JP5815790B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
また、第2実施態様に係る半導体装置の製造方法では、第1実施態様に係る半導体装置の製造方法において、第1ウェル及び第2ウェルを同時に形成する工程は、第2導電型の不純物を第1領域及び第2領域に同時に注入して第1ウェル及び第2ウェルを同時に形成する工程である。
また、第3実施態様に係る半導体装置の製造方法では、第1又は第2実施態様に係る半導体装置の製造方法において、第4ウェルは、第3ウェルよりも浅い拡散深さで形成されている。
18 半導体基板
20 制御回路用トランジスタ(増幅素子)
22 フォトダイオード(受光素子)
24 フォトダイオード(受光素子)
30 アクティブ領域
36 N型ウェル(拡散層)
38 P型ウェル(拡散層)
44 N型ウェル(拡散層)
46 P型ウェル(拡散層)
Claims (3)
- 第1導電型のシリコン支持基板と埋込み酸化膜層とシリコン層とが順次形成された半導体基板において前記埋込み酸化膜層上の前記シリコン層を有するアクティブ領域と前記埋込み酸化膜層及び前記シリコン層が除去された前記シリコン支持基板の受光素子領域とを形成する工程と、
前記受光素子領域の第1領域及び当該第1領域と並んで配置される第2領域において、前記シリコン支持基板に第1導電型と反対の第2導電型の不純物を注入して第1ウェル及び第2ウェルを同時に形成する工程と、
前記第1ウェルに第1導電型の不純物を注入して第3ウェルを形成し、前記第1ウェル及び前記第3ウェルを有する第1受光素子を形成する工程と、
前記第2ウェルに第1導電型の不純物を注入して前記第3ウェルと異なる拡散深さを有する第4ウェルを形成し、前記第2ウェル及び前記第4ウェルを有する第2受光素子を形成する工程と、
前記第1ウェル〜前記第4ウェルの接合深さを深くするドライブインを行う工程と、
前記ドライブインを行う工程の後に、前記アクティブ領域の前記シリコン層に増幅素子を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。 - 前記第1ウェル及び前記第2ウェルを同時に形成する工程は、前記第2導電型の不純物を前記第1領域及び第2領域に同時に注入して前記第1ウェル及び前記第2ウェルを同時に形成する工程である請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第4ウェルは、前記第3ウェルよりも浅い拡散深さで形成されている請求項1又は請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014093768A JP5815790B2 (ja) | 2014-04-30 | 2014-04-30 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009080534A Division JP2010232555A (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014143447A JP2014143447A (ja) | 2014-08-07 |
JP5815790B2 true JP5815790B2 (ja) | 2015-11-17 |
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ID=51424454
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2014093768A Active JP5815790B2 (ja) | 2014-04-30 | 2014-04-30 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5815790B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102630710B1 (ko) | 2015-12-31 | 2024-01-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 엑스레이 검출기용 어레이기판, 이를 포함하는 엑스레이 검출기, 엑스레이 검출기용 어레이기판의 제조방법 및 엑스레이 검출기의 제조방법 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6847878B2 (ja) * | 2017-09-15 | 2021-03-24 | 株式会社東芝 | 光検出器、光検出装置及びライダー装置 |
US11139326B2 (en) * | 2017-09-15 | 2021-10-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Photodetector, photodetection device, laser imaging detection and ranging apparatus |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3325538B2 (ja) * | 1999-04-06 | 2002-09-17 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 半導体集積回路装置の製造方法 |
JP2001339056A (ja) * | 2000-05-26 | 2001-12-07 | Canon Inc | 固体撮像装置 |
JP3717784B2 (ja) * | 2000-12-05 | 2005-11-16 | セイコーインスツル株式会社 | 光センサの製造方法 |
JP4654623B2 (ja) * | 2004-07-08 | 2011-03-23 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置の製造方法 |
JP2010232555A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Oki Semiconductor Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
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2014
- 2014-04-30 JP JP2014093768A patent/JP5815790B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR102630710B1 (ko) | 2015-12-31 | 2024-01-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 엑스레이 검출기용 어레이기판, 이를 포함하는 엑스레이 검출기, 엑스레이 검출기용 어레이기판의 제조방법 및 엑스레이 검출기의 제조방법 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014143447A (ja) | 2014-08-07 |
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