JPH10309554A - 塵埃除去装置 - Google Patents

塵埃除去装置

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Publication number
JPH10309554A
JPH10309554A JP13776097A JP13776097A JPH10309554A JP H10309554 A JPH10309554 A JP H10309554A JP 13776097 A JP13776097 A JP 13776097A JP 13776097 A JP13776097 A JP 13776097A JP H10309554 A JPH10309554 A JP H10309554A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dust
dust removing
nozzle
removing device
scattered
Prior art date
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Pending
Application number
JP13776097A
Other languages
English (en)
Inventor
Masakazu Ikeda
正和 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH10309554A publication Critical patent/JPH10309554A/ja
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  • Cleaning In General (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 塵埃除去領域から塵埃を高い確率で除去する
ことができる塵埃除去装置を提供する。 【解決手段】 吹き出しノズル13が吸い込みノズル1
5内でその開口面15aに沿って移動可能である。この
ため、単一の微小な吹き出しノズル13でも塵埃除去領
域の広い領域に圧縮空気12を吹き付けることができ
て、広い領域から塵埃を飛散させることができる。しか
も、吸い込みノズル15のうちで吹き出しノズル13以
外の部分の全体で塵埃を吸い込むことができ、飛散させ
た塵埃を広い領域で吸い込むことができて、塵埃の再付
着を防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本願の発明は、圧縮気体を吹
き付けて塵埃を飛散させこの飛散した塵埃を吸い込む塵
埃除去装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程で各種の材料から
成る塵埃が半導体ウェハや半導体チップ等の表面に異物
として付着すると、半導体装置の信頼性や歩留りが低下
する。特に、高密度の固体撮像素子では、各画素におけ
るセンサの受光用開口部が微細化されているので、小さ
な異物でも受光用開口部上に付着するとセンサの感度が
低下して信頼性や歩留りが低下する。
【0003】異物が受光用開口部上以外の部分に付着し
ても、その後にこの異物が受光用開口部上へ移動すれ
ば、やはりセンサの感度が低下して信頼性や歩留りが低
下する。そこで、半導体装置の製造に際しては、圧縮気
体を吹き付けて塵埃を飛散させこの飛散した塵埃を吸い
込む塵埃除去装置が用いられている。
【0004】図2は、CCD固体撮像素子のチップをパ
ッケージ内に封止する組立工程で従来から用いられてい
る塵埃除去装置の一例を示している。図2(a)に示す
様に、この塵埃除去装置11では、先端の直径が2mm
であり圧力が2kgf/cm2 の圧縮空気12を吹き出
す吹き出しノズル13が、空気14と共に塵埃を吸い込
む吸い込みノズル15内に配置されている。
【0005】パッケージ21は成形された樹脂から成っ
ており、パッケージ21の下面近傍に耐湿板22が埋め
込まれている。リードフレーム23の一部もパッケージ
21内に埋め込まれているが、外部端子23a及び内部
端子23bはパッケージ21の夫々外部及び内部に露出
しており、チップボンディング部23cもパッケージ2
1の底面21a上に露出している。
【0006】ガラスフリットを塗布して形成した接着層
24を介してチップボンディング部23c上にCCD固
体撮像素子のチップ25が接着されており、ガラス封止
のために蓋(図示せず)を接着する部分にも接着層24
が形成されている。チップ25と内部端子23bとはボ
ンディングワイヤ26で電気的に接続されている。
【0007】塵埃除去装置11でチップ25上及びパッ
ケージ21内の塵埃を除去するためには、パッケージ2
1上に塵埃除去装置11を位置させ、吹き出しノズル1
3から圧縮空気12を吹き出させ、圧縮空気12の吹き
付けで飛散した塵埃(図示せず)を吸い込みノズル15
で空気14と共に吸い込む。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来から用
いられている塵埃除去装置11では、吸い込みノズル1
5内における吹き出しノズル13の位置が固定されてい
るので、チップ25上及びパッケージ21内の隅々まで
圧縮空気12を吹き付けて塵埃を飛散させることができ
ない。このため、塵埃を十分には除去することができな
くて、ガラス封止後にCCD固体撮像素子の信頼性や歩
留りが低下していた。
【0009】従って、本願の発明は、塵埃除去領域の広
い領域から塵埃を飛散させることができ、しかも、飛散
した塵埃の再付着を防止することができるので、塵埃除
去領域から塵埃を高い確率で除去することができる塵埃
除去装置を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1の係る塵埃除去
装置は、圧縮気体の吹き出しノズルと塵埃の吸い込みノ
ズルとを具備する塵埃除去装置において、前記吹き出し
ノズルが前記吸い込みノズル内でこの吸い込みノズルの
開口面に沿って移動可能であることを特徴としている。
【0011】この様に、請求項1に係る塵埃除去装置で
は、吹き出しノズルが移動可能であるので、単一の微小
な吹き出しノズルでも塵埃除去領域の広い領域に圧縮気
体を吹き付けることができて、塵埃除去領域の広い領域
から塵埃を飛散させることができる。
【0012】しかも、吹き出しノズルが吸い込みノズル
内でこの吸い込みノズルの開口面に沿って移動するの
で、吸い込みノズルのうちで吹き出しノズルが位置して
いる部分以外の部分の全体で塵埃を吸い込むことができ
る。このため、圧縮気体の吹き付けで飛散させた塵埃を
広い領域で吸い込むことができて、飛散した塵埃の再付
着を防止することができる。
【0013】請求項2の係る塵埃除去装置は、請求項1
の係る塵埃除去装置において、前記移動の経路を制御可
能であることを特徴としている。
【0014】この様に、請求項2に係る塵埃除去装置で
は、吹き出しノズルの移動の経路を制御可能であるの
で、大きさや形状の異なる複数種類の塵埃除去領域に対
してもそれらの広い領域に圧縮気体を吹き付けることが
できて、これらの広い領域からも塵埃を飛散させること
ができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、CCD固体撮像素子のチッ
プをパッケージ内に封止する組立工程で用いられる塵埃
除去装置に適用した本願の発明の一実施形態を、図1を
参照しながら説明する。本実施形態の塵埃除去装置31
も、吹き出しノズル13が吸い込みノズル15の開口面
15aに沿う方向32へ移動可能であることを除いて、
図2に示した塵埃除去装置11と実質的に同様の構成を
有している。
【0016】塵埃除去装置31でチップ25上及びパッ
ケージ21内の塵埃を除去するためには、パッケージ2
1上に塵埃除去装置11を位置させ、吹き出しノズル1
3を移動させつつ吹き出しノズル13から圧縮空気12
を吹き出させ、圧縮空気12の吹き付けで飛散した塵埃
(図示せず)を吸い込みノズル15で空気14と共に吸
い込む。
【0017】吹き出しノズル13は、本実施形態では、
図1(b)中に一点鎖線で示す様に、チップ25上を起
点として、底面21a上、内部端子23b上及び接着層
24上を順次に通過する経路33を移動する。このた
め、本実施形態の塵埃除去装置31は、図2に示した塵
埃除去装置11では困難であった特にパッケージ21の
隅にも圧縮空気12を吹き付けて塵埃を除去することが
できるので、信頼性の高いCCD固体撮像素子を高い歩
留りで製造することができる。
【0018】なお、吹き出しノズル13の経路33は制
御可能であり、チップ25、底面21a、内部端子23
b及び接着層24の総てに圧縮空気12を吹き付けるこ
とができれば、図1(b)中に一点鎖線で示した経路3
3以外の経路を吹き出しノズル13が移動してもよく、
大きさや形状の異なるチップに対しては吹き出しノズル
13の移動経路を変更することができる。また、吹き出
しノズル13からは圧縮空気12以外の圧縮気体を吹き
出させてもよい。
【0019】以上の実施形態はCCD固体撮像素子のチ
ップをパッケージ内に封止する組立工程で用いられる塵
埃除去装置に本願の発明を適用したものであるが、CC
D固体撮像素子以外の半導体装置の製造工程で用いられ
る塵埃除去装置や半導体装置以外のものの製造工程等で
用いられる塵埃除去装置にも本願の発明を適用すること
ができる。
【0020】
【発明の効果】請求項1に係る塵埃除去装置では、塵埃
除去領域の広い領域から塵埃を飛散させることができ、
しかも、飛散した塵埃の再付着を防止することができる
ので、塵埃除去領域から塵埃を高い確率で除去すること
ができる。
【0021】請求項2に係る塵埃除去装置では、大きさ
や形状の異なる複数種類の塵埃除去領域の広い領域から
も塵埃を飛散させることができるので、大きさや形状の
異なる複数種類の塵埃除去領域からも塵埃を高い確率で
除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本願の発明の一実施形態の要部及びこ
の一実施形態で塵埃を除去するCCD固体撮像素子の夫
々の側断面図、(b)は塵埃除去中のCCD固体撮像素
子の平面図である。
【図2】(a)は本願の発明の一先行例の要部及びこの
一先行例で塵埃を除去するCCD固体撮像素子の夫々の
側断面図、(b)は塵埃除去中のCCD固体撮像素子の
平面図である。
【符号の説明】
12 圧縮空気(圧縮気体) 13 吹き出しノズル
15 吸い込みノズル 15a 開口面 31 塵埃除去装置
33 経路

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 圧縮気体の吹き出しノズルと塵埃の吸い
    込みノズルとを具備する塵埃除去装置において、 前記吹き出しノズルが前記吸い込みノズル内でこの吸い
    込みノズルの開口面に沿って移動可能であることを特徴
    とする塵埃除去装置。
  2. 【請求項2】 前記移動の経路を制御可能であることを
    特徴とする請求項1記載の塵埃除去装置。
JP13776097A 1997-05-13 1997-05-13 塵埃除去装置 Pending JPH10309554A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13776097A JPH10309554A (ja) 1997-05-13 1997-05-13 塵埃除去装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13776097A JPH10309554A (ja) 1997-05-13 1997-05-13 塵埃除去装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10309554A true JPH10309554A (ja) 1998-11-24

Family

ID=15206203

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13776097A Pending JPH10309554A (ja) 1997-05-13 1997-05-13 塵埃除去装置

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JP (1) JPH10309554A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102556693A (zh) * 2010-12-13 2012-07-11 软控股份有限公司 应用于物料称量的除尘罩及其方法
JP2013118219A (ja) * 2011-12-01 2013-06-13 Denso Corp 異物除去装置
JP2019062047A (ja) * 2017-09-26 2019-04-18 三菱電機株式会社 異物除去ユニット、異物除去装置、検査装置および基板分割装置
CN113751450A (zh) * 2021-07-29 2021-12-07 蚌埠高华电子股份有限公司 玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102556693A (zh) * 2010-12-13 2012-07-11 软控股份有限公司 应用于物料称量的除尘罩及其方法
JP2013118219A (ja) * 2011-12-01 2013-06-13 Denso Corp 異物除去装置
JP2019062047A (ja) * 2017-09-26 2019-04-18 三菱電機株式会社 異物除去ユニット、異物除去装置、検査装置および基板分割装置
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