JP5786969B2 - 弾性波装置 - Google Patents

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Description

本発明は、弾性波装置に関する。
従来、フィルタや共振子として、弾性波装置が広く用いられている。弾性波装置は、通電状態で発熱する。このため、弾性波装置の放熱性が低い場合は、弾性波装置の温度が上昇し、弾性波装置の動作異常や故障が生じる虞がある。
電子部品の放熱性を改善する方法としては、例えば特許文献1に記載されているように、実装基板に放熱用のビアホール導体を設ける方法が知られている。
特開2003-8186号公報
弾性波装置には、インダクタを有するものも存在する。インダクタは、通常、実装基板に設けられる。このような実装基板に設けられたインダクタを有する弾性波装置では、放熱用のビアホール導体を単に設けたのみでは、弾性波装置の放熱性を十分に改善することが困難である場合がある。インダクタンスに接続された共振子における発熱は、引き回し長が長いインダクタを経由した後にビアホール導体を経由して放熱されることとなり、放熱経路が長くなるためである。
本発明は、実装基板に設けられており、一端が共振子に接続されたインダクタを備える弾性波装置の放熱性を改善することを主な目的とする。
本発明に係る弾性波装置は、共振子と、インダクタとを備える。インダクタの一端は、共振子に接続されており、インダクタの他端は、グラウンド電極または信号電極に接続されている。本発明に係る弾性波装置は、チップと、実装基板とを備える。チップは、圧電基板と、IDT電極とを有する。IDT電極は、圧電基板の上に設けられている。IDT電極は、共振子を構成している。実装基板には、チップが実装されている。実装基板には、インダクタが設けられている。実装基板のチップとは反対側の表面の上には、インダクタの一端側が接続されたダミー電極と、グラウンド電極または信号電極とが配されている。
本発明に係る弾性波装置のある特定の局面では、インダクタが実装基板の内部に設けられている。
本発明に係る弾性波装置の別の特定の局面では、インダクタとダミー電極とがビアホール電極で接続されている。インダクタとグラウンド電極または信号電極とがビアホール電極で接続されている。
本発明に係る弾性波装置の他の特定の局面では、実装基板が、基板本体と、基板本体の上に配された樹脂層とを有する。インダクタが基板本体と樹脂層との間に配されている。
本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、共振子がラダー型フィルタの並列腕共振子を構成している。
本発明によれば、実装基板に設けられており、一端が共振子に接続されたインダクタを備える弾性波装置の放熱性を改善することができる。
図1は、第1の実施形態に係る弾性波装置の略図的回路図である。 図2は、第1の実施形態に係る弾性波装置の略図的断面図である。 図3は、第1の実施形態における弾性波チップの略図的透視裏面図である。 図4は、第1の実施形態における実装基板のダイアタッチ面の略図的平面図である。 図5は、第1の実施形態における中間電極層の略図的平面図である。 図6は、第1の実施形態における実装基板の略図的透視裏面図である。 図7は、第2の実施形態に係る弾性波装置の略図的断面図である。 図8は、第2の実施形態における中間電極層の略図的平面図である。 図9は、第2の実施形態における実装基板の略図的透視裏面図である。
以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
また、実施形態等において参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものであり、図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率等が異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。
(第1の実施形態)
図1は、本実施形態に係る弾性波装置の略図的回路図である。まず、図1を参照しながら、弾性波装置1の回路構成について説明する。
弾性波装置1は、弾性表面波、弾性境界波またはバルク弾性波を利用した弾性波フィルタ装置である。但し、本発明はこの構成に限定されない。本発明に係る弾性波装置は、例えば、弾性波共振子などの弾性波フィルタ装置以外の弾性波装置であってもよい。また、本発明に係る弾性波装置は、例えば複数のフィルタ部を有するデュプレクサやトリプレクサなどの弾性波分波器などであってもよい。
弾性波装置1は、少なくともひとつの共振子S1〜S3,P1〜P4と、一端が共振子S1〜S3,P1〜P4の少なくともひとつに接続されており、他端がグラウンド電極または信号電極に接続されているインダクタLとを備えている。
具体的には、弾性波装置1は、第1の信号端子11と第2の信号端子12とを有する。弾性波装置1が送信装置である場合は、第1の信号端子11がアンテナ端子を構成しており、第2の信号端子12が入力信号端子を構成している。第1の信号端子11と第2の信号端子12との間には複数の直列腕共振子S1〜S3が直列に接続されている。これら複数の直列腕共振子S1〜S3により直列腕13が構成されている。
直列腕13とグラウンド電極との間には、複数の並列腕14a〜14dが接続されている。複数の並列腕14a〜14dのそれぞれには、並列腕共振子P1〜P4が設けられている。並列腕14aは、グラウンド電位に接続されるグラウンド電極17に接続されている。並列腕14bと並列腕14dとは、グラウンド電位に接続されるグラウンド電極15に共通に接続されている。並列腕14cは、グラウンド電位に接続されるグラウンド電極16に接続されている。
並列腕14bにおいて、並列腕共振子P2に対して直列にインダクタLが接続されている。インダクタLの一端は、並列腕共振子P2に接続されており、インダクタLの他端は、グラウンド電極15に接続されている。すなわち、インダクタLの一端が接続された共振子は、ラダー型フィルタの並列腕共振子を構成している。
図2は、第1の実施形態に係る弾性波装置の略図的断面図である。図3は、第1の実施形態における弾性波チップの略図的透視裏面図である。図4は、第1の実施形態における実装基板のダイアタッチ面の略図的平面図である。図5は、第1の実施形態における中間電極層の略図的平面図である。図6は、第1の実施形態における実装基板の略図的透視裏面図である。
次に、主として図2〜図6を参照しながら、弾性波装置1の具体的な構成について説明する。
弾性波装置1は、弾性波チップ20と、実装基板30とを有する。
弾性波チップ20は、圧電基板21と、電極22とを有する。圧電基板21は、例えば、LiNbO、LiTaOなどにより構成することができる。なお、圧電基板は、電気機械結合係数を調整などの目的で、表面に誘電体層等の電気機械結合係数を調整する層が形成された圧電基板を含む。
電極22は、圧電基板21の実装基板30側の主面21a上に設けられている。電極22は、共振子S1〜S3,P1〜P4を構成しているIDT電極22a〜22gを有する。各IDT電極22a〜22gは、互いに間挿し合っている一対のくし歯状電極を有する。
電極22は、パッド電極22h〜22mをさらに有する。図1に示されるように、パッド電極22hは、第1の信号端子11に接続されている。パッド電極22iは第2の信号端子12に接続されている。パッド電極22jは、第1の並列腕共振子P1に接続されている。パッド電極22kは、第2の並列腕共振子P2に接続されている。パッド電極22lは、第3の並列腕共振子P3に接続されている。パッド電極22mは、第4の並列腕共振子P4に接続されている。
弾性波チップ20は、実装基板30の上に実装されている。実装基板30は、積層された第1及び第2の誘電体層31,32を有する。第1の誘電体層31の上には、第1の電極層33が設けられている。第1の誘電体層31と第2の誘電体層32との間には、第2の電極層38が設けられている。第2の誘電体層32の上には、第3の電極層35が設けられている。
図4に示されるように、第1の電極層33は、パッド電極33a〜33fを含む。図1に示されるように、パッド電極33aは、バンプ37aを介してパッド電極22hに接続されている。パッド電極33bは、バンプ37bを介してパッド電極22iに接続されている。パッド電極33cは、バンプ37cを介してパッド電極22jに接続されている。パッド電極33dは、バンプ37dを介してパッド電極22kに接続されている。パッド電極33eは、バンプ37eを介してパッド電極22lに接続されている。パッド電極33fは、バンプ37fを介してパッド電極22mに接続されている。
図5に示されるように、第2の電極層38は、電極38a〜38gを含む。電極38aは、ビアホール電極36aを介してパッド電極33aに接続されている。電極38bは、ビアホール電極36bを介してパッド電極33bに接続されている。電極38cは、ビアホール電極36cを介してパッド電極33cに接続されている。電極38dは、ビアホール電極36dを介してパッド電極33dに接続されている。電極38eは、ビアホール電極36eを介してパッド電極33eに接続されている。電極38fは、ビアホール電極36fを介してパッド電極33fに接続されている。電極38dと電極38fとは、引き回し電極38gにより接続されている。この引き回し電極38gによりインダクタLが構成されている。このため、インダクタLは、実装基板30に設けられている。
図6に示されるように、第3の電極層35は、グラウンド電極15、16、17、信号電極35a、35b及びダミー電極35cを有する。
グラウンド電極15は、ビアホール電極39fを介して電極38fに接続されている。グラウンド電極16は、ビアホール電極39eを介して電極38eに接続されている。グラウンド電極17は、ビアホール電極39cを経由して電極38cに接続されている。信号電極35aは、ビアホール電極39aを介して電極38aに接続されている。信号電極35bは、ビアホール電極39bを介して電極38bに接続されている。
ダミー電極35cは、ビアホール電極39dを介して電極38dに接続されている。このため、図1にも示されるように、実装基板30の弾性波チップ20とは反対側の表面(裏面)の上には、インダクタLの一端側が接続されたダミー電極35cと、インダクタLの他端側が接続されたグラウンド電極15とが設けられている。インダクタLは、実装基板30の内部に設けられており、インダクタLと、ダミー電極35c及びグラウンド電極15のそれぞれとがビアホール電極39d、39fで接続されている。
例えば、ダミー電極35cが設けられていない場合は、並列腕共振子P2の熱は、実質的に、インダクタLを構成している引き回し電極38gのみを経由して発散される。ここで、引き回し電極38gは、引き回し長が長い電極である。特に、大きなインダクタンス値を得るためには、引き回し電極38gを長くする必要がある。従って、並列腕共振子P2の放熱経路が長くなる。その結果、並列腕共振子P2の放熱が行われにくくなり、弾性波装置1の温度が上昇しやすい。
それに対して、本実施形態では、ダミー電極35cが設けられている。このため、並列腕共振子P2の放熱経路として、引き回し電極38gを経由する経路とは別に、引き回し電極38gを経由しない、ダミー電極35cへの経路が存在する。この経路は、引き回し長が長い引き回し電極38gを経由しないため、短い。よって、放熱効率が高い。従って、並列腕共振子P2の放熱が効率的に行われ、弾性波装置1の温度上昇が好適に抑制される。
なお、放熱性を改善する観点からは、実装基板のダイアタッチ面にインダクタを構成する電極を設けることも考えられる。しかしながら、この場合は、ダイアタッチ面の平坦性が低下してしまうため、チップの実装が困難になるなどの弊害が生じ得る。それに対して弾性波装置1では、実装基板30の弾性波チップ20側の表面の平坦性が低下しにくい。従って、弾性波チップ20の実装性が良好である。
以下、本発明の好ましい実施形態の他の例について説明する。以下の説明において、上記第1の実施形態と実質的に共通の機能を有する部材を共通の符号で参照し、説明を省略する。
(第2の実施形態)
図7は、第2の実施形態に係る弾性波装置の略図的断面図である。図8は、第2の実施形態における中間電極層の略図的平面図である。図9は、第2の実施形態における実装基板の略図的透視裏面図である。なお、第2の実施形態において、図1、図3、図4を第1の実施形態と共通に参照する。
本実施形態に係る弾性波装置2では、図7及び図9に示されるように、実装基板30が、第1及び第2の誘電体層31,32と、第1〜第3の電極層33〜35とを有する基板本体40と、基板本体40の上に配された樹脂層41とを有する。インダクタLを構成している引き回し電極38gは、基板本体40と樹脂層41との間に位置する第3の電極層35に含まれている。弾性波装置2においても、第1の実施形態の弾性波装置1と同様に、優れた放熱性を実現することができる。
弾性波装置2を製造するに際しては、弾性波チップ20を実装基板30に実装した後に引き回し電極38gを形成することが好ましい。
例えば基板本体40の作製と同時に引き回し電極を形成する場合は、セラミック基板や樹脂基板内に電極を形成することが多い。セラミック基板の場合は、シート材料に配線材料をパターニングした後、焼成工程を実施することで内層配線が形成される。焼成工程時にシート材料が変形するため、微細で複雑な配線パターンでは断線の可能性がある。また、厚い配線層を作製した場合、基板のうねりが発生し、部品実装不良が発生する。樹脂基板の場合も、内層の配線膜厚を厚くした場合のうねりはセラミック基板と同様である。従って、引き回し電極を高い形状精度で形成することは困難である。それに対して、弾性波チップ20を実装基板30に実装した後に引き回し電極38gを形成する場合は、引き回し電極38gの形成方法の制約が少ない。また、基板の変形が起こりにくいため、電極形成に塗布、めっき、蒸着、スパッタリングなど、さまざまな電極形成方法が可能である。具体的には、フォトリソ工法とめっき工法とを組み合わせて用いることもできるため、線幅の微細なかつ厚みの厚い配線層の作製が可能となる。従って、引き回し電極38gを高い形状精度で形成することが可能となる。従って、小さな引き回し電極38gにより大きなインダクタンス値を有するインダクタLを構成することが可能となる。
なお、実装基板30上に、弾性波チップ20を封止する封止材を設けてもよい。その場合は、封止材を設けた後に、引き回し電極38gを形成することが好ましい。引き回し電極38g形成時に実装基板30に生じる反り等の封止材形成に対する影響を排除できるためである。
なお、第1及び第2の実施形態では、インダクタの一端がダミー電極に接続されている例について説明したが、インダクタの一端は、信号電極に接続されていてもよい。例えば、インダクタは、直列腕に設けられたものであってもよい。インダクタは、例えば直列腕に設けられており、LC共振回路を構成しているものであってもよい。
また、本発明の弾性波装置は、ラダー型弾性波フィルタ装置以外の弾性波装置であってもよい。
1…弾性波装置
P1〜P4…並列腕共振子
S1〜S3…直列腕共振子
11…第1の信号端子
12…第2の信号端子
13…直列腕
14a〜14d…並列腕
15、16,17…グラウンド電極
20…弾性波チップ
21…圧電基板
21a…主面
22…電極
22a〜22g…IDT電極
22h〜22m…パッド電極
30…実装基板
31…第1の誘電体層
32…第2の誘電体層
33…第1の電極層
33a〜33f…パッド電極
35…第3の電極層
35a、35b…信号電極
35c…ダミー電極
36a〜36f…ビアホール電極
37a〜37f…バンプ
38a〜38g…電極
39a〜39f…ビアホール電極
40…基板本体
41…樹脂層

Claims (4)

  1. 共振子と、一端が前記共振子に接続されており、他端がグラウンド電極または信号電極に接続されているインダクタとを備える弾性波装置であって、
    圧電基板と、前記圧電基板の上に設けられており、前記共振子を構成しているIDT電極とを有するチップと、
    前記チップが実装されており、電極の引き回しにより構成された前記インダクタが設けられた実装基板と、
    を備え、
    前記実装基板の前記チップとは反対側の表面の上には、前記インダクタの前記一端側が接続されたダミー電極と、前記グラウンド電極または信号電極とが配されており、
    前記インダクタの前記一端から、前記インダクタの前記他端に接続された前記グラウンド電極または前記信号電極に至る電極引き回し長に比べて、前記インダクタの前記一端から前記ダミー電極に至る電極引き回し長が相対的に短くされており、相対的に短い電極引き回し長により、相対的に短い放熱経路を前記ダミー電極が構成しており、
    前記実装基板が、基板本体と、前記基板本体の上に配された樹脂層とを有し、
    前記インダクタが前記基板本体と前記樹脂層との間に配されている、弾性波装置。
  2. 前記インダクタが前記実装基板の内部に設けられている、請求項1に記載の弾性波装置。
  3. 前記インダクタと前記ダミー電極とがビアホール電極で接続されており、
    前記インダクタと前記グラウンド電極または信号電極とがビアホール電極で接続されている、請求項2に記載の弾性波装置。
  4. 前記共振子がラダー型フィルタの並列腕共振子を構成している、請求項1〜のいずれか一項に記載の弾性波装置。
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