JP5806692B2 - リソグラフィ原版検査方法 - Google Patents
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Description
120 コピーテンプレート
130 拡大コピーテンプレート
11 光源
12 集光レンズ
13 XYステージ
14 対物レンズ
15 画像センサ
16 センサ回路
17 A/D変換器
18 ステージ制御回路
19 計算機
20 パターン展開回路
21 参照画像生成回路
22 欠陥検出回路
Claims (6)
- 第1アライメントマークを含む第1凹凸パターンを有する第1リソグラフィ原版に樹脂を塗布し、
前記樹脂を硬化し、
硬化した前記樹脂を前記第1リソグラフィ原版から剥離して前記第1凹凸パターンに対応する第2凹凸パターンを有する第2リソグラフィ原版を作製し、
前記第2リソグラフィ原版を拡大させ、
前記第1リソグラフィ原版の設計データから参照画像を生成し、前記第2リソグラフィ原版の拡大に伴う形状変化、前記第1凹凸パターンのパターン密度及びパターン種に基づいて前記参照画像を補正し、
拡大した前記第2リソグラフィ原版を撮像した画像と、補正された前記参照画像とを比較し、不一致箇所を欠陥として検出し、
前記第1アライメントマークの座標、及び拡大した前記第2リソグラフィ原版における前記第1アライメントマークに対応する第2アライメントマークの座標から前記第2リソグラフィ原版の拡大率を求め、
検出した欠陥の位置及び前記拡大率に基づいて、前記第1リソグラフィ原版における欠陥の位置を算出するリソグラフィ原版検査方法。 - 第1凹凸パターンを有する第1リソグラフィ原版に樹脂を塗布し、
前記樹脂を硬化し、
硬化した前記樹脂を前記第1リソグラフィ原版から剥離して前記第1凹凸パターンに対応する第2凹凸パターンを有する第2リソグラフィ原版を作製し、
前記第2リソグラフィ原版を拡大させ、
拡大した前記第2リソグラフィ原版における欠陥を検出し、
検出した欠陥の位置から、前記第1リソグラフィ原版における欠陥の位置を算出するリソグラフィ原版検査方法。 - 前記第1凹凸パターンには第1アライメントマークが含まれ、
前記第2凹凸パターンには、前記第1アライメントマークに対応する第2アライメントマークが含まれ、
前記第1アライメントマークの座標、及び拡大した前記第2リソグラフィ原版における前記第2アライメントマークの座標から前記第2リソグラフィ原版の拡大率を求め、
前記拡大率を用いて、前記第1リソグラフィ原版における欠陥の位置を算出することを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ原版検査方法。 - 拡大した前記第2リソグラフィ原版を撮像した画像と、前記第1リソグラフィ原版の設計データから生成される参照画像とを比較し、不一致箇所を欠陥として検出することを特徴とする請求項2又は3に記載のリソグラフィ原版検査方法。
- 前記第2リソグラフィ原版の拡大に伴う形状変化に基づいて、前記参照画像を補正することを特徴とする請求項4に記載のリソグラフィ原版検査方法。
- 前記第1凹凸パターンのパターン密度又はパターン種に基づいて、前記参照画像を補正することを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィ原版検査方法。
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