コアの2つの側面に接する第2のクラッド層と、前記コアの上面に接する第3のクラッド層とを含み、
前記プラズモンジェネレータは、前記コアの上面より発生されるエバネッセント光と結合することによって表面プラズモンが励起されるプラズモン励起部と、前記表面プラズモンに基づいて近接場光を発生する前端面とを有し、前記コアの上面の上方に配置され、
前記導波路の製造方法は、
前記第1のクラッド層を形成する工程と、
前記第1のクラッド層の上に、前記コアと、前記コアの上面上に配置された研磨停止層とを含む構造体を形成する工程と、
前記第1のクラッド層と前記構造体を覆うように、後に前記第2のクラッド層となるクラッド材料層を形成する工程と、
前記研磨停止層が露出するまで、前記クラッド材料層を研磨する第1の研磨工程と、
前記第1の研磨工程の後で、前記クラッド材料層が、前記コアの上面よりも上方に突出した突出部を有する状態になるように、前記研磨停止層を除去する工程と、
前記研磨停止層を除去する工程の後で、前記突出部が除去されて、前記クラッド材料層が前記第2のクラッド層になるように、前記クラッド材料層を研磨する第2の研磨工程と、
前記第2の研磨工程の後で、前記第3のクラッド層を形成する工程とを備え、
前記構造体を形成する工程は、前記第1のクラッド層の上に、後に前記コアとなるコア材料層を形成する工程と、前記コア材料層の上に、前記研磨停止層を形成する工程と、前記コア材料層がパターニングされて前記コアになるように、前記研磨停止層をマスクとして用いて前記コア材料層をエッチングする工程とを含むことを特徴とする導波路の製造方法。 - 前記第1の研磨工程と前記第2の研磨工程は、化学機械研磨を用いて行われることを特徴とする請求項5記載の導波路の製造方法。
- 前記研磨停止層を除去する工程は、反応性イオンエッチングを用いて行われることを特徴とする請求項5記載の導波路の製造方法。
- 前記構造体を形成する工程では、前記構造体の他に、前記第1のクラッド層の上であって前記構造体を挟む位置に、それぞれ前記構造体に対して間隔をあけて、第1および第2の補助構造体を形成し、
前記第1の補助構造体は、前記コアと同じ材料よりなる第1のダミーコアと、この第1のダミーコアの上に配置された第1の補助研磨停止層とを含み、
前記第2の補助構造体は、前記コアと同じ材料よりなる第2のダミーコアと、この第2のダミーコアの上に配置された第2の補助研磨停止層とを含み、
前記クラッド材料層を形成する工程では、前記第1のクラッド層、前記構造体、第1の補助構造体および第2の補助構造体を覆うように、前記クラッド材料層を形成し、
前記第1の研磨工程では、前記研磨停止層、第1の補助研磨停止層および第2の補助研磨停止層が露出するまで、前記クラッド材料層を研磨し、
前記研磨停止層を除去する工程では、前記研磨停止層の他に、前記第1および第2の補助研磨停止層を除去し、
前記コア材料層を形成する工程では、前記第1のクラッド層の上に、後に前記コアの他に第1のダミーコアおよび第2のダミーコアとなるコア材料層を形成し、
前記研磨停止層を形成する工程では、前記コア材料層の上に、前記研磨停止層の他に第1の補助研磨停止層および第2の補助研磨停止層を形成し、
前記コア材料層をエッチングする工程では、前記コア材料層がパターニングされて前記コアの他に第1のダミーコアおよび第2のダミーコアになるように、前記研磨停止層の他に第1の補助研磨停止層および第2の補助研磨停止層をマスクとして用いて前記コア材料層をエッチングすることを特徴とする請求項5記載の導波路の製造方法。
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JP5603991B1 (ja) | プラズモンジェネレータの製造方法 |
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