JP5790053B2 - 光源装置 - Google Patents

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Description

本発明は、光源装置に関する。
従来、複数の半導体レーザ装置から出射する光を複数のコリメータレンズで略平行光にし、集光レンズで集光する光源装置が提案された(特許文献1、2、3参照)
特開2009− 80468号公報 特開2005−114977号公報 特開2002−202442号公報
しかしながら、近年は、従来とは異なる新たな小型の光源装置が求められている。
そこで、本発明は、従来とは異なる新たな小型の光源装置を提供することを目的とする。
本発明によれば、上記課題は、次の手段により解決される。
本発明は、複数の半導体レーザ装置を組み合わせた光源本体と、前記光源本体の各半導体レーザ装置から出射する光をそれぞれ略平行光にする複数のコリメータレンズと、前記複数のコリメータレンズからそれぞれ出射する光を集光する集光レンズと、を備え、前記半導体レーザ装置は、上面視においてI字状の形状を有するステムと、前記ステムの上面側に設けられた半導体レーザ素子と、前記ステムの上面側において前記ステムの外周よりも内側に設けられ、前記半導体レーザ素子の周囲を取り囲み、上面視においてI字状の形状を有するキャップと、を備え、前記光源本体は、前記ステムの上面側を前記集光レンズ側に向けて前記複数の半導体レーザ装置を配置したものであるととともに、前記集光レンズから見たときに、前記集光レンズの光軸方向に垂直な第1方向においては隣接する半導体レーザ装置のステムがみかけ上連なるように、前記光軸方向と前記第1方向との双方に垂直な第2方向においては隣接する半導体レーザ装置のステムが重なるように、前記第1方向と前記第2方向とにおいて前記複数の半導体レーザ装置を前後にずらして配置したものである、ことを特徴とする光源装置である。
また、本発明は、複数の半導体レーザ装置を組み合わせた光源本体と、前記光源本体の各半導体レーザ装置から出射する光をそれぞれ略平行光にする複数のコリメータレンズと、前記複数のコリメータレンズからそれぞれ出射する光を集光する集光レンズと、を備え、前記半導体レーザ装置は、上面視においてI字状の形状を有するステムと、前記ステムの上面側に設けられた半導体レーザ素子と、前記ステムの上面側において前記ステムの外周よりも内側に設けられ、前記半導体レーザ素子の周囲を取り囲み、上面視においてI字状の形状を有するキャップと、を備え、前記光源本体は、前記ステムの上面側を前記集光レンズ側に向けて前記複数の半導体レーザ装置を配置したものであるととともに、前記集光レンズから見たときに、前記集光レンズの光軸方向に垂直な第1方向においては隣接する半導体レーザ装置のステムがみかけ上連なるように、前記光軸方向と前記第1方向との双方に垂直な第2方向においては隣接する半導体レーザ装置のステムとキャップとが重なるように、前記第1方向と前記第2方向とにおいて前記複数の半導体レーザ装置を前後にずらして配置したものである、ことを特徴とする光源装置である。
また、本発明は、前記光源本体は、長軸が前記I字に略平行な方向から45度で傾く略楕円形の発光領域を有する半導体レーザ装置を備える、ことを特徴とする上記の光源装置である。
また、本発明は、前記光源本体は、長軸が前記I字に略平行になる略楕円形の発光領域を有する半導体レーザ装置と、長軸が前記I字に略垂直になる略楕円形の発光領域を有する半導体レーザ装置と、を備える、ことを特徴とする上記の光源装置である。
また、本発明は、ビームスポットの強度分布が単峰型となることを特徴とする上記の光源装置である。
また、本発明は、ビームスポットの強度分布がトップハット型となることを特徴とする上記の光源装置である。
本発明によれば、従来とは異なる新たな小型の光源装置を提供することができる。
本発明の第1実施形態に係る光源装置の概略斜視図である。 本発明の第1実施形態に係る光源本体の構成例を示す図である。 本発明の第1実施形態に係る光源本体(その1)を示す図である。 本発明の第1実施形態に係る光源本体(その2)を示す図である。 本発明の第1実施形態に係る光源本体(その1)及び光源本体(その2)を用いた場合の焦点Aにおけるビームスポットの概略形状を示す図である。 本発明の第1実施形態に係る光源本体(他の例)を用いた場合の焦点Aにおけるビームスポットの概略形状を示す図である。 本発明の第1実施形態に係る光源装置におけるビームスポットの強度分布を示す図である。 本発明の第2実施形態に係る光源装置の概略斜視図である。 本発明の第2実施形態に係る光源本体の構成例を示す図である。 本発明の第1実施形態に係る光源本体(a)と、本発明の第2実施形態に係る光源本体(b)と、比較例に係る光源本体(c)と、を比較する図である。
以下に、添付した図面を参照しつつ、本発明を実施するための形態について説明する。
[本発明の第1実施形態に係る光源装置]
図1は、本発明の第1実施形態に係る光源装置の概略斜視図である。
図1に示すように、本発明の第1実施形態に係る光源装置1は、複数の半導体レーザ装置を組み合わせた光源本体10と、光源本体10の各半導体レーザ装置から出射する光をそれぞれ略平行光にする複数のコリメータレンズ20と、複数のコリメータレンズ20からそれぞれ出射する光を集光する集光レンズ30と、を備えている。
図2は、本発明の第1実施形態に係る光源本体の構成例を示す図であり、(a)は光源本体の概略斜視図を示し、(b)は光源本体を集光レンズから見た場合の様子を示す図である。
図2に示すように、光源本体10は、複数の半導体レーザ装置11を組み合わせたものであり、各半導体レーザ装置11は、ステム11aとキャップ11bとを有するI字状のパッケージを備えている。各パッケージには、半導体レーザ素子(図示せず)が収容されている。
光源本体10では、集光レンズ30から見たときに、集光レンズ30の光軸方向(Z方向)に垂直な第1方向(Y方向)においては隣接する半導体レーザ装置10のステム11aがみかけ上連なるように、複数の半導体レーザ装置が前後にずらして配置される。なお、本明細書では、半導体レーザ装置10におけるレーザ光の出射方向を「前」とし、この出射方向の反対方向を「後」とする。
また、光源本体10では、集光レンズ30から見たときに、集光レンズ30の光軸方向と第1方向(Y方向)との双方に垂直な第2方向(X方向)において、隣接する半導体レーザ装置11のステム11aが重なるように、複数の半導体レーザ装置11が前後にずらして配置される。
本発明の第1実施形態によれば、I字状のパッケージを備えた複数の半導体レーザ装置11を組み合わせて光源本体10が構成され、光源本体10の第2方向(X方向)において、隣接する半導体レーザ装置11のステム11aが重なるように、複数の半導体レーザ装置11が前後にずらして配置される。
したがって、本発明の第1実施形態によれば、集光レンズ30の光軸方向(Z方向)において複数の半導体レーザ装置11を近づけて配置することができるため、光源本体10を小型化することができ、従来とは異なる新たな小型の光源装置1を提供することが可能となる。
なお、光源本体10の小型化によって集光レンズ30も小型化することが可能となるため、低コストで光源装置を製造することが可能となる。また、小型の集光レンズ30を用いることによって最外光の屈折率を小さくして収差を低減することができ、高品質のビームスポットを得ることが可能となる。
以下、光源本体についてより詳細に説明する。
図3は、本発明の第1実施形態に係る光源本体(その1)を示す図である。
図3に示すように、本発明の第1実施形態に係る光源本体(その1)では、半導体レーザ装置11が略楕円形の発光領域12を有しており、各発光領域の長軸がI字に略平行な方向から45度で傾いている。
図4は、本発明の第1実施形態に係る光源本体(その2)を示す図である。
図4に示すように、本発明の第1実施形態に係る光源本体(その2)では、半導体レーザ装置11が略楕円形の発光領域12を有しており、各発光領域の長軸がI字に略平行又は略垂直になる。
図5は、本発明の第1実施形態に係る光源本体(その1)及び光源本体(その2)を用いた場合の焦点Aにおけるビームスポットの概略形状を示す図である。
図5に示すように、本発明の第1実施形態に係る光源本体(その1)及び光源本体(その2)によれば、焦点Aにおいて、X字状のビームスポットを得ることができる。
このため、複数の半導体レーザ装置11から出射した光は、ビームスポットの中央領域においてはすべてが重なるが、ビームスポットの中央領域の周辺領域においては部分的にしか重ならないようになる。
したがって、本発明の第1実施形態に係る光源本体(その1)及び光源本体(その2)によれば、ビームスポットの中央領域における光を利用する場合において、ビームスポットの中央領域の周辺領域に存在する光が意に反して対象物に照射されてしまうことなどを防止することができ、高品質のビームスポットを得ることが可能となる。
図6は、本発明の第1実施形態に係る光源本体(他の例)を用いた場合の焦点Aにおけるビームスポットの概略形状を示す図である。
上記した形態のほか、本発明の第1実施形態によれば、半導体レーザ装置11における発光領域のI字に対する傾きを様々に異ならしめることにより、図6(a)、(b)に示すように、複数の半導体レーザ装置11から出射した光が、ビームスポットの中央領域の周辺領域においてより一層重ならないようにすることができる。
なお、図示しないが、本発明の第1実施形態によれば、半導体レーザ装置11における発光領域のI字に対する傾きを様々に異ならしめることにより、複数の半導体レーザ装置11から出射した光が、ビームスポットの中央領域の周辺領域においてまったく重ならないようにすることもできる。
図7は、本発明の第1実施形態に係る光源装置におけるビームスポットの強度分布を示す図であり、(a)は焦点Aにおけるビームスポットの強度分布を示す図であり、(b)は光軸上の点B及び点Cにおけるビームスポットの強度分布を示す図である。
図7(a)に示すように、本発明の第1実施形態によれば、焦点Aにおいて、単峰型の強度分布を有するビームスポットを得ることができる。
図7(b)に示すように、本発明の第1実施形態によれば、光軸上の点B及び点Cにおいて、トップハット型の強度分布を有するビームスポットを得ることができる。
[本発明の第2実施形態に係る光源装置]
図8は、本発明の第2実施形態に係る光源装置の概略斜視図である。また、図9は、本発明の第2実施形態に係る光源本体の構成例を示す図であり、(a)は光源本体の概略斜視図を示し、(b)は光源本体を集光レンズから見た場合の概略を示す図である。
図8、図9に示すように、本発明の第2実施形態に係る光源装置2は、集光レンズ30から光源本体10を見たときに、集光レンズ30の光軸方向(Z方向)と第1方向(Y方向)との双方に垂直な第2方向(X方向)において、隣接する半導体レーザ装置11のステム11aとキャップ11bとが重なるように、複数の半導体レーザ装置11が前後にずらして配置される点で、本発明の第1実施形態に係る光源装置1と相違する。
本発明の第2実施形態によれば、集光レンズ30の光軸方向(Z方向)と第1方向(Y方向)との双方に垂直な第2方向(X方向)において、複数の半導体レーザ装置11を近づけて配置することができるため、光源本体10を小型化することができ、従来とは異なる新たな小型の光源装置2を提供することが可能となる。
なお、本発明の第2実施形態によっても、本発明の第1実施形態の場合と同様に、光源本体10の小型化によって集光レンズ30も小型化することが可能となるため、低コストで光源装置を製造することが可能となり、また、小型の集光レンズ30を用いることによって最外光の屈折率を小さくして収差を低減し、高品質のビームスポットを得ることが可能となる。
図10は、本発明の第1実施形態に係る光源本体(a)と、本発明の第2実施形態に係る光源本体(b)と、比較例に係る光源本体(c)と、を比較する図である。
図10(a)に示すように、本発明の第1実施形態に係る光源本体10によると、隣接する半導体レーザ装置11の中心間の間隔が、X方向において4.65mmとなり、Y方向において3mmとなり、斜め方向において5.53mmとなる。
また、図10(b)に示すように、本発明の第2実施形態に係る光源本体10によると、隣接する半導体レーザ装置11の中心間の間隔が、X方向において3.7mmとなり、Y方向において3mmとなり、斜め方向において4.76mmとなる。
これに対し、図10(c)に示すように、比較例に係る光源本体では、隣接する半導体レーザ装置の中心間の間隔が、X方向において5.6mmとなり、Y方向において5.6mmとなり、斜め方向において7.92mmとなる。
したがって、本発明の第1実施形態に係る光源本体10及び本発明の第2実施形態に係る光源本体10は、X方向、Y方向、及び斜め方向のいずれにおいても、隣接する半導体レーザ装置11の中心間の間隔が、比較例に係る光源本体よりも短い。
以上、本発明の実施形態について説明したが、これらの説明は、本発明の一例に関するものであり、本発明は、これらの説明によって何ら限定されるものではない。
1、2 光源装置
10 光源本体
11 半導体レーザ装置
11a ステム
11b キャップ
12 発光領域
20 コリメータレンズ
30 集光レンズ
A 焦点
B、C 点

Claims (6)

  1. 複数の半導体レーザ装置を組み合わせた光源本体と、
    前記光源本体の各半導体レーザ装置から出射する光をそれぞれ略平行光にする複数のコリメータレンズと、
    前記複数のコリメータレンズからそれぞれ出射する光を集光する集光レンズと、
    を備え、
    前記半導体レーザ装置は、
    上面視においてI字状の形状を有するステムと、
    前記ステムの上面側に設けられた半導体レーザ素子と、
    前記ステムの上面側において前記ステムの外周よりも内側に設けられ、前記半導体レーザ素子の周囲を取り囲み、上面視においてI字状の形状を有するキャップと、
    を備え、
    前記光源本体は、
    前記ステムの上面側を前記集光レンズ側に向けて前記複数の半導体レーザ装置を配置したものであるととともに、
    前記集光レンズから見たときに、前記集光レンズの光軸方向に垂直な第1方向においては隣接する半導体レーザ装置のステムがみかけ上連なるように、前記光軸方向と前記第1方向との双方に垂直な第2方向においては隣接する半導体レーザ装置のステムが重なるように、前記第1方向と前記第2方向とにおいて前記複数の半導体レーザ装置を前後にずらして配置したものである、
    ことを特徴とする光源装置。
  2. 複数の半導体レーザ装置を組み合わせた光源本体と、
    前記光源本体の各半導体レーザ装置から出射する光をそれぞれ略平行光にする複数のコリメータレンズと、
    前記複数のコリメータレンズからそれぞれ出射する光を集光する集光レンズと、
    を備え、
    前記半導体レーザ装置は、
    上面視においてI字状の形状を有するステムと、
    前記ステムの上面側に設けられた半導体レーザ素子と、
    前記ステムの上面側において前記ステムの外周よりも内側に設けられ、前記半導体レーザ素子の周囲を取り囲み、上面視においてI字状の形状を有するキャップと、
    を備え、
    前記光源本体は、
    前記ステムの上面側を前記集光レンズ側に向けて前記複数の半導体レーザ装置を配置したものであるととともに、
    前記集光レンズから見たときに、前記集光レンズの光軸方向に垂直な第1方向においては隣接する半導体レーザ装置のステムがみかけ上連なるように、前記光軸方向と前記第1方向との双方に垂直な第2方向においては隣接する半導体レーザ装置のステムとキャップとが重なるように、前記第1方向と前記第2方向とにおいて前記複数の半導体レーザ装置を前後にずらして配置したものである、
    ことを特徴とする光源装置。
  3. 前記光源本体は、長軸が前記I字に略平行な方向から45度で傾く略楕円形の発光領域を有する半導体レーザ装置を備える、ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光源装置。
  4. 前記光源本体は、長軸が前記I字に略平行になる略楕円形の発光領域を有する半導体レーザ装置と、長軸が前記I字に略垂直になる略楕円形の発光領域を有する半導体レーザ装置と、を備える、ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光源装置。
  5. ビームスポットの強度分布が単峰型となることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の光源装置。
  6. ビームスポットの強度分布がトップハット型となることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の光源装置。
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