JP2007050352A - 撮像素子の異物除去方法及び撮像素子の異物除去装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】撮像素子に付着した異物を確実に除去することができる撮像素子の異物除去装置を提供する。
【解決手段】異物除去装置10は、撮像素子100をその受光面が露出する形で支持するホルダ11と、ホルダ11で支持された撮像素子100をホルダ11とともに密閉可能な中空部材12と、密閉された撮像素子100に受光面側から気体を吹きつけるブローユニット13と、密閉状態での中空部材12の内部空気を吸引する真空吸引ユニット14と、密閉された撮像素子100に対して衝撃及び振動を与える衝撃・振動ユニット15とを備える。
【選択図】図1
【解決手段】異物除去装置10は、撮像素子100をその受光面が露出する形で支持するホルダ11と、ホルダ11で支持された撮像素子100をホルダ11とともに密閉可能な中空部材12と、密閉された撮像素子100に受光面側から気体を吹きつけるブローユニット13と、密閉状態での中空部材12の内部空気を吸引する真空吸引ユニット14と、密閉された撮像素子100に対して衝撃及び振動を与える衝撃・振動ユニット15とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、撮像素子に付着した異物を除去する撮像素子の異物除去方法に関する。
撮像素子の異物除去方法の一例として、先端部分に外気流入溝を設けた中空ノズルでパッケージ開口部を塞ぎ、ノズルに接続された真空装置によりダストを吸引するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
撮像素子の異物除去方法の他の一例として、中空部に空気供給管の一端側を組入れた中空ノズルでパッケージ開口部を塞ぎ、ノズルに接続された空気供給管の空気圧によりダストを遊離させ、更に真空装置によりダストを吸引するものが知られている(例えば、特許文献2参照)。
ところが、上記特許文献1及び上記特許文献2に開示された従来の異物除去方法では、いずれも真空の空気の圧力のみによりダストを除去しようとしているため、撮像素子の受光面に静電気によって付着したダストやパッケージ内端部等に挟まってしまったダスト等を遊離させることが難しく、異物除去を確実に行うことができない。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、撮像素子に付着した異物を確実に除去することができる撮像素子の異物除去方法及び撮像素子の異物除去装置を提供することにある。
本発明の撮像素子の異物除去方法は、撮像素子に付着した異物を除去する撮像素子の異物除去方法であって、前記異物を前記撮像素子から遊離させるための異物遊離工程と、前記遊離した異物を吸引する吸引工程とを含み、前記異物遊離工程は、前記撮像素子に対してその受光面側から気体を吹きつける気体吹きつけ工程と、前記撮像素子に対して衝撃及び振動の少なくとも一方を与える衝撃・振動工程とを含む。
この方法により、気体によって異物を遊離させるだけでなく、撮像素子に衝撃及び振動の少なくとも一方を与えて異物を遊離させるため、効果的に異物を除去することができる。
本発明の撮像素子の異物除去方法は、前記撮像素子の受光面を下に向けた状態で、前記異物遊離工程及び前記吸引工程を行う。
この方法により、撮像素子に付着した異物に重力が働くため、異物が除去しやすくなる。
本発明の撮像素子の異物除去方法は、前記異物遊離工程及び前記吸引工程を、複数の前記撮像素子に対して同時に行う。
この方法により、生産ライン上で複数の撮像素子の異物除去を同時に行うことができるので、工程時間を短縮することで工数の削減を図ることができる。
本発明の撮像素子の異物除去装置は、撮像素子に付着した異物を除去する撮像素子の異物除去装置であって、前記撮像素子をその受光面が露出する形で支持する支持部材と、前記支持部材で支持された撮像素子を前記支持部材とともに密閉可能な中空部材と、前記密閉された前記撮像素子に前記受光面側から気体を吹きつける気体吹きつけ手段と、前記撮像素子を密閉した前記中空部材の内部空気を吸引する吸引手段と、前記密閉された前記撮像素子に対して衝撃及び振動の少なくとも一方を与える衝撃・振動供給手段とを備える。
本発明の撮像素子の異物除去装置は、前記支持部材が、前記撮像素子を、前記受光面を下に向けた状態で支持するものである。
本発明の撮像素子の異物除去装置は、前記支持部材が、複数の前記撮像素子を支持し、前記気体吹き付け手段は、前記複数の撮像素子の各々に気体を吹き付け、前記衝撃・振動供給手段は、前記複数の撮像素子の各々に前記衝撃及び振動の少なくとも一方を与える。
本発明の撮像素子の異物除去装置は、前記衝撃・振動供給手段が、前記中空部材及び前記支持部材のいずれかに衝撃及び振動の少なくとも一方を与えることで、前記撮像素子に対して衝撃及び振動の少なくとも一方を与えるものである。
本発明によれば、撮像素子に付着した異物を確実に除去することができる撮像素子の異物除去方法及び撮像素子の異物除去装置を提供することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。本明細書において、撮像素子とは、光電変換素子や信号読み出し回路等が作りこまれた半導体チップそのものや、該半導体チップをパッケージ化したもの等のことを言う。以下の説明では、撮像素子を、半導体チップをパッケージ化したものとして説明する。
図1は、本発明の実施形態を説明するための撮像素子の異物除去装置の概略構成を示す断面図である。図1に示す異物除去装置10は、撮像素子100を作製する工程内に組み込まれる。
撮像素子100は、パッケージ本体101と、半導体チップ102とを備え、パッケージ本体101の端部開口部に不図示のカバーガラスが組み付けられて完成される。
パッケージ本体101は、例えばセラミック製であって、底板103と、半導体チップ102の周囲を囲むための周板104とを有する。
底板103には、半導体チップ102の複数のパッドに接続された導電部材である複数のボンディングワイヤ106と電気的に接続される不図示のインナーリードが一体に埋め込まれている。ボンディングワイヤ106は、一端部が半導体チップ102のパッドに電気的に接続され、他端部がリードフレームの一端部にそれぞれ電気的に接続される。
次に、異物除去装置10の構造について説明する。
異物除去装置10は、支持部材であるホルダ11と、中空部材12と、気体吹きつけ手段であるブローユニット13と、吸引手段である真空吸引ユニット14と、衝撃・振動供給手段である衝撃・振動ユニット15とを備える。
異物除去装置10は、支持部材であるホルダ11と、中空部材12と、気体吹きつけ手段であるブローユニット13と、吸引手段である真空吸引ユニット14と、衝撃・振動供給手段である衝撃・振動ユニット15とを備える。
ホルダ11は、板形状に形成されており、図1では下面に撮像素子100のパッケージ本体101を支持するためのパッケージ支持面16を有する。パッケージ支持面16は、パッケージ本体101を撮像素子100の受光面を下(地面側)に向け、この受光面を露出した状態で支持する。
中空部材12は、ホルダ11によって支持された撮像素子100をホルダ11とともに密閉可能なものであり、筒形状の筒部17と、この筒部17の端部に結合された半球形状の端板18とを有する。ホルダ11と中空部材12は、それぞれ独立した部材であるが、異物の除去を行う際には、ホルダ11によって支持された撮像素子100が中空部材12とホルダ11によって密閉されるように、図1に示したような状態で固定される。又は、ホルダ11と中空部材12を蝶番等で繋いで開閉可能としても良い。
ブローユニット13は、ホルダ11と中空部材12によって密閉された撮像素子100に対してその受光面側から空気や窒素等の気体を吹きつけて、撮像素子100に付着した異物を遊離させるためのものであり、コンプレッサ19と、ブローノズル20と、ブローチューブ21とから構成されている。
コンプレッサ19は、不図示のフィルタを通じ除塵されて導入された気体をブローチューブ21に圧力をかけて供給する。ブローノズル20は、ブローチューブ21から供給された気体を排出する。ブローチューブ21は、中空部材12の筒部17を貫通して組み付けられている。ブローユニット13は、コンプレッサ19からブローチューブ21に供給した気体を、ブローノズル20から排出することで、撮像素子100に対し、その受光面側から気体を吹きつけることができる。
真空吸引ユニット14は、ホルダ11と中空部材12によって撮像素子100を密閉した図1に示す状態での中空部材12の内部空気を吸引するものであり、真空ポンプ22と、真空チューブ23とから構成される。真空チューブ23は、中空部材12の端板18に貫通して組み付けられている。真空吸引ユニット14は、真空ポンプ22が駆動されることで、真空チューブ23を通じて中空部材12内の空気を吸引し、吸引した空気をフィルタに通して異物を回収する。
衝撃・振動ユニット15は、ホルダ11と中空部材12によって密閉された撮像素子100に対して衝撃及び振動を与えて、撮像素子100に付着した異物を遊離させるためのものであり、不図示の信号源、増幅器、加振器等から構成される。本実施形態では、加振器の動きがホルダ11に伝わるように、ホルダ11と衝撃・振動ユニット15とが物理的に接続されている。
衝撃・振動ユニット15は、内蔵された加振器が動作することで、予め定められた加速度による衝撃成分をホルダ11に与える。また、衝撃・振動ユニット15は、内蔵された加振器が動作することで、予め定められた周波数による振動成分をホルダ11に与える。これにより、ホルダ11に与えられた衝撃成分及び振動成分は、ホルダ11から撮像素子100に伝えられる。衝撃・振動ユニット15は、ホルダ11に代えて、中空部材12に物理的に接続しても良い。このようにしても、衝撃成分・振動成分を中空部材12からホルダ11を介して撮像素子100に与えることが可能である。
撮像素子100に振動を与えた場合は、例えば静電気によって撮像素子100に付着している異物を遊離させることが可能であり、撮像素子100に衝撃を与えた場合は、例えばパッケージ本体101と半導体チップ102との隙間等に挟まっている異物を加速度(G)によって遊離させることが可能である。このことを利用し、異物除去装置10では、異物を遊離させやすくするために、ブローユニット13による撮像素子100への気体の吹きつけに加え、撮像素子100への振動及び衝撃の供給を行うことで、異物を効果的に遊離させ、除去できるようにしている。
次に、撮像素子の異物除去装置10を用いた撮像素子の異物除去方法の一例について図2を参照して説明する。
図2は、図1に示した各ユニットの動作を説明するためのタイミングチャートである。各ユニットの動作タイミングは、各ユニット毎に個別に設定しても良いし、各ユニットを統括制御するコンピュータ等によって一括設定しても良い。
図2は、図1に示した各ユニットの動作を説明するためのタイミングチャートである。各ユニットの動作タイミングは、各ユニット毎に個別に設定しても良いし、各ユニットを統括制御するコンピュータ等によって一括設定しても良い。
まず、ホルダ11のパッケージ支持面16に撮像素子100を載置し、この上から中空部材12を被せて中空部材12の端面をホルダ11の下面に加圧密着させて図1のような状態とする。これにより、中空部材12の内部は気密状態となる(時刻T0)。
時刻T1になると、衝撃・振動ユニット15が動作し、予め定められた加速度による衝撃成分がホルダ11に与えられる。同時に、真空吸引ユニット14が動作し、中空部材12内の空気の吸引が開始される。ホルダ11に衝撃成分が与えられることで、パッケージ本体101と半導体チップ102との間に入り込んだ異物等の半導体チップ102周辺の比較的大きく重い異物に動エネルギーが与えられ、この異物が遊離する。これにより、ブローユニット13を動作させたときに、それら異物が吸引しやくなる。又、既に真空吸引ユニット14は動作しているため、異物が落下した場合には、これが吸引される。
時刻T2〜時刻T5では、衝撃・振動ユニット15がホルダ11に振動成分を与えるよう動作し、予め定められた周波数による振動成分がホルダ11に与えられる。同時に、ブローユニット13が動作し、撮像素子100に受光面側から気体が吹き付けられる。ホルダ11に振動成分が与えられることで、それ以前に与えられた衝撃成分によって吸引しやすくなっている大きく重い異物に加えて、パッケージ本体101に付着した異物や、撮像素子100の受光面やパッケージ本体101の表面等に付着した異物等の半導体チップ102周辺の比較的小さく軽い異物に動エネルギーが与えられ、この異物が遊離する。
そして、時刻T2〜時刻T5で撮像素子100から遊離した異物は、真空吸引ユニット14により吸引される。時刻T5以降は、時刻T1〜時刻T5までの動作が繰り返し行われ、衝撃、振動、及び気体吹き付けの組み合わせによって、撮像素子100に付着した異物は、効率良く吸引除去される。
そして、異物除去が終了したところで、パッケージ本体101にカバーガラスが取り付けられて、撮像素子100が完成する。
尚、異物除去装置10の各ユニットの動作タイミングは図2に示したものに限らない。例えば、時刻T2〜時刻T5の間に衝撃と振動を撮像素子100に与えても良いし、時刻T1〜時刻T2の間に衝撃と振動を撮像素子100に与えても良い。又、図2において衝撃と振動を与えるタイミングを逆にしても良い。又、図2において、振動と衝撃のどちらかを省略しても、十分に効果を得ることができる。
尚、図1に示す異物除去装置10は、ホルダ11が、撮像素子100を、その受光面を下に向けた状態で支持するものとしたが、撮像素子100に付着する異物に、大きくて重い異物が含まれない場合は、図1に示す異物除去装置10を紙面内で180度回転させた構成としても良い。つまり、ホルダ11が、撮像素子100を、その受光面を上に向けた状態で支持するものであり、このホルダ11の上から中空部材12を被せるようにした構成であっても良い。図1に示す構成によれば、異物が重力によって落下しやすくなるため、より効果的に異物を除去することができる。又、大きくて重い異物があった場合でも、これを効果的に除去することができる。
以上のように、異物除去装置10によれば、異物を遊離させるために、従来から行われているブローユニット13による気体吹きつけに加え、撮像素子100に衝撃及び振動を与えるようにしたため、気体の吹きつけのみでは除去しきれなかった異物を効果的に除去することができる。又、撮像素子100をその受光面を下にして支持した状態で異物除去を行うため、気体吹きつけによって浮上しないような重い異物があった場合でも、この異物を効果的に除去することができる。
(第二実施形態)
第一実施形態で説明した異物除去装置を応用して、複数の撮像素子に対して同時に異物除去を行うことが可能な装置を作ることも可能である。以下、この装置について説明する。
図3は、本発明の第二実施形態を説明するための異物除去装置の概略構成を示す断面図である。
図3に示す異物除去装置30は、基本的な構造が図1に示す異物除去装置と同様である。図1に示す異物除去装置と異なる点は、ホルダ11が複数の撮像素子100を支持すること可能な長尺のホルダ11’に変更され、このホルダ11’に衝撃・振動ユニット15が接続された点、ブローノズル20が複数の撮像素子100のそれぞれに対応して設けられた点、中空部材12がホルダ11’に支持された複数の撮像素子100をホルダ11’と共に全て密閉可能な中空部材12’に変更された点である。
第一実施形態で説明した異物除去装置を応用して、複数の撮像素子に対して同時に異物除去を行うことが可能な装置を作ることも可能である。以下、この装置について説明する。
図3は、本発明の第二実施形態を説明するための異物除去装置の概略構成を示す断面図である。
図3に示す異物除去装置30は、基本的な構造が図1に示す異物除去装置と同様である。図1に示す異物除去装置と異なる点は、ホルダ11が複数の撮像素子100を支持すること可能な長尺のホルダ11’に変更され、このホルダ11’に衝撃・振動ユニット15が接続された点、ブローノズル20が複数の撮像素子100のそれぞれに対応して設けられた点、中空部材12がホルダ11’に支持された複数の撮像素子100をホルダ11’と共に全て密閉可能な中空部材12’に変更された点である。
ホルダ11’に加えられた衝撃及び振動は、複数の撮像素子100のそれぞれに伝わる。又、ブローノズル20から出た気体は、複数の撮像素子100のそれぞれに吹き付けられる。そして、異物除去装置30の各ユニットの動作は、図1に示す異物除去装置10と同じである。
このような構成によれば、複数の撮像素子100の異物除去を同時に行うことができるために、大量生産の生産ラインに好ましく適用することができる。異物除去装置30は、図3の紙面内において180度回転させた構成であっても勿論良い。
なお、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良等が自在である。
例えば、衝撃・振動ユニットが発生する衝撃成分・振動成分は、ダスト等の異物の大きさに応じて最適値が設定される。
例えば、衝撃・振動ユニットが発生する衝撃成分・振動成分は、ダスト等の異物の大きさに応じて最適値が設定される。
10 撮像素子の異物除去装置
11 ホルダ(支持部材)
12 中空部材
13 ブローユニット(気体吹きつけ手段)
14 真空吸引ユニット(吸引手段)
15 衝撃・振動ユニット(衝撃・振動供給手段)
24 キャリア(支持部材)
100 撮像素子
101 パッケージ本体
102 半導体チップ
11 ホルダ(支持部材)
12 中空部材
13 ブローユニット(気体吹きつけ手段)
14 真空吸引ユニット(吸引手段)
15 衝撃・振動ユニット(衝撃・振動供給手段)
24 キャリア(支持部材)
100 撮像素子
101 パッケージ本体
102 半導体チップ
Claims (7)
- 撮像素子に付着した異物を除去する撮像素子の異物除去方法であって、
前記異物を前記撮像素子から遊離させるための異物遊離工程と、
前記遊離した異物を吸引する吸引工程とを含み、
前記異物遊離工程は、前記撮像素子に対してその受光面側から気体を吹きつける気体吹きつけ工程と、前記撮像素子に対して衝撃及び振動の少なくとも一方を与える衝撃・振動工程とを含む撮像素子の異物除去方法。 - 請求項1記載の撮像素子の異物除去方法であって、
前記撮像素子の受光面を下に向けた状態で、前記異物遊離工程及び前記吸引工程を行う撮像素子の異物除去方法。 - 請求項1又は2記載の撮像素子の異物除去方法であって、
前記異物遊離工程及び前記吸引工程を、複数の前記撮像素子に対して同時に行う撮像素子の異物除去方法。 - 撮像素子に付着した異物を除去する撮像素子の異物除去装置であって、
前記撮像素子をその受光面が露出する形で支持する支持部材と、
前記支持部材で支持された撮像素子を前記支持部材とともに密閉可能な中空部材と、
前記密閉された前記撮像素子に前記受光面側から気体を吹きつける気体吹きつけ手段と、
前記撮像素子を密閉した前記中空部材の内部空気を吸引する吸引手段と、
前記密閉された前記撮像素子に対して衝撃及び振動の少なくとも一方を与える衝撃・振動供給手段とを備える撮像素子の異物除去装置。 - 請求項4記載の撮像素子の異物除去装置であって、
前記支持部材は、前記撮像素子を、前記受光面を下に向けた状態で支持するものである撮像素子の異物除去装置。 - 請求項4又は5記載の撮像素子の異物除去装置であって、
前記支持部材は、複数の前記撮像素子を支持し、
前記気体吹き付け手段は、前記複数の撮像素子の各々に気体を吹き付け、
前記衝撃・振動供給手段は、前記複数の撮像素子の各々に前記衝撃及び振動の少なくとも一方を与える撮像素子の異物除去装置。 - 請求項4〜6のいずれか記載の撮像素子の異物除去装置であって、
前記衝撃・振動供給手段は、前記中空部材及び前記支持部材のいずれかに衝撃及び振動の少なくとも一方を与えることで、前記撮像素子に対して衝撃及び振動の少なくとも一方を与えるものである撮像素子の異物除去装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005237585A JP2007050352A (ja) | 2005-08-18 | 2005-08-18 | 撮像素子の異物除去方法及び撮像素子の異物除去装置 |
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-
2005
- 2005-08-18 JP JP2005237585A patent/JP2007050352A/ja active Pending
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