JP5523005B2 - 情報処理方法、及び情報処理装置 - Google Patents

情報処理方法、及び情報処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5523005B2
JP5523005B2 JP2009180053A JP2009180053A JP5523005B2 JP 5523005 B2 JP5523005 B2 JP 5523005B2 JP 2009180053 A JP2009180053 A JP 2009180053A JP 2009180053 A JP2009180053 A JP 2009180053A JP 5523005 B2 JP5523005 B2 JP 5523005B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transmission request
transmission
data
type
transmitted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009180053A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011034356A (ja
Inventor
大介 板井
広鏡 藤原
充宏 増田
邦貴 小澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2009180053A priority Critical patent/JP5523005B2/ja
Priority to US12/838,210 priority patent/US8516145B2/en
Publication of JP2011034356A publication Critical patent/JP2011034356A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5523005B2 publication Critical patent/JP5523005B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70525Controlling normal operating mode, e.g. matching different apparatus, remote control or prediction of failure
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70508Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70991Connection with other apparatus, e.g. multiple exposure stations, particular arrangement of exposure apparatus and pre-exposure and/or post-exposure apparatus; Shared apparatus, e.g. having shared radiation source, shared mask or workpiece stage, shared base-plate; Utilities, e.g. cable, pipe or wireless arrangements for data, power, fluids or vacuum

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

本発明は、デバイスを製造するためのデバイス製造装置が発生するデータを少なくとも1つの端末に送信する情報処理装置、情報処理方法およびプログラムに関する。
デバイスを製造するためのデバイス製造装置が発生するデータを情報処理装置が収集し、これをホストコンピュータ等の端末に送信するシステムがある。このようなシステムでは、デバイス製造装置の異常検知や状態監視、異常の原因分析などが行われうる。例えば半導体デバイスなどの微細デバイスを製造するために使用される露光装置では、それを構成するユニットの位置を補正するキャリブレーションや、パターンが描画されたレチクルとウエハとを位置を合わせするアライメントなどが実行されうる。
特許文献1には、クリーンルーム内に配置された複数の露光装置の稼動状態を収集して記憶する集中情報サーバをクリーンルーム外に配置したシステムが開示されている。
特開2001−203247号公報
上記のようなシステムにおいて、情報処理装置によって収集されたデータは、ホストコンピュータ等の端末からの送信要求に応答して当該端末に送信されうる。ここで、多数の送信要求が情報処理装置で受信されたときに無条件に当該多数の送信要求が受理されたとすると、例えば、送信要求を送信した端末は、当該送信要求に係るデータを即座に受信できるものとして当該データの受信を待ち続けることになる。この場合、端末またはその利用者は、受信したデータを分析して即座に分析結果をデバイス製造装置にフィードバックすることができないにも拘らず、それが可能であるものとしてデータの到来を待ち続けることになる。
本発明は、上記の課題認識を契機としてなされたものであり、例えば、端末側においてデータを長時間に渡って受信することができないにも拘らず端末側がデータの到来を待ち続けることを防止することを目的とする。
本発明の1つの側面は、デバイスを製造するためのデバイス製造装置が発生するデータを少なくとも1つの端末に送信する情報処理装置に係り、前記情報処理装置は、前記少なくとも1つの端末と通信する通信部と、前記通信部が前記少なくとも1つの端末から受信した送信要求を受理し又は拒否する送信要求処理部と、前記送信要求処理部によって受理された送信要求に応答して前記少なくとも1つの端末のうち当該送信要求を送信した端末に対して当該送信要求に係るデータを送信するように前記通信部を制御する送信制御部とを備え、前記送信要求は、その種類として、第1種送信要求と、第2種送信要求とを含み、前記第1種送信要求は、それに応答して送信すべきデータが前記情報処理装置において準備される度に当該データを前記第2種送信要求に係るデータよりも優先して送信することを要求するものであり、前記第2種送信要求は、前記通信部から並行して送信されるデータのそれぞれの送信速度の合計が許容送信速度を超えている場合に当該第2種送信要求に係るデータの送信が一次的に保留されることを許容するものであり、前記送信要求処理部は、前記通信部が前記少なくとも1つの端末のいずれかから新たな第1種送信要求を受信した場合に、前記送信要求処理部が既に受理した送信要求に応答して前記通信部から並行して送信されるデータのそれぞれの送信速度と当該新たな第1種送信要求に応答してデータを送信する送信速度との合計が前記許容送信速度を超えない場合には当該新たな第1種送信要求を受理し、そうでない場合には当該新たな第1種送信要求を拒否し、前記送信要求処理部は、前記通信部が前記少なくとも1つの端末のいずれかから新たな第2種送信要求を受信した場合に、前記送信要求処理部が既に受理した送信要求に応答して前記通信部から並行して送信されるデータのそれぞれの送信速度および当該新たな第2種送信要求に応答してデータを送信する送信速度とは無関係に、当該新たな第2種送信要求を受理し、前記通信部から送信されるデータの送信速度は、単位時間当りに前記通信部から送信されるデータの量である。
本発明によれば、例えば、端末側においてデータを長時間に渡って受信することができないにも拘らず端末側がデータの到来を待ち続けることを防止することができる。
デバイス製造装置の一例としての露光装置の構成例を示す図である。 本発明の一実施形態としてのデバイス製造システムの概略構成を示す図である。 情報処理装置における送信要求処理を例示するフローチャートである。 データの送信要求に含まれる情報を例示する図である。 情報処理装置が端末に提供する装置データ定義を例示する図である。 情報処理装置における送信制御処理を例示するフローチャートである。
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明する。
[第1実施形態]
図2は、本発明の一実施形態としてのデバイス製造システムの概略構成を示す図である。デバイス製造システム101は、1または複数のデバイス製造装置としての1または複数の露光装置100と、情報処理装置200と、1または複数の端末220とを備えている。露光装置100と情報処理装置200とは、通信路(例えば、LAN等のネットワーク)232を介して接続されている。情報処理装置200と端末220とは、通信路(例えば、LAN等のネットワーク)234を介して接続されている。ここで、デバイス製造装置の一例として露光装置100を挙げている。しかし、デバイス製造装置は、デバイスを製造するためのあらゆる装置(例えば、レジスト塗布装置、現像装置、検査装置、成膜装置、エッチング装置、洗浄装置、アッシング装置、搬送装置など)でありうる。また、デバイスは、例えば、半導体デバイス、表示デバイス、磁気デバイス、マイクロマシン等、の製造されうるあらゆる物品でありうる。
図1は、デバイス製造装置の一例としての露光装置100の構成例を示す図である。露光装置100は、リソグラフィー工程における露光工程で使用される。この実施形態では、露光装置100は、走査露光装置とし構成されている。光源1から提供される光束は、照明光学系2で形状、光量分布が調整され、レチクルステージ6に保持されたレチクル(原版)3を照明する。レチクル3のパターンは、投影光学系4によって、ウエハステージ7上のウエハ吸着チャック8によって保持されたウエハ(基板)5に塗布されている感光剤(レジスト)に投影される。これにより、感光剤に潜像パターンが形成される。転写は、ウエハ上に配列された複数のショット領域のそれぞれに対してなされる。潜像パターンは、現像工程において現像されて、マスクパターン(レジストパターン)となる。
照明光学系2には、例えば、コヒーレンスファクタσ値を設定するための円形開口面積が異なる複数の開口絞りが備えられうる。照明光学系2には、更に、輪帯照明用のリング形状絞り、4重極絞り、照明光量を調整するための機構(例えば、複数のNDフィルタ及びそれを切り替える機構)が備えられうる。照明光学系2には、更に、光量を計測する光量検出器、光束の形状を決めるスリット、照明範囲を確保するためにレチクル3と共役な位置に載置されたブラインド及びそれを駆動する駆動機構が備えられうる。光源1と照明光学系2は、光源制御系21の指示によって動作が制御される。
投影光学系4には、開口数を設定するための開口数設定機構や、収差を補正するためのレンズ駆動機構が備えられうる。投影光学系4は投影光学系制御系24によって動作が制御される。レチクルステージ6の位置は、レチクルステージ計測系10によって、該光軸に直交する面内における直交する2つの軸方向(即ち、X、Y方向)の位置、並びに、これらの軸周り回転が計測され、レチクルステージ制御系22によって制御される。
また、照明光学系2とレチクルステージ6の間には、TTR(Through The Reticle)観察光学系9が配置されている。TTR観察光学系9は、レチクル3上のマーク、または、レチクルステージ6に設置されるステージ基準マークと、ウエハステージ7上のステージ基準マークまでを投影光学系4を介して同時に観測および計測することができる。これによりレチクルステージ6、レチクル3、ウエハステージ7の投影光学系4の光軸方向(即ち、Z方向)における位置、該光軸に直交する面内における直交する2つの軸方向(即ち、X、Y方向)の位置、並びに、これらの軸周り回転を計測することができる。
ウエハ5の位置は、ウエハステージ計測系12及びアライメント計測系30よって計測されうる。ウエハステージ計測系12は、例えば、投影光学系4の光軸方向(即ち、Z方向)、該光軸に直交する面内における直交する2つの軸方向(即ち、X、Y方向)の位置、並びに、これらの軸周りの回転を計測する。アライメント計測系30は、投影光学系4の光軸方向(Z方向)におけるウエハ5の表面位置を計測する。ウエハステージ制御系25は、ウエハステージ計測系12及びアライメント計測系30から提供される情報に基づいてウエハステージ7の位置を制御する。
露光装置100はまた、ウエハ5の表面を非露光光で観察および計測することが可能なオフアクシス観察光学系11を備えている。オフアクシス観察光学系11は、ウエハ5に形成されている複数のマークの位置を計測し、レチクル3のパターンをウエハ5上のパターンに重ねて転写することができるように、ウエハ5上のパターン位置と形状を決定する。オフアクシス観察光学系11はまた、ウエハステージ7上のステージ基準マークの位置を計測する。
スリット状の照明光束でレチクル3の全てのパターンをウエハ5に配列されたショット領域に転写するため、レチクルステージ6によって保持されたレチクル3は、図1に示された走査方向に駆動される。それと同時に、ウエハステージ7によって保持されたウエハ5も、図1に示された走査方向に駆動される。ここで、レチクル3とウエハ5は、投影光学系4の投影倍率に応じた速度比で駆動される。レチクル3とウエハ5との相対位置がずれると、ウエハ5のショットには変形したパターンが転写される。そこで、主制御系27は、レチクル3とウエハ5との相対位置ずれを計算し、その相対位置ずれがゼロになるようにレチクルステージ制御系22及びウエハステージ制御系25を制御する。
露光装置100はまた、レチクルライブラリ14、レチクルロボット13を含むレチクル搬送ユニット、および、レチクル3をレチクルステージ6に位置決めするレチクルアライメントユニット29を備える。レチクル搬送ユニットは、レチクル搬送制御系19からの指示により動作する。また、また、露光装置100は、ウエハカセットエレベータ16やウエハ搬入出ロボット15などから構成されるウエハ搬送ユニットを備える。ウエハ搬送ユニットはウエハ搬送制御系26の指示により動作する。チャンバ環境制御部31は、主に、空気の温度を調整と、微小異物を濾過する空気清浄を行ない、露光装置100のチャンバ内の環境を一定に保つ。チャンバ環境制御部31は、チャンバ制御系18からの指示により動作する。
主制御系27は、露光装置100の構成要素、例えば、チャンバ制御系18、レチクル搬送制御系19、ウエハ搬送制御系26、レチクルステージ制御系22、ウエハステージ制御系25、光源制御系21、投影光学系制御系24等を制御する。主制御系27は、通信インターフェイス17を介して、露光装置100の露光動作を定義する設定パラメータ、又は動作指示を受信し、それに基づいて露光装置100の各構成要素を制御する。
露光処理は、露光装置100の動作を定義するジョブパラメータに従って実行される。ジョブパラメータは、例えば、工程名(ジョブ名)、ロットID、ショット範囲、ショット配列、各ショット番号、露光量、露光走査速度、露光走査方向、露光装置を構成するユニットのキャリブレーション項目、ウエハ及びショットのアライメント方式、等を含む。
露光装置100は、種々の動作においてデータを発生する。この実施形態では、主制御系27は、露光処理やその他の処理における露光装置100の動作を記録したデータを出力するように構成されている。データとしては、例えば、各ユニットの動作の開始/終了時刻、処理対象を特定するロット認識ID・ウエハ番号・ショット番号、処理に対するジョブパラメータなど設定値を挙げることができる。データとしてはまた、キャリブレーションやアライメントにおける各計測値、アライメント結果、露光制御結果、スキャン動作制御結果を挙げることができる。データとしては、その他、例えば、露光装置100で発生したエラーイベント、露光装置内外の気圧、温度を挙げることができる。
図2を参照しながら説明を続ける。情報処理装置200は、デバイス製造装置としての露光装置100が発生するデータを少なくとも1つの端末220に送信するように構成される。情報処理装置200は、通信部206、送信要求処理部205、送信制御部201、抽出部211および記憶部202を含みうる。通信部206、送信要求処理部205、送信制御部201および抽出部211は、ハードウエア回路として構成されうる。或いは、コンピュータにソフトウエハ(プログラム)を組み込むことによって、該コンピュータを通信部206、送信要求処理部205、送信制御部201、抽出部211を含む情報処理装置200として機能させてもよい。
通信部206は、通信路234を介して、少なくとも1つの端末220と通信する。送信要求処理部205は、通信部206が少なくとも1つの端末220から受信した送信要求を受理し又は拒否する。送信要求処理部205は、通信部206が少なくとも1つの端末220のいずれかから新たな送信要求を受信した場合に、次のような送信要求処理を実行する。送信要求処理は、合計の送信速度が予め設定されている許容送信速度を超えない場合には当該新たな送信要求を受理し、そうでない場合には当該新たな送信要求を拒否する処理である。ここで、合計の送信速度は、送信要求処理部205が既に受理した送信要求に応答して通信部206から並行して送信される全てのデータのそれぞれの送信速度と当該新たな送信要求に応答してデータを送信するときの送信速度とを合計したものである。また、通信部206から送信されるデータの送信速度とは、単位時間当りに通信部206から送信されるデータの量であり、例えば、抽出部211から通信部206に単位時間当りに提供される送信用のデータの量に依存しうる。また、許容送信速度は、通信部206または通信路234が有する最大送信速度であってもよいし、それより低い速度であってもよい。許容送信速度は、例えば、予め情報処理装置200或いは通信部206に設定されうる。この設定は、例えば、情報処理装置200の管理者によって任意になされうる。
送信制御部201は、送信要求処理部205によって受理された送信要求に応答して少なくとも1つの端末220のうち当該送信要求を送信した端末220に対して当該送信要求に係るデータを送信するように通信部206を制御する。送信要求には、送信を要求するデータを特定するためのデータ特定情報が含まれる。抽出部211は、露光装置100が発生したデータからデータ特定情報によって特定されるデータを抽出して、抽出したデータが送信要求の送信元の端末220に送信されるように通信部206に提供する。通信部206は、提供されたデータを当該送信元の端末220に送信する。
端末220は、情報処理装置200から送信されてくるデータに基づいて、露光装置100における異常を検知したり、露光装置100の状態を監視したり、異常の原因を分析したりしうる。また、端末220は、デバイス毎のプロセスにおける問題を解析したり、プロセス設定(APC:Advance Process Control)をしたり、露光処理の次の処理への情報提供を行ったりしうる。
例えば、異常の検知に関しては、照明光学系2の光量計測器の出力を逐次モニターし、光量に正常範囲を超える変化が生じた場合に異常が発生したものと判断することができる。このような異常の検知に応じて露光装置100を調整することによって、不良品の発生を抑えることができる。この場合、露光装置100において計測されたデータは、情報処理装置200によって速やかに収集され端末220に送信されるべきである。もし、データの収集および送信が滞ると不良品を大量に発生させる可能性があるため、このデータは、優先的に端末220に送信されるべきである。
露光装置100において発生した異常の原因は、デバイスの検査工程で異常が発見されたロットを露光装置100が処理したときの露光装置100の各種の計測器(例えば、9、10、11、12、30)の出力を分析することによって特定されうる。さらには、異常が発生する前の数日間、数週間における計測器の出力を分析することによって異常が発生した時期を特定することができる。この場合、露光装置100が発生した過去のデータを分析するために膨大なデータを情報処理装置200から端末220に送信する必要がある。しかし、このように原因の特定に長時間を要するような分析においては、異常への対応を速やかに行うことができる場合に比べて、端末220へのデータの送信の遅延が許容されうる。つまり、データの利用目的により、端末220への送信が優先されるべきデータとそうでないものとがある。
端末220は、例えば、プロセスにおける異常を分析したり、それを露光装置100にフィードバックしたりする目的で、露光装置100が発生したデータを端末220に送信するように情報処理装置200に要求する。異常の分析では、様々な計測結果を掛け合わせるなどするため、複数のデータ項目のデータが必要になりうる。情報処理装置200は、端末220に送信することができるデータとして、どのようなデータ項目のデータがあるのかを示す装置データ定義を通信路232を介して端末220へ予め提示することができる。図5は、情報処理装置200が端末220に提供する装置データ定義を例示している。端末220の利用者は、分析において必要なデータを特定するデータ項目を任意に指定して、それによって特定されるデータを端末220に送信するように情報処理装置200に要求することができる。
図4は、データの送信要求に含まれる情報を例示している。データの送信要求は、通信路234を介して端末220から情報処理装置200に送信される。図4には、5つの送信要求が例示されている。送信要求は、データ特定情報として、データ項目名によってデータを特定する情報401と、データの発生時刻によってデータを特定する情報402とを含みうる。データの発生時刻によってデータを特定する情報402は、過去の指定された期間内に発生したデータまたは逐次発生するデータを示す情報を含みうる。図4において、前者は、指定された期間を示す情報(例えば、2008/4/1〜2008/4/7)として例示され、後者は、「逐次」として例示されている。送信要求はまた、その種類および優先度を示す情報403を含みうる。データの送信要求は、図4に例示されるように、当該送信要求を特定する番号(識別子)を含みうる。分析の目的により、1つの送信要求に複数のデータ項目を含めることができる。
送信要求は、その種類として、第1種送信要求と、第2種送信要求とを含みうる。ここで、第1種送信要求は、それに応答して送信すべきデータが情報処理装置200において準備される度に当該データを第2種送信要求に係るデータよりも優先して送信することを要求するものでありうる。第2種送信要求は、通信部206から並行して送信される全てのデータのそれぞれの送信速度の合計が許容送信速度を超えている場合に当該第2種送信要求に係るデータの送信が一次的に保留されることを許容するものでありうる。第2種送信要求は、それに応答するデータの送信に関する優先度を含みうる。情報403は、送信要求が第1種送信要求であるか否か、および、送信要求が第2種送信要求である場合における優先度を示す。図4において、「第1種」は、送信要求が第1種送信要求であることを示し、「1」、「2」、「3」は、送信要求が第2種送信要求であること、および、その優先度を示す。この実施形態では、小さい数字が高い優先度を示す。
図3は、情報処理装置200における送信要求処理を例示するフローチャートである。ステップS301では、通信部206は、通信路234を介して端末220から送信要求を受信し、送信制御部201は、通信部206によって送信要求が受信されたことを通信部206からの通知により認識しうる。ステップS302では、送信要求処理部205は、通信部206が受信した送信要求が第1種送信要求であるか第2種送信要求であるかを、当該送信要求に含まれる情報403を参照することにより、判断する。そして、送信要求処理部205は、送信要求が第1種送信要求である場合には処理をステップS303に進め、送信要求が第2種送信要求である場合には処理をステップS306に進める。ステップS306では、送信要求が受理される。よって、この実施形態では、送信要求が第2種送信要求である場合には、無条件に、或いは、後述の合計の送信速度とは無関係に、ステップS306において、当該送信要求が受理される。
第1種送信要求は、例えば、露光装置100において発生したデータが即座かつ確実にそれを要求する端末220に送信されるべき場合に有用な送信要求である。例えば、露光装置100において発生したデータを端末220において分析し、その結果を露光装置100に即座にフィードバックすべき場合には、端末220は、送信要求として第1種送信要求を情報処理装置200に対して送信すべきである。これにより、端末220は、合計の送信速度が許容送信速度を超えていない場合には、露光装置100において発生し情報処理装置200に準備されたデータを即座かつ確実に情報処理装置200から受信することができる。
一方、合計の送信速度が許容送信速度を超えている場合には、当該第1種送信要求に係るデータを端末220に対して即座かつ確実に送信することができない。このような場合には、端末220またはその利用者は、受信したデータを分析して即座にその分析結果を露光装置100にフィードバックすることができないにも拘らず、それが可能であるものとしてデータの到来を待ち続けることになる。そこで、送信要求処理部205は、このような場合には、合計の送信速度が許容送信速度を超えている場合には、第1種送信要求を拒否する。これにより、端末220またはその利用者は、分析のためのデータをその発生の後に即座に得ることができないことを認識することができる。ここで、合計の送信速度とについで再び説明する。合計の送信速度は、送信要求処理部205が既に受理した送信要求に応答して通信部206から並行して送信される全てのデータのそれぞれの送信速度(例えば、ra1、ra2、ra3・・・rnとする。)と当該新たな送信要求に応答してデータを送信するときの送信速度(例えば、rbとする。)との合計(rb+ra1+ra2+ra3+・・・+rn)である。
ステップS303では、送信要求処理部205は、ステップS301で通信部206が受信した新たな送信要求に応答して送信要求元の端末220に対して単位時間当りに送信されるデータの量であるデータ送信速度(rb)を計算する。ステップS304では、送信要求処理部205は、送信要求処理部205が既に受理した送信要求に応答して通信部206から並行して送信される全てのデータのそれぞれの送信速度(ra1、ra2、ra3・・・rn)を計算する。
ステップS305では、送信要求処理部205は、合計の送信速度(rb+ra1+ra2+ra3+・・・+rn)を計算し、当該合計の送信速度が予め設定されている許容送信速度を超える否かを判断する。そして、送信要求処理部205は、当該合計の送信速度が予め設定されている許容送信速度を超えない場合には、ステップS306において、送信要求(この場合は、第1種送信要求)を受理する。送信要求を受理した場合には、送信要求処理部205は、当該送信要求を発した端末220に対して通信部206を介してそのことを通知しうる。一方、当該合計の送信速度が予め設定されている許容送信速度を超える場合には、送信要求処理部205は、ステップS307において、送信要求(この場合は、第1種送信要求)を拒否する。送信要求を拒否する場合には、送信要求処理部205は、当該送信要求を発した端末220に対して通信部206を介してそのことを通知する。
送信要求処理部205は、例えば、ステップ303において計算したデータの送信速度を送信要求に送信元の端末220に通知してもよい。このような通知により、端末220は、送信要求が拒否された場合に、拒否された送信要求に代えて、より送信速度が小さくなるようなデータの送信を要求する送信要求を情報処理装置200に送信することができる。
ステップS303、S304における送信速度の計算において、送信要求処理部205は、露光装置(デバイス製造装置)100が単位時間当りに発生する該当する送信要求に係るデータの量を当該データの送信速度とすることができる。ここで、送信速度は、例えば、単位時間当りに発生するレポート数で表現されうる。レポートは、露光装置(デバイス製造装置)100で発生する1つの事象に関る情報の集合である。事象は、例えば、データ項目名501で特定され、例えば、ウエハ単位、ショット単位で発生しうる。1つの事象に関る情報の集合は、その内容がデータ内容502で特定され、例えば、当該事象に関る処理が発生した時刻やショットを特定するショット番号、処理結果である計測値を含みうる。露光装置100において単位時間当たりに発生するレポート数は予測が可能であり、例えば、データ項目名501毎に、発生粒度503に基づいて計算することができる。例えば、ウエハ位置などウエハ毎に計測されるデータや、ショット露光量などショット毎に計測されるデータは、それぞれ発生粒度をウエハ単位、ショット単位とすることができる。そして、露光装置100が単位時間当たりに露光処理できるウエハ数若しくはショット数に基づいて単位時間当たりのレポート数を計算することができる。露光装置100におけるウエハ、ショットの処理量は、露光装置100の仕様や、露光処理のレシピ、稼動実績などに基づいて決定することができる。また、温度や気圧などの計測は、露光装置100で設定された周期で定期的になされるため、その周期から単位時間当たりのレポート数を計算することができる。或いは、送信速度は、単位時間当たりに送信されるデータのバイト数で表現されてもよい。
送信要求処理部205は、ステップS303において送信要求処理部205が送信要求に係るデータの送信速度を計算する代わりに、当該送信要求に含まれる送信速度情報を使用してもよい。この場合、端末220は、送信要求処理部205は、露光装置(デバイス製造装置)100が単位時間当りに発生する該当する送信要求に係るデータの量を送信速度とすることができ、その計算は、上記の例に従いうる。
図6は、情報処理装置200における送信制御処理を例示するフローチャートである。露光装置100が発生するデータは、通信路232を介して情報処理装置200に送信され、記憶部202に格納される。
ステップS601では、送信制御部201は、送信要求のうちデータの送信が完了していない送信要求に係るデータ(以下、未処理データ)の送信が可能であるか否かを判断する。ここで、未処理データおよび現時点で送信中のデータのそれぞれの送信速度の合計が許容送信速度を超えない場合に、未処理データの送信が可能であると判断される。未処理データの送信が可能である場合には、送信制御部201は、ステップS605において、通信部206に当該未処理データを送信要求の送信元の端末220に送信させる。一方、未処理データの送信が可能ではない場合には、送信制御部201は、ステップS602に処理を進める。
ステップS602では、送信制御部201は、未処理データが第1種送信要求に係るデータまたは送信中のデータよりも優先度の高い送信要求に係るデータであるか否かを判断する。ここで、前述のように、第1種送信要求に係るデータの送信は、第2種送信要求に係るデータの送信よりも優先される。つまり、第1種送信要求の方が第2種送信要求よりも優先度が高い。また、第2種送信要求間には、図4に例示されるように優先度が与えられている。送信制御部201は、未処理データが第1種送信要求に係るデータまたは送信中のデータよりも優先度の高い送信要求に係るデータである場合にはステップS603に処理を進め、そうではない場合にはステップS604に処理を進める。
ステップS603では、送信制御部201は、未処理データよりも優先度が低いデータ(このようなデータは、全て第2種送信要求に係るデータ)の送信を一時的に保留する。その後、送信制御部201は、その保留によって生じた余裕を使ってステップS605において、通信部206に当該未処理データを送信要求の送信元の端末220に送信させる。この際に、送信制御部201は、一時的に送信を保留したデータ(第2種送信要求に係るデータ)の送信を要求した端末220に対して、当該データの送信を一時的に保留したことを通信部206を介して通知しうる。つまり、送信制御部201は、そのことを、当該第2種送信要求を送信した端末220に対して通信部206を介して通知しうる。
一方、ステップS604では、送信制御部201は、未処理データの送信を一時的に保留し、処理をS602に戻す。この際に、送信制御部201は、当該未処理データについて送信要求を発した端末220に、当該未所データの送信を一時的に保留したことを通信部206を介して通知しうる。
ステップS602〜S604における送信制御部201の処理により、送信要求処理部205によって受理された複数の第2種送信要求に係るデータについては、与えられた優先度が高い順に送信される。また、第1種送信要求に加係るデータについては、第2種送信要求に係るデータよりも優先的に送信される。
[捕捉]
情報処理装置200の通信部206から端末220へのデータの送信速度は、通信部206を直接に制御することによってなされてもよいし、抽出部211によるデータの抽出速度を制御することによってなされてもよい。抽出部211によるデータの抽出速度を制御することにより、抽出部211から通信部206に提供される単位時間当りのデータの量を制御することができ、これにより通信部206によるデータの送信速度が間接的に制御されうる。

Claims (8)

  1. デバイスを製造するためのデバイス製造装置が発生するデータを少なくとも1つの端末に送信する情報処理装置であって、
    前記少なくとも1つの端末と通信する通信部と、
    前記通信部が前記少なくとも1つの端末から受信した送信要求を受理し又は拒否する送信要求処理部と、
    前記送信要求処理部によって受理された送信要求に応答して前記少なくとも1つの端末のうち当該送信要求を送信した端末に対して当該送信要求に係るデータを送信するように前記通信部を制御する送信制御部とを備え、
    前記送信要求は、その種類として、第1種送信要求と、第2種送信要求とを含み、
    前記第1種送信要求は、それに応答して送信すべきデータが前記情報処理装置において準備される度に当該データを前記第2種送信要求に係るデータよりも優先して送信することを要求するものであり、
    前記第2種送信要求は、前記通信部から並行して送信されるデータのそれぞれの送信速度の合計が許容送信速度を超えている場合に当該第2種送信要求に係るデータの送信が一次的に保留されることを許容するものであり、
    前記送信要求処理部は、前記通信部が前記少なくとも1つの端末のいずれかから新たな第1種送信要求を受信した場合に、前記送信要求処理部が既に受理した送信要求に応答して前記通信部から並行して送信されるデータのそれぞれの送信速度と当該新たな第1種送信要求に応答してデータを送信する送信速度との合計が前記許容送信速度を超えない場合には当該新たな第1種送信要求を受理し、そうでない場合には当該新たな第1種送信要求を拒否し、
    前記送信要求処理部は、前記通信部が前記少なくとも1つの端末のいずれかから新たな第2種送信要求を受信した場合に、前記送信要求処理部が既に受理した送信要求に応答して前記通信部から並行して送信されるデータのそれぞれの送信速度および当該新たな第2種送信要求に応答してデータを送信する送信速度とは無関係に、当該新たな第2種送信要求を受理し、
    前記通信部から送信されるデータの送信速度は、単位時間当りに前記通信部から送信されるデータの量である、
    ことを特徴とする情報処理装置。
  2. 前記第2種送信要求は、それに応答するデータの送信に関する優先度を含み、
    前記送信制御部は、第1種送信要求に係るデータが第2種送信要求に係るデータよりも優先して送信されるように制御し、
    前記送信制御部は、前記送信要求処理部によって受理された複数の第2種送信要求に係るデータについては、与えられた優先度が高い順に送信されるように制御する、
    ことを特徴とする請求項に記載の情報処理装置。
  3. 前記送信制御部は、第2種送信要求に係るデータの送信が第1種送信要求又は他の第2種送信要求に係るデータの送信を優先させるために遅れる場合に、そのことを、当該第2種送信要求を送信した端末に対して前記通信部を介して通知することを特徴とする請求項1又は2に記載の情報処理装置。
  4. 前記送信制御部は、送信要求を送信してきた端末に対して、前記通信部を介して、当該送信要求に応答して送信すべきデータの送信速度を通知することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の情報処理装置。
  5. 前記送信要求処理部は、送信要求に係るデータの送信速度として、前記デバイス製造装置が単位時間当りに発生する前記送信要求に係るデータの量を使用する、
    ことを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の情報処理装置。
  6. 前記送信要求処理部は、送信要求に係るデータの送信速度として、当該送信要求に含まれる送信速度情報を使用する、
    ことを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の情報処理装置。
  7. デバイスを製造するためのデバイス製造装置が発生するデータを少なくとも1つの端末に送信する情報処理装置における情報処理方法であって、
    前記少なくとも1つの端末からの送信要求を受理し又は拒否する送信要求処理工程と、
    前記送信要求処理工程で受理された送信要求に応答して前記少なくとも1つの端末のうち当該送信要求を送信した端末に対して当該送信要求に係るデータを前記情報処理装置から送信する送信工程とを含み、
    前記送信要求は、その種類として、第1種送信要求と、第2種送信要求とを含み、
    前記第1種送信要求は、それに応答して送信すべきデータが前記情報処理装置において準備される度に当該データを前記第2種送信要求に係るデータよりも優先して送信することを要求するものであり、
    前記第2種送信要求は、前記情報処理装置が並行して送信されるデータのそれぞれの送信速度の合計が許容送信速度を超えている場合に当該第2種送信要求に係るデータの送信が一次的に保留されることを許容するものであり、
    前記送信要求処理工程では、前記少なくとも1つの端末のいずれかから新たな第1種送信要求を受信した場合に、前記送信要求処理工程で既に受理した送信要求に応答して前記情報処理装置が並行して送信するデータのそれぞれの送信速度と当該新たな第1種送信要求に応答して前記情報処理装置がデータを送信する送信速度との合計が前記許容送信速度を超えない場合には当該新たな第1種送信要求を受理し、そうでない場合には当該新たな第1種送信要求を拒否し、
    前記送信要求処理工程では、前記少なくとも1つの端末のいずれかから新たな第2種送信要求を受信した場合に、前記送信要求処理工程で既に受理した送信要求に応答して前記情報処理装置が並行して送信するデータのそれぞれの送信速度および当該新たな第2種送信要求に応答して前記情報処理装置がデータを送信する送信速度とは無関係に、当該新たな第2種送信要求を受理し、
    前記情報処理装置から送信されるデータの送信速度は、単位時間当りに前記情報処理装置から送信されるデータの量である、
    ことを特徴とする情報処理方法。
  8. デバイスを製造するためのデバイス製造装置が発生するデータを少なくとも1つの端末に送信する情報処理装置としてコンピュータを機能させるためのプログラムであって、前記プログラムは、前記コンピュータを、
    前記少なくとも1つの端末と通信する通信部と、
    前記通信部が前記少なくとも1つの端末から受信した送信要求を受理し又は拒否する送信要求処理部と、
    前記送信要求処理部によって受理された送信要求に応答して前記少なくとも1つの端末のうち当該送信要求を送信した端末に対して当該送信要求に係るデータを送信するように前記通信部を制御する送信制御部とを備える情報処理装置として機能させ、
    前記送信要求は、その種類として、第1種送信要求と、第2種送信要求とを含み、
    前記第1種送信要求は、それに応答して送信すべきデータが前記情報処理装置において準備される度に当該データを前記第2種送信要求に係るデータよりも優先して送信することを要求するものであり、
    前記第2種送信要求は、前記通信部から並行して送信されるデータのそれぞれの送信速度の合計が許容送信速度を超えている場合に当該第2種送信要求に係るデータの送信が一次的に保留されることを許容するものであり、
    前記送信要求処理部は、前記通信部が前記少なくとも1つの端末のいずれかから新たな第1種送信要求を受信した場合に、前記送信要求処理部が既に受理した送信要求に応答して前記通信部から並行して送信されるデータのそれぞれの送信速度と当該新たな第1種送信要求に応答してデータを送信する送信速度との合計が前記許容送信速度を超えない場合には当該新たな第1種送信要求を受理し、そうでない場合には当該新たな第1種送信要求を拒否し、
    前記送信要求処理部は、前記通信部が前記少なくとも1つの端末のいずれかから新たな第2種送信要求を受信した場合に、前記送信要求処理部が既に受理した送信要求に応答して前記通信部から並行して送信されるデータのそれぞれの送信速度および当該新たな第2種送信要求に応答してデータを送信する送信速度とは無関係に、当該新たな第2種送信要求を受理し、
    前記通信部から送信されるデータの送信速度は、単位時間当りに前記通信部から送信されるデータの量である、
    ことを特徴とするプログラム。
JP2009180053A 2009-07-31 2009-07-31 情報処理方法、及び情報処理装置 Active JP5523005B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009180053A JP5523005B2 (ja) 2009-07-31 2009-07-31 情報処理方法、及び情報処理装置
US12/838,210 US8516145B2 (en) 2009-07-31 2010-07-16 Information processing method and information processing apparatus for transmitting data generated by device manufacturing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009180053A JP5523005B2 (ja) 2009-07-31 2009-07-31 情報処理方法、及び情報処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011034356A JP2011034356A (ja) 2011-02-17
JP5523005B2 true JP5523005B2 (ja) 2014-06-18

Family

ID=43528050

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009180053A Active JP5523005B2 (ja) 2009-07-31 2009-07-31 情報処理方法、及び情報処理装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8516145B2 (ja)
JP (1) JP5523005B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2732341B1 (en) * 2011-07-11 2016-11-30 Mapper Lithography IP B.V. Lithography system and method for storing positional data of a target
JP7002554B2 (ja) * 2017-09-20 2022-01-20 シャープ株式会社 空気清浄機およびネットワークシステム
US11693326B1 (en) * 2022-03-11 2023-07-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System and method for dynamically controlling temperature of thermostatic reticles

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0348553A (ja) * 1989-04-21 1991-03-01 Toshiba Corp パケット交換網の通信資源割り当て方式
JPH08163271A (ja) * 1994-12-02 1996-06-21 Hitachi Ltd 通信システムの帯域管理方法
JP2001203247A (ja) 2000-01-19 2001-07-27 Mitsubishi Electric Corp 重ね合わせ精度の測定制御装置および測定制御方法
US7065586B2 (en) * 2000-12-22 2006-06-20 Radiance Technologies, Inc. System and method for scheduling and executing data transfers over a network
JP3967115B2 (ja) * 2001-11-22 2007-08-29 株式会社エヌ・ティ・ティ・ドコモ 基地局、無線リソース制御装置、端末装置、通信システム及び通信方法
US20030179755A1 (en) * 2002-01-18 2003-09-25 Fraser Alexander Gibson System and method for handling prioritized data in a network
US20050091395A1 (en) * 2003-10-08 2005-04-28 Jason Harris Method and system for transferring data files
US7848343B2 (en) * 2004-07-15 2010-12-07 Calix, Inc. Traffic management for a passive optical network terminal
GB2418110B (en) * 2004-09-14 2006-09-06 3Com Corp Method and apparatus for controlling traffic between different entities on a network
JP4684031B2 (ja) * 2005-07-11 2011-05-18 富士通株式会社 バス・システム、バス管理装置、ノード装置、およびバス管理装置用のプログラム
JP4771855B2 (ja) * 2006-05-08 2011-09-14 東京エレクトロン株式会社 サーバ装置、およびプログラム
JP5108261B2 (ja) * 2006-07-11 2012-12-26 株式会社リコー 情報処理装置およびデータ通信装置
US20080083185A1 (en) * 2006-10-04 2008-04-10 Faithful Engineering Products Co., Ltd. Wall hole patching device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011034356A (ja) 2011-02-17
US20110029685A1 (en) 2011-02-03
US8516145B2 (en) 2013-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5322706B2 (ja) 情報処理システム、情報処理方法およびプログラム
JP4730309B2 (ja) デバイス処理システム、情報表示方法、プログラム、及び記録媒体
US6657703B2 (en) Exposure apparatus, maintenance method therefor, semiconductor device manufacturing method, and semiconductor manufacturing factory
US7688436B2 (en) Measuring and/or inspecting method, measuring and/or inspecting apparatus, exposure method, device manufacturing method, and device manufacturing apparatus
JPH11204390A (ja) 半導体製造装置およびデバイス製造方法
US6704093B2 (en) Scanning exposure apparatus, scanning exposure method, and device manufacturing method
JP2009200450A (ja) 情報処理装置、情報処理方法及びプログラム
JP5523005B2 (ja) 情報処理方法、及び情報処理装置
JP4955874B2 (ja) 位置合わせ装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP7336207B2 (ja) 基板処理システム、基板処理システムの制御方法、プログラム、および物品製造方法
JP2010232291A (ja) 情報処理方法、それを用いた露光処理システム、デバイスの製造方法、情報処理装置、及び情報処理プログラム
JP2011034355A (ja) 情報処理装置、情報処理方法およびプログラム
JP5385639B2 (ja) 情報処理システム、情報処理方法およびプログラム
JP2002093691A (ja) 露光装置、結像性能測定方法、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
JP2009170612A (ja) 情報処理装置、情報処理方法、処理システムおよびコンピュータプログラム
JP2011129801A (ja) 情報処理装置、露光装置およびデバイス製造方法
US10892178B2 (en) Substrate processing system, method of controlling substrate processing system, computer-readable storage medium, and method of manufacturing article
JP2001297966A (ja) 露光方法、露光システム、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場、および露光装置の保守方法
JP2003059814A (ja) 焦点位置計測方法及び焦点位置計測装置
JP2001319858A (ja) アライメントマーク位置計測方法、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
JP2003188084A (ja) 面位置検出装置、面位置検出方法及び露光装置
JP2002151377A (ja) 投影露光装置、投影露光方法、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
JP2010109273A (ja) 情報処理装置、露光装置、デバイスの製造方法、情報処理方法およびプログラム
JP2005353818A (ja) 解析方法、露光装置及び露光装置システム
JP2003115437A (ja) 露光装置および露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120731

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130816

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131030

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140310

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140408

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5523005

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151