JP5805868B2 - ターゲットの位置データを格納するためのリソグラフィシステムおよび方法 - Google Patents
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Description
前記リソグラフィシステム内における前記ターゲットの位置を実質的に連続的に測定するステップと、
前記ターゲットの測定された位置と希望の位置との間のずれを修正するように前記ターゲットの変位を実質的に連続的にコントロールするステップを有しており、前記測定することと、前記測定することに基づいて前記アクチュエーターをコントロールすることとの間の最大待ち時間として第一の待ち時間が定められ、前記方法はまた、
ストレージシステム中の前記測定された位置を格納するステップを有しており、測定された位置を受信バッファーに受信することと、前記測定された位置を前記ストレージユニットに格納することとの間の平均待ち時間として第二の待ち時間が定められ、
前記第一の待ち時間は前記第二の待ち時間よりも少なくとも一桁小さく、
前記フィードバックコントロールシステムは、前記測定された位置を前記ストレージシステムに送信するための単方向コネクションを備えている。
Claims (27)
- 一つ以上の露出ビームを使用してターゲットにパターンを書くためのリソグラフィシステムであり、
前記システムは、フィードバックコントロールシステムを備えており、それは、前記リソグラフィシステム内において前記ターゲットを変位させるためのアクチュエーターと、前記リソグラフィシステム内における前記ターゲットの位置を連続的に測定するための測定システムと、前記測定システムによって測定された位置に基づいて前記アクチュエーターをコントロールするように適合されたコントロールユニットを備えており、前記フィードバックコントロールシステムは、前記測定することと、前記測定することに基づいて前記アクチュエーターを前記コントロールすることとの間の最大待ち時間として定められた第一の待ち時間を有しており、
前記システムはまた、前記測定された位置を格納するためのストレージシステムを備えており、前記ストレージシステムは、受信バッファーとストレージユニットを備えており、前記ストレージシステムは、測定された位置を受信バッファーに受信することと、前記測定された位置をストレージユニットに格納することとの間の平均待ち時間として定められた第二の待ち時間を有しており、
前記第一の待ち時間は前記第二の待ち時間よりも少なくとも一桁小さく、
前記フィードバックコントロールシステムは、前記測定された位置を前記ストレージシステムに送信するための単方向コネクションを備えており、前記フィードバックコントロールシステムは、前記ストレージシステムから独立した連続動作に適している、リソグラフィシステム。 - 前記ストレージシステムから前記フィードバックコントロールシステムにはデータまたは信号が送られない、請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ストレージシステムは、前記フィードバックコントロールシステムの外部にある、請求項1または請求項2に記載のリソグラフィシステム。
- 前記単方向コネクションは、ネットワークコネクションを備えている、請求項1〜3のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- マルチプルインプットと少なくとも一つのアウトプットを有しているネットワークスイッチをさらに備えており、前記インプットの少なくとも一つは、前記単方向コネクションを経由して前記フィードバックコントロールシステムに接続されており、前記アウトプットは、前記受信バッファーに接続されている、請求項4に記載のリソグラフィシステム。
- 前記単方向コネクションは、前記測定システムから前記スイッチへのコネクション、および/または、前記フィードバックコントロールシステムから前記スイッチへのコネクションを備えている、請求項5に記載のリソグラフィシステム。
- 前記マルチプルインプットの最大データ転送速度の合計は、前記少なくとも一つのアウトプットの最大データ転送速度よりも小さい、請求項5または請求項6に記載のリソグラフィシステム。
- 前記第一の待ち時間は多くとも200マイクロ秒であり、前記第二の待ち時間は少なくとも2000マイクロ秒である、請求項1〜7のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記測定システムによって測定された位置は、少なくとも二次元の位置である、請求項1〜8のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記単方向コネクションを通して使用者データグラムプロトコルを使用するように適合されている、請求項1〜9のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記ストレージシステムは、ターゲットを開始から終了まで処理するために必要とされる時間の少なくとも継続期間全体のあいだに、前記測定された位置を格納するように適合されている、請求項1〜10のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記位置は、5kHz以上のサンプリング周波数で測定される、請求項1〜11のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記受信バッファーは、前記受信バッファーがいっぱいのとき、前記フィードバックコントロールシステムからのデータを破棄するように適合されている、請求項1〜12のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記受信バッファーは第一の記憶容量を有しており、前記ストレージユニットは第二の記憶容量を有しており、前記第二の記憶容量は、前記第一の記憶容量よりも少なくとも三桁大きい、請求項1〜13のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記フィードバックコントロールシステムはさらに、前記単方向コネクションを経由して前記ストレージシステムに、コントロールデータ、タイムスタンプ、シーケンス番号、前記コントロールユニットの内部状態のデータ代表およびコントロールユニットタイミングセッティングの一つ以上を送信するように適合されている、請求項1〜14のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記ストレージシステムは、順序の乱れた前記データを受信するように適合されている、請求項1〜15のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 一つ以上の露出ビームを使用して、ターゲットにパターンを書くための光学カラムを備えており、前記光学カラムは、前記一つ以上の露出ビームを前記ターゲットに合焦させるための合焦アレイを備えている、請求項1〜16のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記測定システムは干渉計を備えている、請求項1〜17のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記リソグラフィシステム内において前記ターゲットが移動されながら前記パターンを書くように適合されている、請求項1〜18のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記一つ以上の露出ビームは、多くの荷電粒子ビームレットを備えている、請求項1〜19のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- 前記ストレージシステムの前記受信バッファーから前記ストレージユニットにデータが送信されるとき、前記ストレージシステムからデータを読むことは、前記フィードバックコントロールシステムの動作に影響を及ぼさない、請求項1〜20のいずれか一つに記載のリソグラフィシステム。
- リソグラフィシステム内において移動可能なターゲットの位置データを格納する方法であり、前記方法は、
前記リソグラフィシステム内における前記ターゲットの位置を連続的に測定するステップと、
前記ターゲットの測定された位置と希望の位置との間のずれを修正するように前記ターゲットの変位を連続的にコントロールするステップを有しており、前記測定することと、前記測定することに基づいて前記アクチュエーターをコントロールすることとの間の最大待ち時間として第一の待ち時間が定められ、前記方法はまた、
ストレージシステム中の前記測定された位置を格納するステップを有しており、測定された位置を受信バッファーに受信することと、前記測定された位置を前記ストレージユニットに格納することとの間の平均待ち時間として第二の待ち時間が定められ、
前記第一の待ち時間は前記第二の待ち時間よりも少なくとも一桁小さく、
前記フィードバックコントロールシステムは、前記測定された位置を前記ストレージシステムに送信するための単方向コネクションを備えている、方法。 - 前記コントロールすることは、前記格納することと独立しておこなわれる、請求項22に記載の方法。
- 測定された位置は、ターゲットを開始から終了まで処理するために必要とされる時間の少なくとも継続期間全体のあいだに格納される、請求項22または請求項23に記載の方法。
- 前記フィードバックコントロールシステムは、前記ストレージシステムから独立した連続動作に適している、請求項22〜24のいずれか一つに記載の方法。
- 前記ストレージシステムから前記フィードバックコントロールシステムにはデータまたは信号が送られない、請求項22〜25のいずれか一つに記載の方法。
- 前記ストレージシステムは、前記フィードバックコントロールシステムの外部にある、請求項22〜26のいずれか一つに記載の方法。
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US7230964B2 (en) * | 2001-04-09 | 2007-06-12 | Cymer, Inc. | Lithography laser with beam delivery and beam pointing control |
KR100545294B1 (ko) * | 2002-05-10 | 2006-01-24 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법, 성능측정방법,캘리브레이션 방법 및 컴퓨터 프로그램 |
JP4017935B2 (ja) * | 2002-07-30 | 2007-12-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | マルチビーム型電子線描画方法及び装置 |
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CN100470723C (zh) * | 2003-07-09 | 2009-03-18 | 株式会社尼康 | 曝光装置以及器件制造方法 |
TWI254190B (en) * | 2003-09-22 | 2006-05-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
JP2006064570A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-03-09 | Nikon Corp | 干渉計システム、干渉計システムにおける信号処理方法、該信号処理方法を用いるステージ |
JP2006078262A (ja) | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Nikon Corp | 位置検出装置、露光装置、計測システム及び位置検出方法 |
US7327437B2 (en) * | 2004-12-07 | 2008-02-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2006129711A1 (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-07 | Nikon Corporation | 評価システム及び評価方法 |
CN100526992C (zh) * | 2005-07-01 | 2009-08-12 | 株式会社尼康 | 曝光装置、曝光方法及设备制造方法 |
US7446854B2 (en) * | 2006-02-07 | 2008-11-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20070239390A1 (en) | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Yun Janet L | Low-power dissipation and monitoring method and apparatus in a measurement system |
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JP5279299B2 (ja) * | 2008-02-29 | 2013-09-04 | キヤノン株式会社 | 反復学習制御回路を備える位置制御装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2010262000A (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Orc Mfg Co Ltd | 描画装置 |
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