JP5780139B2 - 異物除去装置 - Google Patents
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Description
本発明の第1実施形態について説明する。図1は第1実施形態に係る異物除去装置の全体構成を示す図、図2(a)は図1の装置における異物吸引前の状態を示す要部の断面図、図2(b)は図1の装置における異物吸引中の状態を示す要部の断面図、図3(a)は図1の吸引ノズルを示す正面断面図、図3(b)は図3(a)の下面図である。
本発明の第2実施形態について説明する。図4(a)は第2実施形態に係る異物除去装置における異物吸引前の状態を示す要部の断面図、図4(b)は第2実施形態に係る異物除去装置における異物吸引中の状態を示す要部の断面図である。以下、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第3実施形態について説明する。図5は第3実施形態に係る異物除去装置の全体構成を示す図、図6(a)は図5の吸引ノズルを示す正面断面図、図6(b)は図6(a)の下面図である。以下、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第4実施形態について説明する。図7は第4実施形態に係る異物除去装置の全体構成を示す図である。以下、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第5実施形態について説明する。図8は第5実施形態に係る異物除去装置における異物吸引中の状態を示す要部の正面断面図、図9は図8の吸引ノズルの下面図、図10は図8のA−A線に沿う断面図である。以下、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第6実施形態について説明する。図11(a)は第6実施形態に係る異物除去装置における異物吸引前の状態を示す要部の断面図、図11(b)は第6実施形態に係る異物除去装置における異物吸引中の状態を示す要部の正面断面図、図12は図11の吸引ノズルを示す下面図である。以下、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
なお、第1〜第5実施形態においては、対象ワークの形状に応じて、導入孔102の位置や数さらには傾斜角Rを変更することができる。例えば、図13に示す第1変形例のように、導入孔102を2個設け、空間100側からノズル部10を見たとき導入孔102の空間側開口部102aが吸引孔101の両側に位置するように導入孔102を配置し、傾斜角Rを30°にしてもよい。
10 ノズル部
90 半導体
100 空間
101 吸引孔
102 導入孔
Claims (5)
- 半導体(90)に付着した異物を吸引手段(1)により吸引除去する異物除去装置において、
前記吸引手段(1)は、吸引時に前記半導体(90)との間に空間(100)を形成して前記半導体(90)を覆うノズル部(10)を備え、
前記ノズル部(10)には、複数の連通孔(101、102)が形成され、
前記複数の連通孔(101、102)は、前記空間(100)に気体を導く導入孔(102)と前記導入孔(102)を介して前記空間(100)に流入した気体を吸引する吸引孔(101)とを有し、
前記導入孔(102)は前記空間(100)に対し複数の開口部(102a)を有し、前記吸引孔(101)は前記空間(100)に対し1つのみの開口部(101a)を有し、
前記吸引孔(101)の開口部(101a)は、複数形成された前記導入孔(102)の開口部(102a)に囲まれた位置に形成され、
前記空間(100)側から前記ノズル部(10)を見たときの、前記導入孔(102)から前記空間(100)に流入する際の気体の流れ向きを流入時流れ向き(L1〜L8)としたとき、前記各導入孔(102)の流入時流れ向き(L1〜L8)の延長線が交差しないように、前記各導入孔(102)の流入時流れ向き(L1〜L8)が設定され、
前記導入孔(102)から前記空間(100)に流入した気体が同一旋回向きの渦流となって前記吸引孔(101)に吸引されることを特徴とする異物除去装置。 - 前記吸引孔(101)の通路断面積は、前記複数個の導入孔(102)の合計通路断面積以上であることを特徴とする請求項1に記載の異物除去装置。
- 気体を加圧して前記導入孔(102)に供給する加圧手段(6)を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の異物除去装置。
- 吸引除去された異物の数量をカウントするパーティクルカウンタ(36)を備えることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の異物除去装置。
- 前記パーティクルカウンタ(36)は、前記吸引孔(101)に吸引された気体を外部に排出させる排気装置を兼ねることを特徴とする請求項4に記載の異物除去装置。
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