JP5797963B2 - レーザー光線のスポット形状検出方法 - Google Patents
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Description
該光強度検出工程において検出された該発光体のx,y座標値における光強度マップを作成する光強度マップ作成工程と、を含み、
該集光器を該テーブル保持面に垂直なZ軸方向における複数の検出位置において該光強度検出工程および該光強度マップ作成工程を実施し、該光強度マップ作成工程で作成された複数の光強度マップに基づいてレーザー光線のスポット形状画像を作成するスポット形状画像形成工程を含んでいる、ことを特徴とするレーザー光線のスポット形状検出方法が提供される。
上述したレーザー加工装置におけるレーザー光線照射手段52の集光器524から照射されるレーザー光線のスポット形状を検出するためには、図5に示すように環状のフレームFに装着された粘着テープTの表面に検出基板8を貼着する(検出基板支持工程)。検出基板8は図示の実施形態においてはガラス基板によって円形に形成されており、その表面(上面)における中心部にレーザー光線が照射されると発光する発光体9が固定されている。発光体9は、粒径が30〜100nmの単一蛍光粒子が用いられる。このような単一蛍光粒子としては、蛍光シリカナノ粒子を用いることができる。
3:チャックテーブル機構
36:チャックテーブル
37:X軸方向移動手段
374:X軸方向位置検出手段
38:第1のY軸方向移動手段
384:Y軸方向移動量検出手段
4:レーザー光線照射ユニット支持機構
43:第2のY軸方向移動手段
5:レーザー光線照射ユニット
52:レーザー光線照射手段
524:集光器
53:Z軸方向移動手段
54:Z軸方向位置検出手段
6:光検出器
7:制御手段
70:表示手段
8:検出基板
9:発光体
Claims (3)
- レーザー光線発振手段によって発振され集光器によって集光されたレーザー光線のスポット形状を検出するレーザー光線のスポット形状検出方法であって、
X軸方向およびY軸方向に移動可能に構成されたテーブルの保持面にレーザー光線が照射されると発光する微小粒子からなる該スポット形状より小さい発光体を備えた検出基板を保持する検出基板保持工程と、
該テーブルに保持された該検出基板の該発光体が位置する領域に該レーザー光線発振手段によって発振され該検出基板および該発光体を加工することができない出力のレーザー光線を該集光器によって集光して照射するレーザー光線照射工程と、
該テーブルに保持された該検出基板の該発光体が位置する領域にレーザー光線を照射した状態で、該発光体が該スポットで照射されない領域からスポットで照射された領域を通過しさらにスポットで照射されない領域に至るように該テーブルを該集光器に対して相対的にX軸方向およびY軸方向に移動させつつ該発光体によって発光された光の光強度を光検出器によって検出する光強度検出工程と、
該光強度検出工程において検出された該発光体のx,y座標値における光強度マップを作成する光強度マップ作成工程と、を含み、
該集光器を該テーブル保持面に垂直なZ軸方向における複数の検出位置において該光強度検出工程および該光強度マップ作成工程を実施し、該光強度マップ作成工程で作成された複数の光強度マップに基づいてレーザー光線のスポット形状画像を作成するスポット形状画像形成工程を含んでいる、
ことを特徴とするレーザー光線のスポット形状検出方法。 - 該発光体は、粒径が30〜100nmに設定されている、請求項1記載のレーザー光線のスポット形状検出方法。
- 該発光体は、単一蛍光粒子が用いられる、請求項1又は2記載のレーザー光線のスポット形状検出方法。
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