CN113751450A - 玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法，涉及LCD加工处理技术领域。在本发明中：吹风通道内配置有上出风装置和下出风装置，吹风通道内配置有位于上出风装置上游方位的第一位置传感器。吸尘通道内配置有上吸尘装置和下吸尘装置。光检装置下侧面安装有若干等间隔分布的曝光度检测机构，光检装置的下侧面嵌入设置有位于相邻的曝光度检测机构之间的远离处光度传感器，光检通道内设置有若干位于导辊结构下方的底侧伸缩装置。本发明不仅能有效的完成对抛光后的玻璃基板的抛光粉清除，也避免了玻璃基板进入中和处理通道后因用酸过量所导致的过度腐蚀，保证了抛光粉清除后的玻璃基板的品质。
Description
技术领域
本发明属于LCD加工处理技术领域，特别是涉及玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法。
背景技术
玻璃基板在抛光后，表面会残留大量的抛光粉，难以祛除。目前，主要通过碱性液体高温浸泡的方式祛除，成本高。抛光粉大多属于中性/碱性，PH值为7-9之间，碱性残留物，而现有技术中使用弱酸性残留物予以祛除弱碱性的抛光粉，效果比高温浸泡的方式好。所以采用弱酸清洗方式进行玻璃基板的抛光粉越来越普及。
而采用弱酸清洗方式对玻璃基板的抛光粉进行祛除过程中，若是用酸喷酸量太多，不仅会中和掉玻璃基板上的抛光粉，也会对玻璃基板造成一定的损伤。但要是用酸喷酸量不足，酸碱中和效果就会降低，导致抛光粉碱性消除不彻底。
发明内容
本发明的目的在于提供玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法，不仅能有效的完成对抛光后的玻璃基板的抛光粉清除，也避免了玻璃基板进入中和处理通道后因用酸过量所导致的过度腐蚀，保证了抛光粉清除后的玻璃基板的品质。
为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：
本发明为玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，包括吹风通道，吹风通道下游连通有吸尘通道，吸尘通道下游连通有光检通道，光检通道下游连通有中和处理通道；吹风通道、吸尘通道、光检通道和中和处理通道内都配置有由外界动力装置驱动转动的导辊结构。
吹风通道内配置有上出风装置和下出风装置，上出风装置和下出风装置都开设有朝向导辊结构的斜向出风口，吹风通道内配置有位于上出风装置上游方位的第一位置传感器，吹风通道内设置有位于上出风装置下游方位的第二位置传感器。吸尘通道内配置有上吸尘装置和下吸尘装置，上吸尘装置和下吸尘装置都设置有朝向导辊结构的吸尘口。
光检通道内配置有光检装置，光检装置下侧面安装有若干等间隔分布的曝光度检测机构，光检装置下侧面设置有位于曝光度检测机构下游的第三位置传感器，光检装置的下侧面嵌入设置有位于相邻的曝光度检测机构之间的远离处光度传感器，光检通道内设置有若干位于导辊结构下方的底侧伸缩装置。中和处理通道内独立配置有第一水箱、第二水箱、第三水箱，中和处理通道内配置有与第一水箱相配合的第一清洗舱，中和处理通道内配置有与第二水箱相配合的毛刷清洗舱，中和处理通道内配置有与第三水箱相配合的纯水喷淋舱，中和处理通道内配置有一级风刀干燥舱、二级风刀干燥舱[一级风刀干燥舱内的风力风干强度大于二级风刀干燥舱内的风力风干强度]。
作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置的一种优选技术方案：上出风装置和下出风装置的斜向出风口的倾斜方向都偏向吸尘通道。
作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置的一种优选技术方案：吸尘通道内设置有位于上吸尘装置、下吸尘装置下游的下游挡板，导辊结构横向穿过上下侧的下游挡板之间。
作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置的一种优选技术方案：光检装置的下侧面边缘区域设置有内面反光框板，内面反光框板的内侧壁面涂覆有反光材料层。
作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置的一种优选技术方案：底侧伸缩装置至少设置平行的三组，每组的底侧伸缩装置至少为两个；底侧伸缩装置包括向上穿过相邻导辊结构的伸缩杆，伸缩杆上端配置有用于支撑抛光后的玻璃基板的支撑橡胶垫板。
作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置的一种优选技术方案：曝光度检测机构包括条状的曝光LED和接近面光度传感条，接近面光度传感条内嵌若干个光度传感探头，每个接近面光度传感条中的若干个光度传感探头所检测到的光度均值可作为当前接近面光度传感条的曝光度信息值。
作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置的一种优选技术方案：第一水箱内盛放有弱酸性溶液，第一水箱通过水流系统与第一清洗舱连通；第二水箱、第三水箱内盛放有清水，第二水箱通过水流系统与毛刷清洗舱连通，第三水箱通过水流系统与纯水喷淋舱连通；其中，毛刷清洗舱内配置有毛刷结构。
本发明涉及玻璃基板表面抛光残留检测及处理方法，包括以下内容：
㈠抛光后的玻璃基板通过导辊结构进入吹风通道，当第一位置传感器检测到玻璃基板前侧端进入吹风通道内，吹风通道内的上出风装置和下出风装置对玻璃基板进行表面倾斜吹风，同时吸尘通道内的上吸尘装置和下吸尘装置启动吸气，吹起的抛光粉受到吹风装置的吹力和吸尘通道内的吸力作用下，进入吸尘通道，上吸尘装置和下吸尘装置吸收吹起进入吸尘通道中的抛光粉。
㈡当第二位置传感器检测到玻璃基板的后侧端脱离吹风通道，且第一位置传感器检测到无新的玻璃基板进入吹风通道，吹风通道内的上出风装置和下出风装置都停止吹风，一定时间后，吸尘通道内的上吸尘装置和下吸尘装置都停止吸尘。
㈢当光检通道内的第三位置传感器检测到玻璃基板的前侧端时，吹风通道、吸尘通道和光检通道内的导辊结构停止转动，光检通道内的若干底侧伸缩装置同时动作，将到达光检装置正下方的玻璃基板顶升。
㈣底侧伸缩装置将玻璃基板顶升至光检装置下侧区域的若干曝光度检测机构的下方5mm～10mm距离处，曝光度检测机构对玻璃基板表面进行曝光并进行曝光度检测，主系统获取到光检装置上若干曝光度检测机构传感检测到的曝光度信息并进行累加，主系统根据当前类型的玻璃基板抛光粉残留量与曝光度信息线性参照关系，判定当前玻璃基板表面抛光粉残留量。
㈤底侧伸缩装置将玻璃基板线性平稳下落至导辊结构上，导辊结构重新开始运转，玻璃基板进入中和处理通道内进行抛光粉中和处理。
㈥主系统根据当前玻璃基板的抛光粉残留量，在第一清洗舱室中进行对玻璃基板的上下侧进行对应量的弱酸溶液喷淋操作。
㈦玻璃基板运动到毛刷清洗舱中，通过毛刷作用，将玻璃基板表面的抛光粉清除干净，然后玻璃基板进入纯水喷淋舱，纯水稀释掉弱酸性溶液，最后经过一级风刀干燥舱、二级风刀干燥舱完成玻璃基板的风干。
作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理方法的一种优选技术方案：光检装置对玻璃基板进行曝光度检测时，若干曝光度检测机构进行连续的独立曝光度检测，曝光度检测机构沿一方向，依次进行曝光并传感检测；当下一个曝光度检测机构上游的远离处光度传感器检测到上一个曝光度检测机构所产生的光亮度消失后，当前曝光度检测机构进行曝光、传感检测。
作为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理方法的一种优选技术方案：设光检装置的若干曝光度检测机构依次传感检测到的玻璃基板所反射的曝光度值为[Q1 Q2 ...Qn]；则当前玻璃基板的曝光度总量为QZ＝Q1+Q2+...+Qn；设当前类型的玻璃基板抛光粉残留量为P，存在F(P)-1∝F(QZ)。
本发明具有以下有益效果：
1、本发明通过吹风通道、吸尘通道、光检通道、中和处理通道的连续配合，有效的完成对抛光后的玻璃基板的抛光粉清除；
2、本发明通过光检通道内对玻璃基板的顶升、分段连续式曝光度传感检测，精准的完成对整个玻璃基板的抛光粉残留量参照分析；
3、本发明通过光电检测模式参照分析玻璃基板上的抛光粉残留量，对中和处理时的用酸量进行控制，避免玻璃基板进入中和处理通道后因用酸过量所导致的过度腐蚀，保证了抛光粉清除后的玻璃基板的品质。
当然，实施本发明的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明中玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置的整体结构示意图；
图2为本发明中吹风通道和吸尘通道的结构示意图；
图3为本发明中光检通道的结构示意图；
图4为本发明中光检通道的(俯视)结构示意图；
图5为本发明中曝光度检测机构的下侧面示意图；
图6为本发明中中和处理通道的结构示意图；
附图中，各标号所代表的部件列表如下：
1-吹风通道；2-吸尘通道；3-光检通道；4-中和处理通道；5-玻璃基板；101-上出风装置；102-下出风装置；103-斜向出风口；104-第一位置传感器；105-第二位置传感器；201-上吸尘装置；202-下吸尘装置；203-吸尘口；204-下游挡板；301-光检装置；302-内面反光框板；303-第三位置传感器；304-曝光度检测机构；3041-曝光LED；3042-接近面光度传感条；305-远离处光度传感器；306-底侧伸缩装置；307-伸缩杆；308-支撑橡胶垫板；401-第一水箱；402-第二水箱；403-第三水箱；404-第一清洗舱；405-毛刷清洗舱；406-纯水喷淋舱；407-一级风刀干燥舱；408-二级风刀干燥舱。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一
如图1所示，为玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，具体分为吹风通道1、吸尘通道2、光检通道3和中和处理通道4。
吹风通道1，对抛光后的玻璃基板5进行上侧表面、下侧表面进行吹风，将玻璃基板5上下表面所附着的部分抛光粉吹起。
吸尘通道2，吹风通道1内吹起的抛光粉，受到吸尘通道2的负压作用，进入吸尘通道2，吸尘通道2将扬起的抛光粉进行吸附。
光检通道3，对玻璃基板5上残留的抛光粉进行检测，根据试验获取到的当前类型的玻璃基板5抛光粉残留量与曝光度信息线性参照关系，确定处当前玻璃基板5上的抛光粉残留量。
结合图6，中和处理通道4，将弱酸溶液按照一定配比加入第一水箱401中，混合溶液通过水流系统进入第一清洗舱室中，主系统可以根据当前玻璃基板5上抛光粉残留量，控制对应量的弱酸喷淋量到玻璃基板5表面[弱酸性溶液与抛光粉中的碱性物质中和，降低其在玻璃基板5表面的附着性]，玻璃基板5运动到毛刷清洗舱405中，通过毛刷的作用，将玻璃基板5表面的抛光粉清除干净，然后玻璃基板5进入纯水喷淋舱406，纯水稀释掉弱酸性溶液，使玻璃基板5表面呈现近乎中性PH值。
实施例二
如图2中所示，为本发明中的吹风通道和吸尘通道的结构示意图。
玻璃基板5经过吹风通道1过程中，上出风装置101和下出风装置102都进行吹风，将附着力小的抛光粉吹起，倾斜朝向吸尘通道2的斜向出风口103，将吹起的抛光粉吹向吸尘通道2，吸尘通道2内的上吸尘装置201、下吸尘装置202对进入吸尘通道2内的扬起抛光粉进行吸附。
第一位置传感器104，用来检测是否有玻璃基板5进入吹风通道1。
第二位置传感器105，用来判断玻璃基板5是否脱离吹风通道1。
吸尘通道2的下游位置，设置了下游挡板204，防止扬起的少量抛光粉进入光检通道3中。
实施例三
如图1、图3、4、图5所示，玻璃基板5进入光检通道3后，第三位置传感器303检测到玻璃基板5的前侧端，这时，导辊结构停止转动，底侧伸缩装置306驱动伸缩杆307向上运动，将玻璃基板5顶到光检装置301的内面反光框板302范围内，使得玻璃基板5与光检装置301下侧的曝光度检测机构304之间的距离在5～10mm范围内。然后主系统驱动多个曝光度检测机构304进行跑马灯式[仅一遍即可]的曝光度传感检测，然后将传感采集到的多个曝光度信息值进行累加，对应分析当前玻璃基板5上的抛光粉总量。
远离处光度传感器305，用于检测上一个曝光度检测机构304所产生的光亮度是否已经衰减结束。当上一个曝光度检测机构304所产生的光亮度是否已经衰减结束，下一个位置的曝光度检测机构304接着对其正下方区域的玻璃基板5位置进行曝光度传感检测。
当光检装置301检测结束后，底侧伸缩装置306驱动伸缩杆307下降，玻璃基板5也逐渐回到导辊结构中，导辊结构重新开始转动，玻璃基板5向前导入中和处理通道4内，进行定量化酸碱中和处理。
实施例四
在本发明中，对玻璃基板抛光粉残留量与曝光度信息线性参照关系进行试验分析，便于定量分析玻璃基板上的抛光粉残留量。
试验过程中，通过在抛光后的玻璃基板[除去抛光粉后]多次连续涂覆抛光粉，每次增加定量的抛光粉，均匀涂覆，然后采用本发明中的与光检通道相同的检测装置进行试验检测。检测图表格式如下：
根据试验获取到的大量试验数据，可以选择直接建立曝光度-抛光粉残留量的数据库参数信息，或者进行线性拟合，完成函数曲线的建立，在进行实际抛光粉残留总量分析时，得到小误差范围内的参数信息。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上公开的本发明优选实施例只是用于帮助阐述本发明。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本发明的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本发明。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
Claims (10)
1.玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：
包括吹风通道(1)，所述吹风通道(1)下游连通有吸尘通道(2)，所述吸尘通道(2)下游连通有光检通道(3)，所述光检通道(3)下游连通有中和处理通道(4)；
所述吹风通道(1)、吸尘通道(2)、光检通道(3)和中和处理通道(4)内都配置有由外界动力装置驱动转动的导辊结构；
所述吹风通道(1)内配置有上出风装置(101)和下出风装置(102)，所述上出风装置(101)和下出风装置(102)都开设有朝向导辊结构的斜向出风口(103)，所述吹风通道(1)内配置有位于上出风装置(101)上游方位的第一位置传感器(104)，所述吹风通道(1)内设置有位于上出风装置(101)下游方位的第二位置传感器(105)；
所述吸尘通道(2)内配置有上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)，所述上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)都设置有朝向导辊结构的吸尘口(203)；
所述光检通道(3)内配置有光检装置(301)，所述光检装置(301)下侧面安装有若干等间隔分布的曝光度检测机构(304)，所述光检装置(301)下侧面设置有位于曝光度检测机构(304)下游的第三位置传感器(303)，所述光检装置(301)的下侧面嵌入设置有位于相邻的曝光度检测机构(304)之间的远离处光度传感器(305)，所述光检通道(3)内设置有若干位于导辊结构下方的底侧伸缩装置(306)；
所述中和处理通道(4)内独立配置有第一水箱(401)、第二水箱(402)、第三水箱(403)，所述中和处理通道(4)内配置有与第一水箱(401)相配合的第一清洗舱(404)，所述中和处理通道(4)内配置有与第二水箱(402)相配合的毛刷清洗舱(405)，所述中和处理通道(4)内配置有与第三水箱(403)相配合的纯水喷淋舱(406)，所述中和处理通道(4)内配置有一级风刀干燥舱(407)、二级风刀干燥舱(408)。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：
所述上出风装置(101)和下出风装置(102)的斜向出风口(103)的倾斜方向都偏向吸尘通道(2)。
3.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置及方法，其特征在于：
所述吸尘通道(2)内设置有位于上吸尘装置(201)、下吸尘装置(202)下游的下游挡板(204)，所述导辊结构横向穿过上下侧的下游挡板(204)之间。
4.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：
所述光检装置(301)的下侧面边缘区域设置有内面反光框板(302)，所述内面反光框板(302)的内侧壁面涂覆有反光材料层。
5.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：
所述底侧伸缩装置(306)至少设置平行的三组，每组的底侧伸缩装置至少为两个；
所述底侧伸缩装置(306)包括向上穿过相邻导辊结构的伸缩杆(307)，所述伸缩杆(307)上端配置有用于支撑抛光后的玻璃基板(5)的支撑橡胶垫板(308)。
6.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：
所述曝光度检测机构(304)包括条状的曝光LED(3041)和接近面光度传感条(3042)，所述接近面光度传感条(3042)内嵌若干个光度传感探头。
7.根据权利要求1所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，其特征在于：
所述第一水箱(401)内盛放有弱酸性溶液，所述第一水箱(401)通过水流系统与第一清洗舱(404)连通；
所述第二水箱(402)、第三水箱(403)内盛放有清水，所述第二水箱(402)通过水流系统与毛刷清洗舱(405)连通，所述第三水箱(403)通过水流系统与纯水喷淋舱(406)连通；
其中，所述毛刷清洗舱(405)内配置有毛刷结构。
8.玻璃基板表面抛光残留检测及处理方法，其特征在于，采用权利要求1-7中任一项中所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理一体化系统装置，包括以下内容：
㈠抛光后的玻璃基板(5)通过导辊结构进入吹风通道(1)，当第一位置传感器(104)检测到玻璃基板(5)前侧端进入吹风通道(1)内，吹风通道(1)内的上出风装置(101)和下出风装置(102)对玻璃基板(5)进行表面倾斜吹风，同时吸尘通道(2)内的上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)启动吸气，吹起的抛光粉受到吹风装置的吹力和吸尘通道(2)内的吸力作用下，进入吸尘通道(2)，上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)吸收吹起进入吸尘通道(2)中的抛光粉；
㈡当第二位置传感器(105)检测到玻璃基板(5)的后侧端脱离吹风通道(1)，且第一位置传感器(104)检测到无新的玻璃基板(5)进入吹风通道(1)，吹风通道(1)内的上出风装置(101)和下出风装置(102)都停止吹风，一定时间后，吸尘通道(2)内的上吸尘装置(201)和下吸尘装置(202)都停止吸尘；
㈢当光检通道(3)内的第三位置传感器(303)检测到玻璃基板(5)的前侧端时，吹风通道(1)、吸尘通道(2)和光检通道(3)内的导辊结构停止转动，光检通道(3)内的若干底侧伸缩装置(306)同时动作，将到达光检装置(301)正下方的玻璃基板(5)顶升；
㈣底侧伸缩装置(306)将玻璃基板(5)顶升至光检装置(301)下侧区域的若干曝光度检测机构(304)的下方5mm～10mm距离处，曝光度检测机构(304)对玻璃基板(5)表面进行曝光并进行曝光度检测，主系统获取到光检装置(301)上若干曝光度检测机构(304)传感检测到的曝光度信息并进行累加，主系统根据当前类型的玻璃基板(5)抛光粉残留量与曝光度信息线性参照关系，判定当前玻璃基板(5)表面抛光粉残留量；
㈤底侧伸缩装置(306)将玻璃基板(5)线性平稳下落至导辊结构上，导辊结构重新开始运转，玻璃基板(5)进入中和处理通道(4)内进行抛光粉中和处理；
㈥主系统根据当前玻璃基板(5)的抛光粉残留量，在第一清洗舱(404)室中进行对玻璃基板(5)的上下侧进行对应量的弱酸溶液喷淋操作；
㈦玻璃基板(5)运动到毛刷清洗舱(405)中，通过毛刷作用，将玻璃基板(5)表面的抛光粉清除干净，然后玻璃基板(5)进入纯水喷淋舱，纯水稀释掉弱酸性溶液，最后经过一级风刀干燥舱(407)、二级风刀干燥舱(408)完成玻璃基板(5)的风干。
9.根据权利要求8所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理方法，其特征在于：
光检装置(301)对玻璃基板(5)进行曝光度检测时，若干曝光度检测机构(304)进行连续的独立曝光度检测，曝光度检测机构(304)沿一方向，依次进行曝光并传感检测；
当下一个曝光度检测机构(304)上游的远离处光度传感器(305)检测到上一个曝光度检测机构(304)所产生的光亮度消失后，当前曝光度检测机构(304)进行曝光、传感检测。
10.根据权利要求9所述的玻璃基板表面抛光残留检测及处理方法，其特征在于：
设光检装置(301)的若干曝光度检测机构(304)依次传感检测到的玻璃基板(5)所反射的曝光度值为[Q1 Q2...Qn]；
则当前玻璃基板(5)的曝光度总量为QZ＝Q1+Q2+...+Qn；
设当前类型的玻璃基板抛光粉残留量为P，存在F(P)-1∝F(QZ)。
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