JP5778686B2

JP5778686B2 - 新規共重合体

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Publication number: JP5778686B2
Application number: JP2012542801A
Authority: JP
Inventors: 新谷　武士; 武士新谷; 俊明岡戸; 秀則成瀬; 徹梶田
Original assignee: JSR Corp; Nippon Soda Co Ltd
Current assignee: JSR Corp; Nippon Soda Co Ltd
Priority date: 2010-11-08
Filing date: 2011-11-02
Publication date: 2015-09-16
Anticipated expiration: 2031-11-02
Also published as: EP2617746A4; US9018311B2; TW201219431A; US20130217832A1; KR101540165B1; EP2617746B1; CN103180354A; JPWO2012063435A1; KR20130059441A; ES2663010T3; EP2617746A1; WO2012063435A1; CN103180354B; TWI458746B

Description

本発明は、分散剤として有用な新規な共重合体に関する。本願は、２０１０年１１月８日に出願された日本国特許出願第２０１０−２４９４９３号に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。

様々な分野において、共重合体タイプの顔料分散剤が開発されている。
例えば、カラー液晶表示装置分野では、着色層形成用感放射線性組成物に含まれる顔料の分散剤として、共重合体タイプの顔料分散剤が用いられている。当該分野では、可視光の高透過率化と高コントラスト化の要望の強まりから顔料粒子は少なくとも可視光の波長以下まで微粒子化されている。

そのような微粒子化された顔料を安定に分散するための分散剤として、様々な共重合体が提案されている。例えば、特許文献１、特許文献２では、顔料の分散安定性を向上させるために４級アンモニウム塩基を有するブロックと、４級アンモニウム塩基を有さないブロックからなる分散剤を用いることが提案されている。

また、特許文献３では、下記式（１）で表される繰り返し単位、下記式（２）で表される繰り返し単位及び下記式（３）で表される繰り返し単位を有する共重合体を分散剤として含有する着色層形成用感放射線性組成物が提案されている。

特開２００４−１８２７８７号公報特開２００４−２８７３６６号公報特開２０１０−１３４４１９号公報

近年、分散剤の用途の多様化に伴い、分散剤として使用する共重合体には、様々な特性が求められている。カラー液晶表示装置分野で顔料分散剤として用いる際は、微粒子化された顔料の分散剤の初期の分散性及び経時の分散安定性を満たす必要がある。さらに、カラーフィルターを具備する液晶表示素子の高コントラスト化、高輝度性、高現像性等の様々な要求も満たすことが求められている。しかしながら、従来の共重合体では、十分な性能が得られないという問題があった。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、３級アミノ基を有する繰り返し単位及び４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を含む重合体からなるブロック鎖と、式（Ｉ）で表される繰り返し単位と、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むブロック鎖を含有することを特徴とする新規の共重合体を使用することにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち本発明は、
（１）３級アミノ基を有する繰り返し単位及び４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を含むブロック鎖（Ａ）と、
下記式（Ｉ）

（式中、Ｒ^１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｑは、置換基としてアルキル基を有していてもよい含酸素飽和ヘテロ環基、又は、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基を表し、ｎは、０〜６のいずれかの整数を表す。）で表される繰り返し単位と、
下記式（ＩＩ）

（式中、Ｒ^４は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^５は、飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂環式炭化水素基を表す。）で表される繰り返し単位を含むブロック鎖（Ｂ）を含有し、
上記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の共重合割合が、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を除くブロック鎖（Ｂ）中９０重量％以上であることを特徴とする共重合体や、

（２）３級アミノ基を有する繰り返し単位及び４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位が、式（ＩＩＩ）

（式中、Ｒ^６は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ６〜Ｃ１０アリールＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｘは、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基又はＣ１〜Ｃ１０アルキレン−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基を表す。）で表される繰り返し単位であることを特徴とする（１）に記載の共重合体や、

（３）重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０１〜２．００であることを特徴とする（１）又は（２）に記載の共重合体や、
（４）重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜５００００であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の共重合体に関する。

（１）共重合体
本発明の共重合体は、以下のブロック鎖（Ａ）及びブロック鎖（Ｂ）を、それぞれ少なくとも１個含有する。
ブロック鎖（Ａ）：３級アミノ基を有する繰り返し単位及び４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を含む。
ブロック鎖（Ｂ）：式（Ｉ）で表される繰り返し単位と、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含む。
また、本発明の共重合体は、上記ブロック鎖（Ａ）及びブロック鎖（Ｂ）以外に他のブロック鎖を含有していてもよい。

１）ブロック鎖（Ａ）
ブロック鎖（Ａ）において、３級アミノ基を有する繰り返し単位及び４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位とは、繰り返し単位の側鎖に上記カチオン性官能基を有しているものであれば、特に制限されない。
具体的には、ブロック鎖（Ａ）は、３級アミノ基を有する繰り返し単位、又は４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位の１種のみが単独重合したもの、３級アミノ基を有する繰り返し単位又は４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位の２種以上が共重合したもの、３級アミノ基を有する繰り返し単位の少なくとも１種及び４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位の少なくとも１種が共重合したもの、及びこれらと他の共重合しうるモノマー由来の繰り返し単位とが共重合したものを包含する。共重合は、ランダム、交互、ブロックなどを包含する。

（３級アミノ基を有する繰り返し単位）
上記３級アミノ基を有する繰り返し単位としては、３級アミノ基を有する限り特に制限はないが、例えば、下記一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位が例示される。

式（ＩＶ）中、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基である。Ｘ^１は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、−ＣＯＯＲ^１４−、−ＣＯＮＨＲ^１４−、−ＯＣＯＲ^１４−及び−Ｒ^１５−ＯＣＯ−Ｒ^１４−からなる群より選ばれる基である（ここでＲ^１４、Ｒ^１５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基又はＣ１〜Ｃ１０アルキレン−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基である）。Ｒ^１２、Ｒ^１３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ６〜Ｃ１０アリールＣ１〜Ｃ６アルキル基である。

このうち、好ましくは、次式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位である。

式（ＩＩＩ）中、Ｒ^６は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ６〜Ｃ１０アリールＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｘは、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基又はＣ１〜Ｃ１０アルキレン−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基を表す。

ここで、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル等が例示される。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基としては、メチレン鎖、エチレン鎖、プロピレン鎖、メチルエチレン鎖、ブチレン鎖、１，２−ジメチルエチレン鎖、ペンチレン鎖、１−メチルブチレン鎖、２−メチルブチレン鎖又はヘキシレン鎖等が例示される。
Ｃ６〜Ｃ１０アリールＣ１〜Ｃ６アルキル基としては、ベンジル、フェネチル、３−フェニル−ｎ−プロピル、１−フェニル−ｎ−へキシル、ナフタレン−１−イルメチル、ナフタレン−２−イルエチル、１−ナフタレン−２−イル−ｎ−プロピル、インデン−１−イルメチル等が例示される。

式（ＩＶ）又は式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位の原料となるモノマーとしては、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノブチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノブチル（メタ）アクリレート等が例示される。

（４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位）
上記４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位としては、４級アンモニウム塩基を有する限り、特に制限はないが、例えば、下記一般式（Ｖ）で表される繰り返し単位が例示される。

式（Ｖ）中、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基である。Ｘ^２は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、−ＣＯＯＲ^２７−、−ＣＯＮＨＲ^２７−、−ＯＣＯＲ^２７−及び−Ｒ^２８−ＯＣＯ−Ｒ^２７−からなる群より選ばれる基である（ここでＲ^２７、Ｒ^２８は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基又はＣ１〜Ｃ１０アルキレン−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基である）。Ｒ^２４、Ｒ^２５、Ｒ^２６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基又はＣ６〜Ｃ１０アリールＣ１〜Ｃ６アルキル基である。Ｚ⁻はハロゲン化物イオン、ハロゲン化アルキルイオン、アルキルカルボキシレートイオン、ニトロキシドイオン、アルキルスルフェートイオン、スルホネートイオン、ホスフェートイオンまたはアルキルフォスフェートイオン等の対イオンを表す。

ここで、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、及び、Ｃ６〜Ｃ１０アリールＣ１〜Ｃ６アルキル基は、上記３級アミノ基を有する繰り返し単位の式（ＩＶ）におけるものと同様のものを例示できる。

このうち、好ましくは、式（ＶＩ）で表される繰り返し単位である。

式（ＶＩ）中、Ｒ^２９は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基である。Ｘ^３は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基又はＣ１〜Ｃ１０アルキレン−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基を表す。Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基又はＣ６〜Ｃ１０アリールＣ１〜Ｃ６アルキル基である。Ｚ^１−は対イオンを表す。

ここで、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、及び、Ｃ６〜Ｃ１０アリールＣ１〜Ｃ６アルキル基は、上記３級アミノ基を有する繰り返し単位の式（ＩＩＩ）におけるものと同様のものを例示できる。

Ｚ^１−としては、上記式（Ｖ）中のＺ⁻に置けるものと同様のものを例示できる。

式（Ｖ）又は式（ＶＩ）で表される繰り返し単位の原料となるモノマーとしては、（メタ）アクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムフロリド、（メタ）アクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド、（メタ）アクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムブロミド、（メタ）アクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウムヨージド、（メタ）アクリロイロキシプロピルトリメチルアンモニウムフロリド、（メタ）アクリロイロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、（メタ）アクリロイロキシプロピルトリメチルアンモニウムブロミド、（メタ）アクリロイロキシプロピルトリメチルアンモニウムヨージド、（メタ）アクリロイロキシブチルトリメチルアンモニウムフロリド、（メタ）アクリロイロキシブチルトリメチルアンモニウムクロリド、（メタ）アクリロイロキシブチルトリメチルアンモニウムブロミド、（メタ）アクリロイロキシブチルトリメチルアンモニウムヨージド等が例示される。

（他の含有しうる繰り返し単位）
ブロック鎖（Ａ）中の他の含有しうる繰り返し単位としては、（メタ）アクリル酸系モノマー、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマー等由来の繰り返し単位が例示される。

上記繰り返し単位の原料となる（メタ）アクリル酸系モノマー、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマーとしては以下のものが例示される。
（メタ）アクリル酸系モノマーとしては、（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルへキシル、（メタ）アクリル酸１−エチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル等の（メタ）アクリル酸エステル化合物；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（エチレングリコールの単位数は２〜１００）（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等を例示することができ、これらは１種単独で、あるいは２種以上混合して、用いることができる。

芳香族ビニル系モノマーとしては、スチレン；ｏ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｍ−ｔ−ブトキシスチレン、ｐ−（１−エトキシエトキシ）スチレン、２，４−ジメチルスチレン、ビニルアニリン、ビニル安息香酸等のスチレン誘導体；、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、２−ビニルキノリン、４−ビニルキノリン、２−ビニルチオフェン、４−ビニルチオフェン等のヘテロアリール化合物；ビニルナフタレン、ビニルアントラセン等を挙げることができ、これらは１種単独で、あるいは２種以上混合して、用いることができる。

共役ジエン系モノマーとしては、１，３−ブタジエン、イソプレン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン、２−フェニル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、３−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン、２−メチル−１，３−オクタジエン、４，５−ジエチル−１，３−オクタジエン、３−ブチル−１，３−オクタジエン、１，３−シクロペンタジエン、１，３−シクロヘキサジエン、１，３−シクロオクタジエン、１，３−トリシクロデカジエン、ミルセン、クロロプレン等を挙げることができ、これらは１種単独で、あるいは２種以上混合して、用いることができる。

２）ブロック鎖（Ｂ）
ブロック鎖（Ｂ）は、式（Ｉ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種と、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種を含有する。
式（Ｉ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種と、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種の重量％比（式（Ｉ）で表される繰り返し単位と、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の総重量を１００としたときの、式（Ｉ）で表される繰り返し単位の重量％と、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の重量％の比）は、特に制限はないが、好ましくは５〜５０対９５〜５０、より好ましくは７〜４５対９３〜５５、さらに好ましくは１０〜４０対９０〜６０、特に好ましくは１５〜３５対８５〜６５である。
式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種の共重合割合は、式（Ｉ）で表される繰り返し単位を除くブロック鎖（Ｂ）中９０重量％以上、好ましくは、９５重量％〜１００重量％である。
また、ブロック鎖（Ｂ）は、ランダム、交互、ブロックなどを包含する。

（式（Ｉ）で表される繰り返し単位）
ブロック鎖（Ｂ）は、次式（Ｉ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種を含有する。

式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｑは、置換基を有していてもよい含酸素飽和ヘテロ環基、又は、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基を表し、ｎは、０〜６の整数を表す。

本発明において、Ｒ^１のＣ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基としては、上記３級アミノ基を有する繰り返し単位の式（ＩＩＩ）におけるものと同様のものを例示できる。
本発明において、Ｑの含酸素飽和ヘテロ環基は、環上の任意の炭素原子に置換基を有していてもよい。含酸素飽和へテロ環基とは、酸素原子を少なくとも１個含み、更にＮ，Ｓ及びＯからなるヘテロ原子を１つ含んでいてもよい３〜８員飽和ヘテロ環を意味し、好ましくは、３〜６員飽和へテロ環である。
ここで、含酸素飽和へテロ環基としては、オキシラニル基、オキセタニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、モルホルニル基及びチオモルホルニル基等を例示することができる。これらのうち、好ましくは、オキシラニル基、オキセタニル基、テトラヒドロフラニル基及びテトラヒドロピラニル基等の架橋性官能基である。

含酸素飽和ヘテロ環基の置換基とは、Ｃ１〜６アルキル基である。Ｃ１〜Ｃ６アルキル基としては、上記３級アミノ基を有する繰り返し単位の式（ＩＩＩ）におけるものと同様のものを例示できる。

ＱのＣ２〜Ｃ２０アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−２−ブテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ぺンタデセニル基、エイコセニル基、トリコセニル基等が挙げられる。これらのうち好ましくは、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基である。

式（Ｉ）で表される繰り返し単位の原料となるモノマーとしては、（メタ）アクリル酸オキセタン−２−イルメチル、（メタ）アクリル酸オキセタン−３−イルメチル、（メタ）アクリル酸（２−メチルオキセタン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（３−メチルオキセタン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（２−エチルオキセタン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（３−プロピルオキセタン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸２−（オキセタン−２−イル）エチル、（メタ）アクリル酸２−（オキセタン−３−イル）エチル、（メタ）アクリル酸（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（テトラヒドロフラン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（２−メチルテトラヒドロフラン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（３−メチルテトラヒドロフラン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（５−メチルテトラヒドロフラン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（４−メチルテトラヒドロフラン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（３−メチルテトラヒドロフラン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（２−メチルテトラヒドロフラン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（５−メチルテトラヒドロフラン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（４−メチルテトラヒドロフラン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸２−（テトラヒドロフラン−３−イル）エチル、（メタ）アクリル酸オキシラン−２−イルメチル、（メタ）アクリル酸（３−メチルオキシラン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（２−メチルオキシラン−２−イル）メチル等や、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸２−メチルアリル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸（Ｅ）−ブテン−２−イル、（メタ）アクリル酸（Ｚ）−ブテン−２−イル、（メタ）アクリル酸３−ブテニル、（メタ）アクリル酸３−メチル−３−ブテニル、（メタ）アクリル酸（Ｅ）−ペンテン−３−イル、（メタ）アクリル酸（Ｚ）−ペンテン−３−イル、（メタ）アクリル酸３−メチル−２−ブテニル等を例示することができる。

（式（ＩＩ）で表される繰り返し単位）
ブロック鎖（Ｂ）は、さらに次式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種を含有する。

式（ＩＩ）中、Ｒ^４は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^５は、飽和脂肪族炭化水素基又は飽和脂環式炭化水素基を表す。

本発明において、Ｒ^４のＣ１〜Ｃ３アルキル基としては、上記３級アミノ基を有する繰り返し単位の式（ＩＩＩ）におけるものと同様のものを例示できる。
本発明において、Ｒ^５の飽和脂肪族炭化水素基としては、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基が好ましい。
上記Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、２−メチルブチル、ｎ−へキシル、イソヘキシル、３−メチルペンチル、エチルブチル、ｎ−ヘプチル、２−メチルへキシル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、２−エチルへキシル、３−メチルへプチル、ｎ−ノニル、イソノニル、１−メチルオクチル、エチルへプチル、ｎ−デシル、１−メチルノニル、ｎ−ウンデシル、１，１−ジメチルノニル、ｎ−ドデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ヘプタデシルおよびｎ−オクタデシル基等が挙げられる。これらのうち、特に好ましくはＣ１〜Ｃ６のアルキル基である。

また、本発明において、飽和脂環式炭化水素基は、基内のいずれかの部分に単環又は多環の環状構造を有する、飽和炭化水素基を意味し、Ｃ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０のアルキル置換シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０のシクロアルキルアルキル基、Ｃ７〜Ｃ２０の飽和橋かけ環炭化水素基等を包含する。
上記Ｃ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシル、シクロテトラデシル、シクロオクタデシル等が挙げられる。
上記Ｃ４〜Ｃ２０のアルキル置換シクロアルキル基としては、１−メチルシクロプロピル、２−エチルシクロプロピル、３−メチルシクロへキシル、４−メチルシクロへキシル、４−エチルシクロへキシル、３−エチルシクロヘキシル、２−メチルシクロオクチル、２−メチルシクロデシル、３−メチルシクロテトラデシル、３−メチルシクロオクタデシル等が挙げられる。
上記Ｃ４〜Ｃ２０のシクロアルキルアルキル基としては、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロへキシルメチル、シクロヘプチルエチル、シクロオクチルエチル、シクロデシルメチル、シクロテトラデシルメチル、シクロオクタデシルメチル等が挙げられる。
上記Ｃ７〜Ｃ２０の飽和橋かけ環炭化水素基としては、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イル基、アダマンチル基、ジシクロペンテニル基、イソボルニル基等が挙げられる。

（他の含有しうる繰り返し単位）
ブロック鎖（Ｂ）中の他の含有しうる繰り返し単位としては、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマー等由来の繰り返し単位が例示される。
芳香族ビニル系モノマーとしては、スチレン；ｏ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｍ−ｔ−ブトキシスチレン、ｐ−（１−エトキシエトキシ）スチレン、２，４−ジメチルスチレン、ビニルアニリン、ビニル安息香酸等のスチレン誘導体；２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、２−ビニルキノリン、４−ビニルキノリン、２−ビニルチオフェン、４−ビニルチオフェン等のヘテロアリール化合物；ビニルナフタレン、ビニルアントラセン等を挙げることができ、これらは１種単独で、あるいは２種以上混合して、用いることができる。

３）その他の事項
（共重合体中のブロック鎖（Ａ）、ブロック鎖（Ｂ）以外の含有しうるブロック鎖）
本発明の共重合体は、ブロック鎖（Ａ）及び（Ｂ）以外に、他のブロック鎖を有していてもよい。
そのような他のブロック鎖としては、（メタ）アクリル酸系モノマー、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマー等由来の繰り返し単位を含有するブロック鎖が挙げられる。これらのブロック鎖としては、単独重合したブロック鎖、ランダム共重合したブロック鎖、交互共重合したブロック鎖等が例示される。
（メタ）アクリル酸系モノマー、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマー等については、上記と同様のものが例示される。

（共重合体中のブロック鎖（Ａ）とブロック鎖（Ｂ）の比及び分子量等の物性）
本発明の共重合体中のブロック鎖（Ａ）とブロック鎖（Ｂ）の比は、特に制限はないが、重量％比で、１０〜４０対９０〜６０、好ましくは、１５〜３５対８５〜６５である。また、共重合体中の酸性基を有する繰り返し単位の含有割合は、０．５〜２０重量％、好ましくは、１〜１５重量％である。
また、ＧＰＣを用いて測定した、重量平均分子量は、１，０００〜２００，０００であり、分散剤としては２，０００〜１００，０００が好ましく、より好ましくは２，０００〜５０，０００である。ＧＰＣを用いて測定した、重量平均分子量と数平均分子量との比は、１．０〜２．５であり、分散剤としては特に、１．０〜２．０が好ましい。

（２）共重合体の製造法
本発明のブロック共重合体の製造方法は、特に制限されず、公知の方法により製造することができるが、たとえば、モノマーをリビング重合で重合させ、ブロック共重合体とすることができる。リビング重合としてはリビングラジカル重合、リビングアニオン重合が挙げられるが、このうちリビングアニオン重合がさらに好ましい。
ブロック共重合体とするには、ブロック鎖（Ａ）又は（Ｂ）のモノマーを重合した後、連続的に別のブロックのモノマーを重合させてブロック共重合体化してもよいし、ブロック鎖（Ａ）とブロック鎖（Ｂ）の各モノマーを別々に反応させてブロックを作製した後、各ブロックを結合してもよい。リビングアニオン重合は、厳密に組成や分子量をコントロールすることができる点から好ましい。

リビングアニオン重合でブロック共重合体を製造する場合には、例えば、添加剤および重合開始剤を付加した溶媒に、所望のモノマーを滴下して重合することができる。この際、所望の配列のブロックポリマーとするためには、各ブロックのモノマーを、所望の配列になるよう順次滴下して、反応させる。
あるブロックのモノマーを重合し、次のブロックのモノマーを重合するには、先のブロックの重合反応の終了後、次のブロックのモノマーの滴下を開始する。重合反応の進行は、モノマーの残量をガスクロマトグラフィーや液体クロマトグラフフィーで検出することによって確認できる。また、先のブロックのモノマー滴下終了後、モノマーや溶媒の種類により異なるが、１分から１時間攪拌後、次のブロックのモノマーの滴下を開始することもできる。
各ブロックに複数種類のモノマーが含まれる場合には、それらを別々に滴下してもよいし、同時に滴下することもできる。

リビングアニオン重合で４級アンモニウム塩基を有するモノマーを重合するのは一般的に困難である。したがって、リビングアニオン重合で４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位を含む重合体を製造する場合は、３級アミノ基を有する繰り返し単位の原料となるモノマーを重合した後に、該３級アミノ基を公知の方法で、４級化することができる。４級化剤としては、塩化ベンジル、臭化ベンジル、ヨウ化ベンジル等や、塩化メチル、塩化エチル、臭化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキル、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、硫酸ジ−ｎ−プロピル等の一般的なアルキル化剤を挙げることができる。

リビングラジカル重合で製造する場合には、リビングアニオン重合と同様に反応を行うこともできるし、あるブロックのモノマーを重合後、次のモノマーを重合する前に、一旦重合体を精製して、先の反応のモノマーの残を除去した後に、次のモノマーを重合することもできる。各ブロックのモノマー同士が互いに混入しないことが好ましい場合には、重合体の精製を行うことが好ましい。
モノマーの重合に使用するアニオン重合開始剤としては、求核剤であって、アニオン重合性モノマーの重合を開始させる働きを有するものであれば特に制限されるものではなく、例えば、アルカリ金属、有機アルカリ金属化合物等を使用することができる。

アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等が挙げられる。有機アルカリ金属化合物としては、上記アルカリ金属のアルキル化物、アリル化物、アリール化物等や、リチウムアミド化合物等が挙げられる。具体的には、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、エチルナトリウム、リチウムビフェニル、リチウムナフタレン、リチウムトリフェニル、ナトリウムナフタレン、カリウムナフタレン、α−メチルスチレンナトリウムジアニオン、１，１−ジフェニルヘキシルリチウム、１，１−ジフェニル−３−メチルペンチルリチウム、１，４−ジリチオ−２−ブテン、１，６−ジリチオヘキサン、ポリスチリルリチウム、クミルカリウム、クミルセシウム、リチウムジメチルアミド、リチウムジエチルアミド、リチウムジブチルアミド、リチウムジプロピルアミド、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジヘプチルアミド、リチウムジヘキシルアミド、リチウムジオクチルアミド等を使用できる。これらのアニオン重合開始剤は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

アニオン重合開始剤の使用量は、用いるアニオン重合性モノマー全体に対して、通常０．０００１〜０．２当量、好ましくは０．０００５〜０．１当量である。この範囲のアニオン重合開始剤を用いることによって、目的とする重合体を収率よく製造することができる。
本発明における重合温度は、移動反応や停止反応などの副反応が起こらず、モノマーが消費され重合が完結する温度範囲であれば特に制限されないが、−１００℃以上溶媒沸点以下の温度範囲で行なわれることが好ましい。また、モノマーの重合溶媒に対する濃度は、特に制限されないが、通常、１〜４０重量％であり、２〜１５重量％であることが好ましい。

本発明の製造方法に用いられる重合溶媒は、重合反応に関与せず、かつ重合体と相溶性のある溶媒であれば特に制限されず、具体的には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、トリオキサンなどのエーテル系化合物、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの第３級アミンなどの極性溶媒や、ヘキサンやトルエンなどの脂肪族、芳香族又は脂環式炭化水素化合物などの非極性溶媒又は低極性溶媒を例示することができる。これらの溶媒は、１種単独で、又は２種以上の混合溶媒として用いることができる。本発明の製造方法においては、非極性溶媒又は低極性溶媒を極性溶媒と併用した場合でも、精度よく重合をコントロールすることができ、例えば、非極性溶媒又は低極性溶媒は、溶媒全体に対して、５ｖｏｌ％以上用いることができ、２０ｖｏｌ％以上用いてもよく、５０ｖｏｌ％以上用いてもよい。
本発明においては、必要に応じて、ジエチル亜鉛等のジアルキル亜鉛、ジブチルマグネシウム等のジアルキルマグネシウム、トリエチルアルミニウム等の有機金属を、重合安定化剤、モノマーや溶媒の精製剤として使用することもできる。

本発明においては、必要に応じてアルカリ金属塩、またはアルカリ土類金属塩などの添加剤を、重合開始時又は重合中に添加することができる。このような添加剤として、具体的には、ナトリウム、カリウム、バリウム、マグネシウムの硫酸塩、硝酸塩、ホウ酸塩などの鉱酸塩やハロゲン化物を例示することができ、より具体的には、リチウムやバリウムの塩化物、臭化物、ヨウ化物や、ホウ酸リチウム、硝酸マグネシウム、塩化ナトリウム、塩化カリウムなどを挙げることができる。これらの中でも、リチウムのハロゲン化物、例えば塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、フッ化リチウムが好ましく、塩化リチウムが特に好ましい。

（３）本発明の共重合体の用途
本発明の共重合体は、塗料、印刷インク、インクジェット用インク、カラーフィルター用顔料分散物等における各種の有機顔料の分散を始め、金属酸化物、金属水酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属ケイ酸塩、金属窒化物等の無機粒子の分散やカーボンナノチューブの分散に有用である。特に、カラーフィルター用顔料分散物における顔料分散にきわめて有用である。

［実施例］
以下実施例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明の技術的範囲はこれらの例示に限定されるものではない。

１０００ｍＬフラスコにテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと略すことがある）５１８．２６ｇ、塩化リチウム（４．０５重量％濃度ＴＨＦ溶液）４２．０９ｇ、ジイソプロピルアミン２．０６ｇを加え、−６０℃まで冷却した。その後、ｎ−ブチルリチウム８．５０ｇ（１５．３６重量％濃度ヘキサン溶液）を加え、１５分間熟成した。
次に、メタクリル酸２−（ジメチルアミノ）エチル（以下、ＤＭＭＡと略すことがある）４４．７１ｇを滴下し、滴下後２０分反応を継続した。そして、ガスクロマトグラフィー（以下、ＧＣと略す）を測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、ゲルパーミィエイションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと略す）（移動相ＴＨＦ、ＰＭＭＡスタンダード）で分析したところ、分子量（Ｍｗ）は２８６０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１５であった。
次いで、メタクリル酸メチル（以下、ＭＭＡと略すことがある）２８．０５ｇ、メタクリル酸ｎ−ブチル（以下、ｎＢＭＡと略すことがある）３９．２４ｇ、メタクリル酸３−エチル−３−オキセタニル（以下、ＯＸＭＡと略すことがある）２８．０３ｇの混合液を６０分かけて滴下し、滴下後３０分反応を継続した。ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール３．２２ｇを加えて反応を停止した。
得られた共重合体をＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード）により分析したところ、分子量（Ｍｗ）は９４１０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１７、組成比がＤＭＭＡ−［ＭＭＡ／ｎＢＭＡ／ＯＸＭＡ］＝３２−［２０／２８／２０］（重量％）の共重合体であることを確認した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、三回水洗後、溶媒を留去した。酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（以下、ＰＧＭＥＡと略す）に溶媒置換後、１−エトキシ−２−プロパノール（以下、ＰＧＭＥと略す）を加え、ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝７／３（ｗ／ｗ）約３５重量％溶液になるように調整した。ＤＭＭＡに対して、０．８当量の塩化ベンジル（以下、ＢｚＣｌと略すことがある）を加え、７０℃で７時間反応させることにより、四級化を行った。

１０００ｍＬフラスコにＴＨＦ５３５．６９ｇ、塩化リチウム（４．０５重量％濃度ＴＨＦ溶液）４４．４１ｇ、ジイソプロピルアミン２．１０ｇを加え、−６０℃まで冷却した。その後、ｎ−ブチルリチウム８．５３ｇ（１５．３６重量％濃度ヘキサン溶液）を加え、１５分間熟成した。
次に、ＤＭＭＡ４５．５７ｇを滴下し、滴下後２０分反応を継続した。そして、ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、ＧＰＣ（移動相ＴＨＦ、ＰＭＭＡスタンダード）で分析したところ、分子量（Ｍｗ）は３２２０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１５であった。
次いで、ＭＭＡ２３．８３ｇ、ｎＢＭＡ３９．３２ｇ、ＯＸＭＡ２５．２４ｇ、メタクリル酸１−エトキシエチル（以下、ＥＥＭＡと略すことがある）１２．７４ｇの混合液を６０分かけて滴下し、滴下後３０分反応を継続した。ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール３．２８ｇを加えて反応を停止した。
得られた共重合体をＧＰＣ（移動相ＴＨＦ、ＰＭＭＡスタンダード）により分析したところ、分子量（Ｍｗ）は１０７２０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１１、組成比がＤＭＭＡ−［ＭＭＡ／ｎＢＭＡ／ＯＸＭＡ／ＥＥＭＡ］＝３１−［１６／２７／１７／９］（重量％）の共重合体であることを確認した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、三回水洗後、溶媒を留去した。ＰＧＭＥＡに溶媒置換後、ポリマーと同量の水を加え、１１５℃で７時間熟成させた。得られた共重合体をＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード）により分析し、分子量（Ｍｗ）は６５１０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．４６、組成比がＤＭＭＡ−［ＭＭＡ／ｎＢＭＡ／ＯＸＭＡ／ＭＡ］＝３２−［１７／２８／１８／５］（重量％）の共重合体であることを確認した。ここで、ＭＡは、メタクリル酸を意味し、ＥＥＭＡが脱保護されて得られたものである。
次にＰＧＭＥを加え、ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝７／３（ｗ／ｗ）約３５重量％溶液になるように調整した。ＤＭＭＡに対して、０．８当量のＢｚＣｌを加え、７０℃で７時間反応させることにより、四級化を行った。

１０００ｍＬフラスコにＴＨＦ５２１．７１ｇ、塩化リチウム（４．０５重量％濃度ＴＨＦ溶液）４６．７９ｇ、ジイソプロピルアミン２．１４ｇを加え、−６０℃まで冷却した。その後、ｎ−ブチルリチウム８．２０ｇ（１５．３６重量％濃度ヘキサン溶液）を加え、１５分間熟成した。
次に、ＤＭＭＡ４４．８２ｇを滴下し、滴下後２０分反応を継続した。そして、ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、ＧＰＣ（移動相ＴＨＦ、ＰＭＭＡスタンダード）で分析したところ、分子量（Ｍｗ）は３４９０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０９であった。
次いで、ＭＭＡ２８．５０ｇ、ｎＢＭＡ３９．６０ｇ、メタクリル酸アリル（以下、ＡＭＡと略すことがある）２８．４８ｇの混合液を６０分かけて滴下し、滴下後３０分反応を継続した。ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール３．３８ｇを加えて反応を停止した。
得られた共重合体をＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード）により分析したところ、分子量（Ｍｗ）は１１３２０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１６、組成比がＤＭＭＡ−［ＭＭＡ／ｎＢＭＡ／ＡＭＡ］＝３２−［２０／２８／２０］（重量％）の共重合体であることを確認した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、三回水洗後、溶媒を留去した。ＰＧＭＥＡに溶媒置換後、ＰＧＭＥを加え、ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝７／３（ｗ／ｗ）約３５重量％溶液になるように調整した。ＤＭＭＡに対して、０．８当量のＢｚＣｌを加え、７０℃で７時間反応させることにより、四級化を行った。

１０００ｍＬフラスコにＴＨＦ５１９．５６ｇ、塩化リチウム（４．０５重量％濃度ＴＨＦ溶液）４８．４６ｇ、ジイソプロピルアミン２．１１ｇを加え、−６０℃まで冷却した。その後、ｎ−ブチルリチウム８．４７ｇ（１５．３６重量％濃度ヘキサン溶液）を加え、１５分間熟成した。
次に、ＤＭＭＡ４５．１２ｇを滴下し、滴下後２０分反応を継続した。そして、ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、ＧＰＣ（移動相ＴＨＦ、ＰＭＭＡスタンダード）で分析したところ、分子量（Ｍｗ）は２８００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１５であった。
次いで、ＭＭＡ２３．８６ｇ、ｎＢＭＡ３９．９５ｇ、ＡＭＡ２５．５７ｇ、ＥＥＭＡ１２．７８ｇの混合液を６０分かけて滴下し、滴下後３０分反応を継続した。ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール３．２２ｇを加えて反応を停止した。
得られた共重合体をＧＰＣ（移動相ＴＨＦ、ＰＭＭＡスタンダード）により分析したところ、分子量（Ｍｗ）は１０４７０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１２、組成比がＤＭＭＡ−［ＭＭＡ／ｎＢＭＡ／ＡＭＡ／ＥＥＭＡ］＝３１−［１６／２７／１７／９］（重量％）の共重合体であることを確認した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、三回水洗後、溶媒を留去した。ＰＧＭＥＡに溶媒置換後、ポリマーと同量の水を加え、１１５℃で７時間熟成させた。得られた共重合体をＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード、カラムは変更）により分析し、分子量（Ｍｗ）は６３４０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５０、組成比がＤＭＭＡ−［ＭＭＡ／ｎＢＭＡ／ＡＭＡ／ＭＡ］＝３２−［１７／２８／１８／５］（重量％）の共重合体であることを確認した。ここで、ＭＡは上記と同じ意味である。
次にＰＧＭＥを加え、ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝７／３（ｗ／ｗ）約３５重量％溶液になるように調整した。ＤＭＭＡに対して、０．８当量のＢｚＣｌを加え、７０℃で７時間反応させることにより、四級化を行った。

１０００ｍＬフラスコにＴＨＦ５２１．０３ｇ、塩化リチウム（３．５９重量％濃度ＴＨＦ溶液）４８．２０ｇ、ジイソプロピルアミン２．１１ｇを加え、−６０℃まで冷却した。その後、ｎ−ブチルリチウム８．６７ｇ（１５．３６重量％濃度ヘキサン溶液）を加え、１５分間熟成した。
次に、ＤＭＭＡ４４．７５ｇを滴下し、滴下後２０分反応を継続した。そして、ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、ＧＰＣ（移動相ＴＨＦ、ＰＭＭＡスタンダード）で分析したところ、分子量（Ｍｗ）は３０６０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０９であった。
次いで、ＭＭＡ２７．８０ｇ、ｎＢＭＡ３９．３１ｇ、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル（以下、ＴＨＦＭＡと略すことがある）２８．１５ｇの混合液を６０分かけて滴下し、滴下後３０分反応を継続した。ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール３．２９ｇを加えて反応を停止した。
得られた共重合体をＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード）により分析したところ、分子量（Ｍｗ）は９０２０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１２、組成比がＤＭＭＡ−［ＭＭＡ／ｎＢＭＡ／ＴＨＦＭＡ］＝３２−［２０／２８／２０］（重量％）の共重合体であることを確認した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、三回水洗後、溶媒を留去した。ＰＧＭＥＡに溶媒置換後、ＰＧＭＥを加え、ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝７／３（ｗ／ｗ）約３５重量％溶液になるように調整した。ＤＭＭＡに対して、０．８当量のＢｚＣｌを加え、７０℃で７時間反応させることにより、四級化を行った。

［比較例１］
１０００ｍＬフラスコにＴＨＦ５６０．４１ｇ、塩化リチウム（３．６３重量％濃度ＴＨＦ溶液）１１．３２ｇ、ジフェニルエチレン３．２７ｇを加え、−６０℃まで冷却した。その後、ｎ−ブチルリチウム７．２８ｇ（１５．３６重量％濃度ヘキサン溶液）を加え、１５分間熟成した。
次に、ＭＭＡ３３．６９ｇ、ｎＢＭＡ１５．８０ｇ、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート（ＰＭＥ−２００日油株式会社製）（以下、ＰＥＧＭＡと略すことがある）８．６６ｇ、ＡＭＡ２３．１５ｇの混合液を６０分かけて滴下し、滴下後２０分反応を継続した。そして、ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、ＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード）で分析したところ、分子量（Ｍｗ）は７３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０８であった。
次いで、ＤＭＭＡ４０．３０ｇを滴下し、滴下後３０分反応を継続した。そして、ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール３．６５ｇを加えて反応を停止した。
得られた共重合体をＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード）により分析したところ、分子量（Ｍｗ）は９４３０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１０、組成比がＤＭＭＡ−［ＭＭＡ／ｎＢＭＡ／ＰＥＧＭＡ／ＡＭＡ］＝３３−［２８／１３／７／１９］（重量％）の共重合体であることを確認した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、三回水洗後、溶媒を留去した。ＰＧＭＥＡに溶媒置換後、ＰＧＭＥを加え、ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝７／３（ｗ／ｗ）約３５重量％溶液になるように調整した。ＤＭＭＡに対して、０．８当量のＢｚＣｌを加え、７０℃で７時間反応させることにより、四級化を行った。

［比較例２］
１０００ｍＬフラスコにＴＨＦ６１７．８２ｇ、塩化リチウム（３．６３重量％濃度ＴＨＦ溶液）１２．４４ｇ、ジフェニルエチレン３．３９ｇを加え、−６０℃まで冷却した。その後、ｎ−ブチルリチウム７．８２ｇ（１５．３６重量％濃度ヘキサン溶液）を加え、１５分間熟成した。
次に、ＭＭＡ４０．２４ｇ、ｎＢＭＡ１８．７０ｇ、ＰＥＧＭＡ１０．１７ｇ、ＯＸＭＡ２７．３０ｇの混合液を６０分かけて滴下し、滴下後２０分反応を継続した。そして、ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、ＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード）で分析したところ、分子量（Ｍｗ）は５８７０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０６であった。
次いで、ＤＭＭＡ４７．３８ｇを滴下し、滴下後３０分反応を継続した。そして、ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール３．８６ｇを加えて反応を停止した。
得られた共重合体をＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード）により分析したところ、分子量（Ｍｗ）は７６４０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０７、組成比がＤＭＭＡ−［ＭＭＡ／ｎＢＭＡ／ＰＥＧＭＡ／ＯＸＭＡ］＝３３−［２８／１３／７／１９］（重量％）の共重合体であることを確認した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、三回水洗後、溶媒を留去した。ＰＧＭＥＡに溶媒置換後、ＰＧＭＥを加え、ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝７／３（ｗ／ｗ）約３５重量％溶液になるように調整した。ＤＭＭＡに対して、０．８当量のＢｚＣｌを加え、７０℃で７時間反応させることにより、四級化を行った。

［比較例３］
１０００ｍＬフラスコにＴＨＦ６２６．５６ｇ、塩化リチウム（３．６３重量％濃度ＴＨＦ溶液）１０．２６ｇ、ジフェニルエチレン３．２３ｇを加え、−６０℃まで冷却した。その後、ｎ−ブチルリチウム６．９５ｇ（１５．３６重量％濃度ヘキサン溶液）を加え、１０分間熟成した。
次に、ＭＭＡ２６．５２ｇ、ｎＢＭＡ６２．１３ｇの混合液を３０分かけて滴下し、滴下後１５分反応を継続した。そしてＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した。反応液の一部をサンプリングし、ＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード）で分析したところ、分子量（Ｍｗ）は３８４０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。
次に、ＤＭＭＡ４２．１９ｇを滴下し、滴下後３０分反応を継続した。そして、ＧＣを測定し、モノマーの消失を確認した後、メタノール３．７９ｇを加えて反応を停止した。
得られた共重合体をＧＰＣ（移動相ＤＭＦ、ＰＭＭＡスタンダード）により分析したところ、分子量（Ｍｗ）は５７７０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０８、組成比がＤＭＭＡ−［ＭＭＡ／ｎＢＭＡ］＝３２−［２０／４８］（重量％）の共重合体であることを確認した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、三回水洗後、溶媒を留去した。ＰＧＭＥＡに溶媒置換後、ＰＧＭＥを加え、ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝７／３（ｗ／ｗ）約３５重量％溶液になるように調整した。ＤＭＭＡに対して、０．８当量のＢｚＣｌを加え、７０℃で７時間反応させることにより、四級化を行った。

（顔料分散液の調製）
上記実施例１〜５及び比較例１〜３で得られた共重合体溶液を顔料分散剤として用いて、以下の顔料分散液を調製した。
顔料としてＣ．I．ピグメントレッド１７７を１５質量部、顔料分散剤として上記実施例１〜５及び比較例１〜３で得られたいずれかの共重合体溶液を１１．５質量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５５質量部及びジエチレングリコールメチルエチルエーテル１８．５質量部を用いて、ビーズミルにより１２時間混合・分散して顔料分散液を調製した。

その結果、実施例１〜５で得られた共重合体溶液を用いて調製された顔料分散液は、鮮やかな赤色を示し、４０℃で１週間保管した後も、調製直後と変わらぬ粘度値を示した。一方、比較例１〜３で得られた共重合体を用いて調製された顔料分散液は、鮮やかな赤色を示したが、４０℃で１週間保管した後、粘度値が調製直後対比で３０％増加した。

本発明の共重合体は顔料分散性に優れており、例えば、光学的カラーフィルターの製造に使用されるカラーフィルター用顔料分散剤として使用することができる。

Claims

３級アミノ基を有する繰り返し単位及び４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位からなるブロック鎖（Ａ）と、
下記式（Ｉ）
（式中、Ｒ^１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｑは、置換基としてアルキル基を有していてもよいオキセタニル基、置換基としてアルキル基を有していてもよいテトラヒドロフラニル基、置換基としてアルキル基を有していてもよいテトラヒドロピラニル基、置換基としてアルキル基を有していてもよいモルホルニル基、置換基としてアルキル基を有していてもよいチオモルホルニル基、又は、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基を表し、ｎは、０〜６のいずれかの整数を表す。）で表される繰り返し単位と、
下記式（ＩＩ）
（式中、Ｒ^４は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^５は、飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂環式炭化水素基を表す。）で表される繰り返し単位を含むランダム共重合体であるブロック鎖（Ｂ）を含有し、
上記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の共重合割合が、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を除くブロック鎖（Ｂ）中９０重量％以上であることを特徴とする共重合体。
３級アミノ基を有する繰り返し単位及び４級アンモニウム塩基を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位が、式（ＩＩＩ）
（式中、Ｒ^６は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ６〜Ｃ１０アリールＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｘは、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基又はＣ１〜Ｃ１０アルキレン−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基を表す。）で表される繰り返し単位であることを特徴とする請求項１に記載の共重合体。
重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０１〜２．００であることを特徴とする請求項１又は２に記載の共重合体。
重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜５００００であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の共重合体。
ブロック鎖（Ａ）とブロック鎖（Ｂ）の比が、重量％で１０〜４０対９０〜６０である請求項１〜４のいずれかに記載の共重合体。