JP2000169531A - ブロック共重合体の製造方法 - Google Patents

ブロック共重合体の製造方法

Info

Publication number
JP2000169531A
JP2000169531A JP10344207A JP34420798A JP2000169531A JP 2000169531 A JP2000169531 A JP 2000169531A JP 10344207 A JP10344207 A JP 10344207A JP 34420798 A JP34420798 A JP 34420798A JP 2000169531 A JP2000169531 A JP 2000169531A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
monomer
block copolymer
monomer component
ethylenically unsaturated
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10344207A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuo Ogawa
哲夫 小川
Takeshi Fujii
毅 藤井
Kenji Seko
健治 瀬古
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kansai Paint Co Ltd
Original Assignee
Kansai Paint Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kansai Paint Co Ltd filed Critical Kansai Paint Co Ltd
Priority to JP10344207A priority Critical patent/JP2000169531A/ja
Publication of JP2000169531A publication Critical patent/JP2000169531A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 重合の煩雑さや臭気の問題がなく、特定のモ
ノマー組成を特定部位に局在化したABA又はABCブ
ロック共重合体を製造できる方法を得る。 【解決手段】 (A)2,4−ジフェニル−4−メチル
−1−ペンテン及びラジカル重合開始剤の存在下に、メ
タクリロイル基含有モノマーを主体とする第1のモノマ
ー成分をラジカル重合してマクロモノマーを製造する工
程、(B)該マクロモノマーの存在下に、メタクリロイ
ル基含有モノマーを主体とする第2のモノマー成分をラ
ジカル的付加開裂型連鎖移動重合して末端にエチレン性
不飽和基を有するABブロック共重合体を製造する工
程、及び(C)該ABブロック重合体の存在下に、メタ
クリロイル基含有モノマーを主体とする第3のモノマー
成分をラジカル的付加開裂型連鎖移動重合する工程、を
順次行うABC又はABAブロック共重合体の製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、塗料、レジスト、
フィルム、分散剤、表面調整剤、成形材料などの分野で
有用なABC又はABA型ブロック共重合体の製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
ラジカル重合により得られるポリマーは、塗料、レジス
ト、フィルム、分散剤、表面調整剤、成形材料などの分
野に広く用いられている。これらのポリマーは、その用
途に応じて必要とされる物理的、化学的性能は異なって
くる。これらの性能の調整は、一つには、原料となる種
々のエチレン性不飽和単量体(モノマー)の組合せによ
って行うことができる。しかしながら、近年、各用途に
おいて、ポリマー材料にさらなる性能の向上が求められ
ており、上記原料の組合せの調整だけではそれらの要求
に応えることができなくなってきている。
【0003】そこで、ポリマーのさらなる性能向上を図
るため、ポリマーの新しい設計手法としてポリマーの構
造を規制する方法が行なわれており、異なる性質のポリ
マーを直鎖状に結合したポリマー(ブロック共重合
体)、幹となるポリマーに異なる性質又は同質のポリマ
ーが枝状に結合したポリマー(グラフト共重合体)など
が検討されている。
【0004】グラフト共重合体の製造方法としては、ア
クリロイル基またはメタクリロイル基のようなラジカル
重合性に優れたエチレン性不飽和基をポリマー鎖の末端
に導入したマクロモノマーの単独重合あるいは他のエチ
レン性不飽和単量体との共重合によりグラフト(共)重
合体を得る方法が広く知られている。
【0005】例えば、特公昭43−11224号公報に
は、マクロモノマーを製造する工程においてメルカプト
プロピオン酸のような連鎖移動剤を用いてポリマー鎖末
端にカルボン酸基を導入し、ついでメタクリル酸グリシ
ジルを付加することによってエチレン性不飽和基を導入
してマクロモノマーを得る方法が記載されている。しか
しながら、この方法は、非常に臭気の強いメルカプタン
系の連鎖移動剤の使用が必須であること、マクロモノマ
ーの製造に使用する不飽和単量体の官能基の種類が大き
く制限されること、グラフト共重合体を得るまでの工程
が煩雑であるなどの問題点がある。
【0006】マクロモノマーを得る方法としては、コバ
ルト錯体を用いた触媒的連鎖移動重合法(Catalytic Ch
ain Transfer Polymerization,CCTP)による方法
が、特公平6−23209号公報、特公平7−3541
1号公報に開示されており、また、特表平7−5063
93号公報には、特定構造のエチレン性不飽和基をポリ
マー鎖の末端に導入したマクロモノマーを用いて他の重
合性不飽和モノマーとラジカル共重合するグラフト共重
合体の製造方法が記載されている。このマクロモノマー
もコバルト錯体を用いた触媒的連鎖移動重合法によって
製造されたものである。しかしながら、これらのコバル
ト錯体を用いた触媒的連鎖移動重合法によるマクロモノ
マーを他のモノマーとラジカル重合させる際には、触媒
的連鎖移動重合を起こさないようにするためにコバルト
錯体を除去するか、化学的に触媒活性を失わせる必要が
ある。また、合成されたポリマーはコバルト錯体の混入
による着色が著しく、工業製品と使用するには問題があ
る。
【0007】さらに、特開平7−002954号公報に
は、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテンを
付加−開裂型連鎖移動剤として用いてラジカル重合して
マクロモノマーを得て、ついでこのマクロモノマーを他
のエチレン性不飽和単量体と共重合することによってグ
ラフト共重合体を得る方法が記載されているが、ブロッ
ク共重合体の製造についてはなんら記載されていない。
【0008】ラジカル重合によるブロック共重合体の合
成については、最近、いくつかの報告がなされている。
例えば、2,2,6,6−テトラメチルピペリジンN−
オキシルラジカルのような安定なラジカルを用いたリビ
ングラジカル重合法によるブロック共重合体の合成例が
報告されている。例えば、 C.J.Hawker: J.Am.Chem.So
c.,116, 1185 (1994)には、スチレン及びスチレン誘導
体からなるブロック共重合体の合成例が挙げられ、 Nan
cy A.Listigovers, Michel K.Georges, PeterG. Odell,
and Barkev Keoshkerian, Macromolecules, 29, 8992-
8993 (1996)には、アクリレートモノマーのブロック共
重合体の合成例が挙げられている。しかしながら、これ
らの方法は重合率を高くすること(90%以上の重合
率)が困難であることや重合速度が遅いことなどの問題
がある。
【0009】また、J.wang, K.Matyjaszewski: J.Am.Ch
em.Soc.,117, 5614 (1995) には、1−フェネチルクロ
リド、塩化第一銅及びビピリジンを用いたリビングラジ
カル重合法によって末端に塩素原子を有するポリスチレ
ンを合成し、これを用いてメチルアクリレートをブロッ
ク共重合した合成例が報告されている。しかしながら、
この方法によって得られるブロック共重合体は、塩化第
一銅に起因する着色が著しく、工業的展開には大きな制
約となるといった問題がある。
【0010】本発明の目的は、上記のようなマクロモノ
マーのラジカル(共)重合に起因する問題点や制約がな
く、特定のモノマー組成を特定の部位に局在化でき、モ
ノマー組成の自由度を大きくできるABA又はABCブ
ロック共重合体を得ることである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の方法によれば、
2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテンである
付加開裂型連鎖移動剤の存在下で、メタクリロイル基を
有するエチレン性不飽和化合物を主体とするモノマー成
分を重合したマクロモノマーの存在下でモノマー成分を
付加開裂型連鎖移動重合(ラジカル重合)して末端にエ
チレン性不飽和基を有するブロック共重合体を得、さら
にこのブロック共重合体の存在下でモノマー成分をラジ
カル重合することによって所望の性質のポリマー鎖や種
々の官能基をブロック状に導入したABA又はABCブ
ロック共重合体を得ることが可能であることを見出し本
発明を完成するに至った。
【0012】すなわち、本発明は、(A)2,4−ジフ
ェニル−4−メチル−1−ペンテンである付加開裂型連
鎖移動剤及びラジカル重合開始剤の存在下に、メタクリ
ロイル基を有するエチレン性不飽和化合物を70モル%
以上含有する第1のモノマー成分をラジカル重合して、
末端にエチレン性不飽和基を有するマクロモノマーを製
造する工程、(B)該マクロモノマーの存在下に、メタ
クリロイル基を有するエチレン性不飽和化合物を70モ
ル%以上含有し且つ第1のモノマー成分と異なる組成の
第2のモノマー成分をラジカル的付加開裂型連鎖移動重
合して末端にエチレン性不飽和基を有するABブロック
共重合体を製造する工程、及び(C)該ABブロック重
合体の存在下に、メタクリロイル基を有するエチレン性
不飽和化合物を70モル%以上含有し且つ第2のモノマ
ー成分と異なる組成の第3のモノマー成分をラジカル的
付加開裂型連鎖移動重合する工程、を順次行うことを特
徴とするABC又はABAブロック共重合体の製造方法
を提供するものである。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明のABC又はABA
ブロック共重合体の製造方法について詳細に説明する。
【0014】本発明の製造方法は、下記(A)、(B)
及び(C)の工程を有しており、これらの工程を順次行
うことによってABC又はABAブロック共重合体を製
造することができる。
【0015】工程(A) 本発明方法における工程(A)は、末端にエチレン性不
飽和基を有するマクロモノマーを製造する工程であり、
2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン(α−
メチルスチレンダイマーとも呼称される、以下、「MS
D」と略称することがある)である付加開裂型連鎖移動
剤及びラジカル重合開始剤の存在下に第1のモノマー成
分のラジカル重合が行われる。
【0016】上記第1のモノマー成分は、メタクリロイ
ル基を有するエチレン性不飽和化合物(以下、「メタク
リロイルモノマー」と略称することがある)を70モル
%以上、好ましくは80モル%以上、さらに好ましくは
100モル%含有するものである。第1のモノマー成分
中におけるメタクリロイルモノマーの量が、70重量%
未満では、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペン
テンが共重合して消費されてしまうため生成ポリマー中
のマクロモノマーの割合が減少したり、共重合反応によ
って得られるポリマーの分子量が所望の分子量よりも大
きくなり易いので好ましくない。
【0017】上記メタクリロイルモノマーは、分子中に
1個のメタクリロイル基を有し、その具体例としては、
例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタク
リレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタ
クリレート、tert−ブチルメタクリレート、2−エチル
ヘキシルメタクリレート、n−オクチルメタクリレー
ト、ラウリルメタクリレート、トリデシルメタクリレー
ト、ステアリルメタクリレート等のC1〜24アルキルメ
タクリレート;メタアクリル酸;2−ヒドロキシエチル
メタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、
4−ヒドロキシブチルメタクリレートなどのヒドロキシ
アルキルメタクリレート;グリシジルメタクリレート、
3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート
などのエポキシ基含有メタクリレート;N,N−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジエチルアミ
ノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノプロ
ピルメタクリレートなどのアミノアルキルメタクリレー
ト;メタアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチ
ルメタクリルアミド、N,N−ジエチルアミノエチルメ
タクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルメタ
クリルアミド、N−メチロールメタクリルアミドメチル
エーテル、N−メチロールメタクリルアミドブチルエー
テルなどのメタクリルアミド又はその誘導体;3−エチ
ル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタン、3−
メチル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタン、
3−ブチル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタ
ンなどのオキセタン環含有メタクリレート;γ−メタク
リロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−メタ
クリロイルオキシエチルトリメトキシシランなどのアル
コキシシリル基含有メタクリレート;サイラプレンFM
−0711(チッソ(株)製)などのジメチルポリシロ
キサン含有メタクリレート、ヘキサフルオロイソプロピ
ルメタクリレート、パーフルオロオクチルメチルメタク
リレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート
などの含フッ素メタクリレート、メタクリロニトリルな
どを挙げることができる。これらのメタクリロイルモノ
マーは、1種で、又は2種以上を組合せて使用すること
ができる。
【0018】上記第1のモノマー成分中に上記メタクリ
ロイルモノマーに加えて使用することができるモノマー
としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリ
レート、イソブチルアクリレート、tert−ブチルアクリ
レート、2−エチルヘキシルアクリレート、ステアリル
アクリレート等のC1〜24アルキルアクリレート;アク
リル酸;2−ヒドロキシエチルアクリレートなどのヒド
ロキシアルキルアクリレート;グリシジルアクリレー
ト、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレー
トなどのエポキシ基含有アクリレート;N,N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノ
エチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル
メタクリレートなどのアミノアルキルアクリレート;ア
クリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチルアクリル
アミド、N,N−ジエチルアミノエチルアクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミドメチルエーテル、N
−メチロールアクリルアミドブチルエーテルなどのアク
リルアミド又はその誘導体;3−エチル−3−アクリロ
イルオキシメチルオキセタン、3−メチル−3−アクリ
ロイルオキシメチルオキセタンなどのオキセタン環含有
アクリレート;アクリロニトリル、スチレン、ビニルト
ルエンなどを挙げることができる。これらのモノマー
は、1種で、又は2種以上を組合せて使用することがで
きる。
【0019】工程(A)において、上記第1のモノマー
成分のラジカル重合は、付加開裂型の連鎖移動剤である
MSD及びラジカル重合開始剤の存在下で、例えば、有
機溶剤中での溶液重合法、水中でのエマルジョン重合法
などの方法によって行うことができる。
【0020】上記MSDの使用量は、特に限定されるも
のではないが、通常、第1のモノマー成分100重量部
に対して、1〜50重量部、好ましくは5〜30重量部
の範囲内であることが適当である。
【0021】上記ラジカル重合開始剤としては、例え
ば、シクロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−ト
リメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシク
ロヘキサノンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブ
チルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキ
サン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロ
ヘキサン、n−ブチル−4,4−ビス(tert−ブチルパ
ーオキシ)バレレート、クメンハイドロパーオキサイ
ド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパ
ーオキサイド、1,3−ビス(tert−ブチルパーオキシ
−m−イソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジイ
ソプロピルベンゼンパーオキサイド、tert−ブチルクミ
ルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロ
イルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、2,
4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ビス(tert−
ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、te
rt−ブチルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル
−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン等の過
酸化物系重合開始剤;2,2´−アゾビス(イソブチロ
ニトリル)、1,1−アゾビス(シクロヘキサン−1−
カルボニトリル)、アゾクメン、2,2´−アゾビス
(2−メチルブチロニトリル)、2,2´−アゾビスジ
メチルバレロニトリル、4,4´−アゾビス(4−シア
ノ吉草酸)、2−(t−ブチルアゾ)−2−シアノプロ
パン、2,2´−アゾビス(2,4,4−トリメチルペ
ンタン)、2,2´−アゾビス(2−メチルプロパ
ン)、ジメチル2,2´−アゾビス(2−メチルプロピ
オネート)等のアゾ系重合開始剤を挙げることができ
る。上記ラジカル重合開始剤の使用量は、特に限定され
るものではないが、通常、第1のモノマー成分100重
量部に対して、0.1〜20重量部、好ましくは0.5
〜10重量部の範囲内であることが適当である。
【0022】上記ラジカル重合を有機溶剤中で行う場合
に使用される有機溶剤としては、第1のモノマー成分及
び重合によって得られるマクロモノマーを溶解又は分散
できるものであれば特に制限なく使用することができ
る。上記有機溶剤の具体例としては、例えば、ヘプタ
ン、トルエン、キシレン、オクタン、ミネラルスピリッ
ト等の炭化水素系溶剤;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、
酢酸イソブチル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート等のエステル系溶剤;メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系溶剤;メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、n−ブタノール、 sec−ブタ
ノール、イソブタノール等のアルコール系溶剤;n−ブ
チルエーテル、ジオキサン、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル
等のエーテル系;コスモ石油社製のスワゾール310、
スワゾール1000、スワゾール1500等の芳香族石
油系溶剤等を挙げることができる。これらの有機溶剤は
1種で又は2種以上を組合せて使用することができる。
ラジカル重合時において、上記有機溶剤は、第1のモノ
マー成分の合計量に対して、通常、400重量%以下と
なる範囲で使用される。
【0023】有機溶剤中で第1のモノマー成分のラジカ
ル重合反応を行う場合、付加開裂型連鎖移動剤であるM
SD、ラジカル重合開始剤、第1のモノマー成分及び有
機溶剤を混合し、撹拌しながら加熱してもよいが、反応
熱をよる系の温度上昇を抑えるために以下の(1)、
(2)の方法が好適に用いられる。
【0024】(1)MSDおよび有機溶剤を反応槽に仕
込み、60℃〜200℃の温度で撹拌しながら、第1の
モノマー成分とラジカル重合開始剤を所定の時間かけて
混合滴下または分離滴下する方法。
【0025】(2)上記(1)の方法において、MSD
の一部または全部をモノマーとともに混合滴下、又は分
離滴下する方法。
【0026】上記重合反応において、重合反応はラジカ
ル重合一般で行われるように窒素やアルゴンなどの不活
性ガスを吹き込みながら行うことが好ましい。
【0027】また上記ラジカル重合を水中でエマルジョ
ン重合にて行う場合には、それ自体既知のエマルジョン
重合法と同様に行うことができる。エマルジョン重合法
においても、上記付加開裂型連鎖移動剤、ラジカル重合
開始剤、第1のモノマー成分の配合方法を上記(1)又
は(2)と同様に行うことが好ましい。
【0028】工程(A)において、上記のようにして得
られるエチレン性不飽和基を有するマクロモノマーは、
末端に連鎖移動剤に基づく下記式
【0029】
【化1】
【0030】で示されるエチレン性不飽和基を有してお
り、また、このマクロモノマーは数平均分子量が200
〜2,000,000、好ましくは500〜500,0
00の範囲内にあることが適している。
【0031】工程(B) 工程(B)においては、上記工程(A)によって製造さ
れた末端にエチレン性不飽和基を有するマクロモノマー
の存在下に、第2のモノマー成分をラジカル的付加開裂
型連鎖移動重合して末端にエチレン性不飽和基を有する
ABブロック共重合体を製造する。
【0032】上記ABブロック共重合体を製造するため
に使用される第2のモノマー成分としては、第1のモノ
マー成分と異なる組成であって、第1のモノマー成分と
して使用できるモノマーを単独で又は組合わせて使用す
ることができる。また、第2のモノマー成分は、メタク
リロイルモノマーを70モル%以上、好ましくは80モ
ル%以上、さらに好ましくは100モル%含有するもの
である。第2のモノマー成分中におけるメタクリロイル
モノマーの量が、70モル%未満では共重合の際にグラ
フト共重合が起こり易くなるためマクロモノマーのエチ
レン性不飽和基が失われ易いので好ましくない。
【0033】ABブロック共重合体の製造における、上
記マクロモノマーと第2のモノマー成分との配合比率
は、特に限定されるものではないが、通常、前者:後者
の比で、5:95〜95:5、好ましくは10:90〜
90:10の範囲内にあることが好適である。
【0034】第2のモノマー成分のラジカル的付加開裂
型連鎖移動重合は、マクロモノマー及びラジカル重合開
始剤の存在下に、前記工程(A)におけると同様の重合
方法によって行うことができる。上記ラジカル重合開始
剤としては、工程(A)で使用可能なものとして記載し
たラジカル重合開始剤を使用することができる。
【0035】工程(B)によって製造されるABブロッ
ク共重合体は、マクロモノマーに第2のモノマー成分の
ポリマー鎖がブロック状に導入されたものであり、マク
ロモノマーのエチレン性不飽和基は消費されず、得られ
るABブロック共重合体は末端にエチレン性不飽和基を
有する。
【0036】工程(C) 工程(C)においては、上記工程(B)によって製造さ
れた末端にエチレン性不飽和基を有するABブロック共
重合体の存在下に、第3のモノマー成分をラジカル的付
加開裂型連鎖移動重合してABCブロック共重合体又は
ABAブロック共重合体を製造する。
【0037】上記ABC又はABAブロック共重合体を
製造するために使用される第3のモノマー成分として
は、第2のモノマー成分と異なる組成であって、第1の
モノマー成分として使用できるモノマーを単独で又は組
合わせて使用することができる。また、第3のモノマー
成分は、メタクリロイルモノマーを70モル%以上、好
ましくは80モル%以上、さらに好ましくは100モル
%含有するものである。第3のモノマー成分中における
メタクリロイルモノマーの量が、70重量%未満では、
共重合の際にグラフト共重合が起こり易くなるため工程
(B)で得られたABブロック共重合体のエチレン性不
飽和基が失われ易いので好ましくない。
【0038】ABC又はABAブロック共重合体の製造
における、上記ABブロック共重合体と第3のモノマー
成分との配合比率は、特に限定されるものではないが、
通常、前者:後者の比で、5:95〜95:5、好まし
くは10:90〜90:10の範囲内にあることが好適
である。
【0039】第3のモノマー成分のラジカル的付加開裂
型連鎖移動重合は、ABブロック共重合体及びラジカル
重合開始剤の存在下に、前記工程(A)におけると同様
の重合方法によって行うことができる。上記ラジカル重
合開始剤としては、工程(A)で使用可能なものとして
記載したラジカル重合開始剤を使用することができる。
【0040】工程(C)によって製造されるABC又は
ABAブロック共重合体は、ABブロック共重合体に第
3のモノマー成分のポリマー鎖がブロック状に導入され
たものであり、ABブロック共重合体のエチレン性不飽
和基は消費されず、得られるABC又はABAブロック
共重合体は末端にエチレン性不飽和基を有する。
【0041】ABC又はABAブロック共重合体を製造
するにあたり、第1、第2及び第3のモノマー成分とし
て、それぞれ所望のエチレン性不飽和単量体を使用する
ことができ、所望のポリマー鎖を導入することが可能な
ため、異なる性質のポリマー鎖や種々の官能基を共重合
体中に順次導入することが可能である。
【0042】ABC又はABAブロック共重合体を製造
するにあたり、第1のモノマー成分、第2のモノマー成
分及び第3のモノマー成分のうちの少なくとも一つのモ
ノマー成分として、例えばメタクリル酸グリシジル、
3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート
などの1,2−エポキシ基含有モノマー;3−エチル−
3−メタクリロイルオキシメチルオキセタンなどのオキ
セタタン環含有モノマー;メタクリル酸などのカルボキ
シル基含有モノマー;2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、2−又は3−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、4−ヒドロキシブチルメタクリレートなどの水酸基
含有モノマー;N,N−ジメチルアミノエチルメタクリ
レート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、N,N−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、
N,N−ジメチルアミノエチルメタクリルアミドなどの
アミノ基含有メタクリロイルモノマー;γ−メタクリロ
イルオキシプロピルトリメトキシシランなどのアルコキ
シシリル基含有メタクリレート等の官能基を有するエチ
レン性不飽和単量体を含有させることによって官能基含
有ABC又はABAブロック共重合体を得ることができ
る。
【0043】また、第1、第2及び第3のモノマー成分
のうちのいずれかに官能基を有するエチレン性不飽和単
量体を偏在させることによって官能基をABC又はAB
Aブロック共重合体の特定の位置に局在化できるので、
その官能基による架橋反応性を向上させることが可能で
ある。
【0044】官能基含有ABC又はABAブロック共重
合体は、その官能基と反応性を有する基を含有する化合
物と反応させることができ化学的変性や修飾を行うこと
ができる。また、ABC又はABAブロック共重合体は
エチレン性不飽和基を有するので、得られたABC又は
ABAブロック共重合体を使用して必要に応じて、さら
に、種類の異なる又は同一のエチレン性不飽和単量体を
ラジカル的付加開裂型連鎖移動重合することが可能であ
る。
【0045】ABC又はABAブロック共重合体を製造
するにあたり、(A)、(B)及び(C)工程のそれぞ
れで、極性の異なる単量体を使用することにより、有機
溶剤に分散状態のABC又はABAブロック共重合体を
得ることも可能である。
【0046】本発明方法において、(A)工程で製造さ
れるマクロモノマーの先端は、連鎖移動重合性のエチレ
ン性不飽和基を有するので、(B)工程にて、その存在
下で第2のモノマー成分のラジカル的付加開裂型連鎖移
動重合をゲル化を伴うことなく行うことができる。さら
に、また、(B)工程で製造されるABブロック共重合
体の先端は、連鎖移動重合性のエチレン性不飽和基を有
するので、その存在下で第3のモノマー成分のラジカル
的付加開裂型連鎖移動重合をゲル化を伴うことなく行う
ことができる。
【0047】本発明の方法によって得られるABC又は
ABAブロック共重合体は、有機溶剤中や水中に分散又
は溶解した形態で得ることができるが、公知の脱溶剤法
や乾燥法により、固形樹脂として取出すこともできる。
【0048】本発明の方法によって得られるABC又は
ABAブロック共重合体は、例えば、塗料用樹脂、レジ
スト材料、フィルム材料、分散剤、表面調整剤、成形材
料などとして使用することができる。固形樹脂と得られ
る場合には、例えば粉体塗料やフィルム成型などに好適
に使用できる。
【0049】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明する。なお、以下「部」および「%」はそれぞれ重
量部および重量%を示す。
【0050】実施例1 <工程1>マクロモノマーの製造 フラスコに、3−メトキシブチルアセテート60.25
部及び2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン
(以下、「MSD」と略称することがある)30部を仕
込み、170℃で窒素を吹き込みながら撹拌し、この中
にグリシジルメタクリレート150部とVR110(注
1)3部との混合液を3時間かけて滴下した。そのま
ま、30分間撹拌の後、30分間かけてフラスコ内の温
度を115℃に冷却、保持し、この中にV59(注2)
0.75部と3−メトキシブチルアセテート6部との混
合液を1時間かけて滴下し、同温度に30分間保持し、
ついで冷却して固形分60%のマクロモノマー溶液を得
た。
【0051】得られたマクロモノマーは、数平均分子量
1,300、重量平均分子量2,200であり、プロト
ンNMRでの解析(注3)によるとMSD由来のエチレ
ン性不飽和基のうちの92%がポリマー鎖末端に存在
し、5%が未反応のまま残存し、3%は消失していた。
【0052】(注1)VR110:和光純薬(株)製、
アゾ系ラジカル重合開始剤、 (注2)V59:和光純薬(株)製、アゾ系ラジカル重
合開始剤、 (注3)プロトンNMRでの解析:溶媒として重クロロ
ホルムを使用し、MSDの不飽和基のプロトンに基づく
ピーク(4.8 ppm、5.1 ppm)は、付加開裂型の連
鎖移動重合によりポリマー鎖末端のエチレン性不飽和基
のプロトンに基づくピーク(5.0 ppm、5.2 ppm)
に変化する。MSDに由来する芳香族プロトン(7.2
ppm)は、重合工程で変化しないと仮定してこれを基準
に各不飽和基(未反応、ポリマー鎖末端、消失)を定量
化した。
【0053】<工程2>ABブロック共重合体の製造 上記のようにして得た固形分60%のマクロモノマー溶
液250部に3−メトキシブチルアセテート170部を
加え、撹拌下に115℃に加熱、保持した。この中に、
メチルメタクリレート275部と5.5部のV59との
混合液を2時間かけて滴下し、続いて1.4部のV59
と6.4部の3−メトキシブチルアセテートとの混合液
を1時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度にて30
分間撹拌した後、冷却し、固形分60%のABブロック
共重合体溶液を得た。得られたABブロック共重合体
は、数平均分子量3,700、重量平均分子量6,30
0であり、重合率は99.0%であった。
【0054】上記ABブロック共重合の進行は、以下の
方法によって確認した。NMRでの解析によるとマクロ
モノマー中のMSD由来のエチレン性不飽和基は、95
%が<工程2>で生成したポリマー鎖末端に存在し、5
%は消失していた。すなわち上記<工程1>で得たマク
ロモノマー末端のエチレン性不飽和基は、<工程2>で
生成したポリマー鎖末端として、ほとんど保持されたこ
とになる。もし、<工程1>で得たマクロモノマーがグ
ラフト共重合すれば、グラフト共重合体が生成し、ポリ
マー鎖末端のエチレン性不飽和基は消失する。また、<
工程2>で生成したポリマーのゲル透過クロマトグラフ
測定(以下、「GPC」と略称することがある)の分子
量分布によると、<工程1>で得たマクロモノマーの痕
跡がほとんど認められず、殆どそのまま高分子量側にシ
フトしていた。以上のことからABブロック共重合体が
生成しているものと考えられる。
【0055】<工程3>ABAブロック共重合体の製造 上記のようにして得た固形分60%のABブロック共重
合体溶液708.3部を115℃に保持し、撹拌下に、
3−メトキシブチルアセテート44.8部、グリシジル
メタクリレート75部及び1.5部のV59の混合液を
2時間かけて滴下した。続いて、0.4部のV59と3
−メトキシブチルアセテート3.3部との混合液を1時
間かけて滴下し、さらに同温度にて30分間撹拌した
後、冷却して固形分60%のABAブロック共重合体溶
液を得た。得られたABAブロック共重合体は、数平均
分子量4,300、重量平均分子量7,400であり、
重合率は99.0%であった。
【0056】上記ABAブロック共重合の進行は、以下
の方法によって確認した。NMRでの解析によるとAB
ブロック共重合体中のMSD由来のエチレン性不飽和基
は、94%が<工程3>で生成したポリマー鎖末端に存
在し、6%は消失していた。すなわち<工程2>で得た
ABブロック共重合体の末端のエチレン性不飽和基は、
<工程3>で生成したポリマー鎖末端として、殆ど保持
されたことになる。もし<工程2>で得たABブロック
共重合体がグラフト共重合すれば、グラフト共重合体が
生成しポリマー鎖末端のエチレン性不飽和基は消失す
る。また、<工程3>で生成したポリマーのGPCによ
ると、<工程2>で得たABブロック共重合体の痕跡が
殆ど認められず、殆どそのまま高分子量側にシフトして
いた。以上のことからABAブロック共重合体が生成し
ているものと考えられる。
【0057】実施例2〜7 実施例1において、<工程1>で使用のグリシジルメタ
クリレート150部、<工程2>で使用のメチルメタク
リレート275部及び<工程3>で使用のメチルメタク
リレート75部をそれぞれ後記表1に示したモノマー種
及び量に変更する以外は実施例1と同様に行い、ABA
ブロック共重合体溶液又はABCブロック共重合体溶液
を得た。各実施例における各工程の重合率、MSD由来
のエチレン性不飽和基の変化率、生成ポリマー(<工程
1>ではマクロモノマー)の分子量を表1に示す。ま
た、各実施例における<工程2>で得られたポリマーが
ABブロック共重合体であり、<工程3>で得られたポ
リマーがABAブロック共重合体又はABCブロック共
重合体であることを確認した。
【0058】
【表1】
【0059】
【表2】
【0060】表1中のモノマーの略号は、それぞれ下記
の意味を有する。
【0061】GMA:グリシジルメタクリレート MMA:メチルメタクリレート HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート MAAc:メタクリル酸 n−BMA:n−ブチルメタクリレート HDFDMA:ヘプタデカフルオロデシルメタクリレー
ト OXMA:3−(メタクリロイルオキシメチル)3−エ
チルオキセタン DMAEMA:N,N−ジメチルアミノエチルメタクリ
レート KBM503:信越シリコーン(株)製、シランモノマ
ーの商品名、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシランを主体とする。
【0062】比較例1 実施例1の<工程2>において、メチルメタクリレート
275部のかわりにメチルアクリレート275部を使用
する以外は、実施例1の<工程2>を同様に行って固形
分60%のポリマー溶液を得た。この<工程2>で得ら
れたポリマーは、数平均分子量23,000、重量平均
分子量53,000であり、重合率は99.0%であっ
た。
【0063】この重合の進行は以下のように確認した。
NMRの測定ではMSD由来のエチレン性不飽和基はす
べて消失していた。このことは、<工程1>のマクロモ
ノマーはメチルアクリレートとグラフト共重合したため
グラフト共重合体が生成し、ポリマー鎖末端の不飽和基
が消失したものと考えられる。また得られたポリマーの
GPCによると、<工程1>のマクロモノマーの痕跡は
ないが、実施例1に比較して分子量が大きく、分子量分
布(Mw/Mn)も大きい。
【0064】比較例2 <工程1>マクロモノマーの製造 フラスコに、3−メトキシブチルアセテート60.25
部及び2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン
30部を仕込み、170℃で窒素を吹き込みながら撹拌
し、この中に3−アクリロイルオキシメチル3−エチル
オキセタン150部と3部のVR110との混合液を3
時間かけて滴下した。そのまま、30分間撹拌の後、3
0分間かけてフラスコ内の温度を115℃に冷却、保持
し、この中に0.75部のV59と3−メトキシブチル
アセテート6部との混合液を1時間かけて滴下し、同温
度に30分間保持し、ついで冷却して固形分60%のマ
クロモノマー溶液を得た。
【0065】得られたマクロモノマーは、数平均分子量
6,800、重量平均分子量14,200であり、プロ
トンNMRでの解析(注3)によるとMSD由来のエチ
レン性不飽和基のうちの77%が消失し、12%が未反
応のまま残存し、ポリマー末端に存在する不飽和基は1
1%であった。
【0066】<工程2>ポリマーの製造 上記のようにして得た固形分60%のマクロモノマー溶
液250部に3−メトキシブチルアセテート170部を
加え、撹拌下に115℃に加熱、保持した。この中に、
メチルメタクリレート275部と5.5部のV59との
混合液を2時間かけて滴下し、続いて1.4部のV59
と6.4部の3−メトキシブチルアセテートとの混合液
を1時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度にて30
分間撹拌した後、冷却し、固形分60%のポリマー溶液
を得た。得られたポリマーは、数平均分子量17,00
0、重量平均分子量50,000であり、重合率は9
9.0%であった。
【0067】この重合の進行は以下のように確認した。
NMRの測定ではMSD由来のエチレン性不飽和基は、
6%がポリマー鎖末端に存在(11%から6%に減少)
し、2%が未反応であり、92%は消失していた。この
ことは、<工程1>のマクロモノマーはメチルアクリレ
ートとグラフト共重合したためグラフト共重合体が生成
し、ポリマー鎖末端の不飽和基が大きく減少したものと
考えられる。また得られたポリマーのGPCによると、
<工程1>のマクロモノマーに由来するピークが残存
し、分子量分布も広い。すなわち、<工程1>のマクロ
モノマー溶液中には、樹脂分としてマクロモノマー以外
に、末端にエチレン性不飽和基を有さないポリマーが混
在していたこと、及びかなりのマクロモノマーが付加開
裂型の連鎖移動重合をせずに未反応のまま残存したこと
が考えられる。
【0068】比較例3 フラスコに、3−メトキシブチルアセテート50.2部
及び2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン6
部を仕込み、170℃で窒素を吹き込みながら撹拌し、
この中にグリシジルメタクリレート45部とメチルメタ
クリレート55部及び2部のVR110との混合液を3
時間かけて滴下した。そのまま、30分間撹拌の後、こ
の中に0.5部のVR110と3−メトキシブチルアセ
テート8部との混合液を1時間かけて滴下し、同温度に
30分間保持し、ついで冷却して固形分60%のランダ
ム共重合体溶液を得た。得られた共重合体は、数平均分
子量4,700、重量平均分子量9,300であり、重
合率は98.0%であった。この共重合体の構成モノマ
ー組成は、実施例1で得たABAブロック共重合体の構
成モノマー組成と同じである。
【0069】比較例4 フラスコに、3−メトキシブチルアセテート50.2部
及び2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン6
部を仕込み、170℃で窒素を吹き込みながら撹拌し、
この中にメタクリル酸25部、メチルメタクリレート2
0部、n−ブチルメタクリレート55部及び2部のVR
110の混合液を3時間かけて滴下した。そのまま、3
0分間撹拌の後、この中に0.5部のVR110と3−
メトキシブチルアセテート8部との混合液を1時間かけ
て滴下し、同温度に30分間保持し、ついで冷却して固
形分60%のランダム共重合体溶液を得た。得られた共
重合体は、数平均分子量4,500、重量平均分子量
9,700であり、重合率は99.0%であった。この
共重合体の構成モノマー組成は、実施例3で得たABC
ブロック共重合体の構成モノマー組成と同じである。
【0070】比較例5 フラスコに、3−メトキシブチルアセテート50.2部
及び2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン6
部を仕込み、170℃で窒素を吹き込みながら撹拌し、
この中にグリシジルメタクリレート30部、メチルメタ
クリレート55部、ヘプタデカフルオロデシルメタクリ
レート15部及び2部のVR110の混合液を3時間か
けて滴下した。そのまま、30分間撹拌の後、この中に
0.5部のVR110と3−メトキシブチルアセテート
8部との混合液を1時間かけて滴下し、同温度に30分
間保持し、ついで冷却して固形分60%のランダム共重
合体溶液を得た。得られた共重合体は、数平均分子量
4,700、重量平均分子量9,300であり、重合率
は97.5%であった。この共重合体の構成モノマー組
成は、実施例4で得たABCブロック共重合体の構成モ
ノマー組成と同じである。
【0071】(比較試験)試験塗料の作成 実施例1、3、4のブロック共重合体溶液と比較例3、
4、5のランダム共重合体溶液との比較試験を下記のよ
うにして行なった。
【0072】(1)試験塗料1(実施例1のABAブロ
ック共重合体溶液使用)の作成 実施例1の60%ABAブロック共重合体溶液166.
6g(グリシジル基量:0.317モル)、セバチン酸
32.0g(カルボキシル基量:0.317モル)及び
テトラブチルアンモニウムブロマイド0.5gを混合し
て試験塗料1を作成した。
【0073】(2)試験塗料2(比較例3のランダム共
重合体溶液使用)の作成 上記(1)試験塗料1の作成において、実施例1の60
%ABAブロック共重合体溶液166.6gのかわりに
比較例3で得た60%のランダム共重合体溶液166.
6gを使用する以外は上記(1)試験塗料の作成と同様
に行い、試験塗料2を作成した。
【0074】(3)試験塗料3(実施例3のABCブロ
ック共重合体溶液使用)の作成 実施例3の60%ABCブロック共重合体溶液166.
6g(カルボキシル基量:0.291モル)、エピコー
ト828EL(注4)52.3g(グリシジル基量:
0.291モル)及びテトラブチルアンモニウムブロマ
イド0.5gを混合して試験塗料3を作成した。
【0075】(4)試験塗料4(比較例4のランダム共
重合体溶液使用)の作成 上記(3)試験塗料3の作成において、実施例3の60
%ABCブロック共重合体溶液166.6gのかわりに
比較例4で得た60%のランダム共重合体溶液166.
6gを使用する以外は上記(3)試験塗料3の作成と同
様に行い、試験塗料4を作成した。
【0076】(5)試験塗料5(実施例1のABAブロ
ック共重合体溶液及び実施例4のABCブロック共重合
体溶液使用)の作成 実施例1の60%ABAブロック共重合体溶液159g
(グリシジル基量:0.302モル)、実施例4の60
%ABCブロック共重合体溶液16.7g(グリシジル
基量:0.021モル)、セバチン酸32.6g(カル
ボキシル基量:0.323モル)及びテトラブチルアン
モニウムブロマイド0.5gを混合して試験塗料5を作
成した。
【0077】(6)試験塗料6(実施例1のABAブロ
ック共重合体溶液及び比較例5のランダム共重合体溶液
使用)の作成 上記(5)試験塗料5の作成において、実施例4の60
%ABCブロック共重合体溶液16.7gのかわりに比
較例5で得た60%のランダム共重合体溶液16.7g
を使用する以外は上記(5)試験塗料5の作成と同様に
行い、試験塗料6を作成した。
【0078】試験塗装板の作成 試験塗料1〜6の各試験塗料をアプリケータを用いてブ
リキ板上に、乾燥膜厚が約50μmとなるように塗装
し、140℃で10分間焼付けて各試験塗装板を作成し
た。また、試験塗料1〜4については140℃で10分
間焼付け以外に、焼付け条件120℃で10分間焼付け
した各試験塗装板も作成した。
【0079】試験塗料1〜4を塗装した2段階の焼付け
条件の各試験塗装板については、各試験塗装板の遊離塗
膜をアセトン還流下で約6時間抽出を行い、抽出前後の
塗膜重量比からゲル分率を求めた。その結果は下記表2
に示すとおりであった。
【0080】
【表3】
【0081】上記表2から明らかなように、試験塗料1
の試験塗装板と試験塗料2の試験塗装板とを比較する
と、いずれの焼付け条件においても試験塗料1の試験塗
装板のほうがゲル分率が大幅に高く硬化性に優れてい
た。また、試験塗料3の試験塗装板と試験塗料4の試験
塗装板とを比較すると、いずれの焼付け条件においても
試験塗料3の試験塗装板のほうがゲル分率が大幅に高く
硬化性に優れていた。
【0082】すなわち、官能基を偏在させた本発明のブ
ロック共重合体を用いた塗料のほうが、同じ官能基量を
有するランダム共重合体を用いた塗料より硬化性が優れ
ていた。
【0083】試験塗料5、6を塗装した各試験塗装板に
ついては塗面の撥水性について調査した。すなわち、2
0℃の室内にて塗膜面に0.03ccの脱イオン水の水
滴を形成し、水滴の接触角を、協和化学(株)製、コン
タクタングルメータDCAA型にて測定した。水滴の接
触角は、試験塗料5の試験塗装板では102度であり、
試験塗料6の試験塗装板では92度であり、フッ素含有
基を特定位置に偏在させた本発明のブロック共重合体を
用いた試験塗料5の試験塗装板のほうが、同じフッ素含
有基量を有するランダム共重合体を用いた塗料より撥水
性に優れたいた。
【0084】
【発明の効果】本発明方法によって、ABAブロック共
重合体又はABCブロック共重合体を臭気の問題や製造
の煩雑さなどなく製造することができる。また、モノマ
ー組成の自由度が大きく、官能基や特定モノマーを局在
化したブロック共重合体を得ることができ、これによっ
て反応性の向上、表面張力の極度の低下などを容易に行
うことができる。
【0085】本発明方法によって得られるABA又はA
BCブロック共重合体は、塗料、レジスト、フィルム、
分散剤、表面調整剤、成形材料などの分野で好適に使用
することができる。
フロントページの続き Fターム(参考) 4J011 AA05 QA03 QA05 QA06 QA07 QB02 QB19 QB25 QC06 SA76 SA79 TA08 TA10 WA01 WA02 WA07 XA02 4J027 AA01 AE04 AF05 AJ01 AJ02 AJ08 BA02 BA05 BA06 BA07 BA08 BA09 BA10 BA12 BA13 BA14 CB03 CB09 CC02 CD01 CD08 CD10

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)2,4−ジフェニル−4−メチル
    −1−ペンテンである付加開裂型連鎖移動剤及びラジカ
    ル重合開始剤の存在下に、メタクリロイル基を有するエ
    チレン性不飽和化合物を70モル%以上含有する第1の
    モノマー成分をラジカル重合して、末端にエチレン性不
    飽和基を有するマクロモノマーを製造する工程、 (B)該マクロモノマーの存在下に、メタクリロイル基
    を有するエチレン性不飽和化合物を70モル%以上含有
    し且つ第1のモノマー成分と異なる組成の第2のモノマ
    ー成分をラジカル的付加開裂型連鎖移動重合して末端に
    エチレン性不飽和基を有するABブロック共重合体を製
    造する工程、及び (C)該ABブロック重合体の存在下に、メタクリロイ
    ル基を有するエチレン性不飽和化合物を70モル%以上
    含有し且つ第2のモノマー成分と異なる組成の第3のモ
    ノマー成分をラジカル的付加開裂型連鎖移動重合する工
    程、を順次行うことを特徴とするABC又はABAブロ
    ック共重合体の製造方法。
  2. 【請求項2】 第1のモノマー成分、第2のモノマー成
    分及び第3のモノマー成分のいずれもが、メタクリロイ
    ル基を有するエチレン性不飽和化合物のみからなる請求
    項1記載の製造方法。
  3. 【請求項3】 第1のモノマー成分、第2のモノマー成
    分及び第3のモノマー成分のうちの少なくとも一つのモ
    ノマー成分が、1,2−エポキシ基、オキセタン環、カ
    ルボキシル基、水酸基、アミノ基及びアルコキシシリル
    基から選ばれる官能基を有するエチレン性不飽和単量体
    を含有するものである請求項1又は2記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 官能基を有するエチレン性不飽和単量体
    を含有するモノマー成分中における、官能基を有するエ
    チレン性不飽和単量体の割合が、該モノマー成分に基い
    て10〜100重量%である請求項3記載の製造方法。
JP10344207A 1998-12-03 1998-12-03 ブロック共重合体の製造方法 Pending JP2000169531A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10344207A JP2000169531A (ja) 1998-12-03 1998-12-03 ブロック共重合体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10344207A JP2000169531A (ja) 1998-12-03 1998-12-03 ブロック共重合体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000169531A true JP2000169531A (ja) 2000-06-20

Family

ID=18367467

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10344207A Pending JP2000169531A (ja) 1998-12-03 1998-12-03 ブロック共重合体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000169531A (ja)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001025357A3 (en) * 1999-10-07 2001-06-07 Du Pont Pigment dispersions containing abc-block polymer dispersant
WO2002028976A1 (fr) * 2000-10-04 2002-04-11 Kansai Paint Co., Ltd. Composition de revetement a base aqueuse
JP2009531514A (ja) * 2006-03-28 2009-09-03 カウンシル オブ サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ 末端不飽和を含有する水溶性マクロモノマー及びその製造方法
JP2010143983A (ja) * 2008-12-17 2010-07-01 Toray Fine Chemicals Co Ltd ラジカル重合性オリゴマーおよびその製造方法
JP2011080050A (ja) * 2009-09-09 2011-04-21 Kansai Paint Co Ltd 顔料分散樹脂の製造方法、顔料分散樹脂、顔料分散体及び塗料
WO2012063435A1 (ja) * 2010-11-08 2012-05-18 日本曹達株式会社 新規共重合体
JP2012229354A (ja) * 2011-04-27 2012-11-22 Hitachi Chemical Co Ltd 両末端にポリグリシジルブロックを有するアクリル樹脂及びその製造方法、それを用いた樹脂組成物
WO2013057918A1 (ja) * 2011-10-20 2013-04-25 日本曹達株式会社 新規共重合体
US8609311B2 (en) 2011-02-04 2013-12-17 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus
US8673526B2 (en) 2011-01-28 2014-03-18 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus
CN103772603A (zh) * 2013-11-28 2014-05-07 杭州杭化哈利玛化工有限公司 高分子量窄分布交联型聚丙烯酰胺的制备方法及其应用
WO2014109308A1 (ja) * 2013-01-11 2014-07-17 日本曹達株式会社 無機粒子用分散剤、該分散剤を含有する組成物、硬化性組成物、硬化物および薄膜
US8815480B2 (en) 2010-10-22 2014-08-26 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus
WO2016017596A1 (ja) * 2014-07-28 2016-02-04 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法
JP2016026264A (ja) * 2015-11-18 2016-02-12 日立化成株式会社 両末端にポリグリシジルブロックを有するアクリル樹脂及びその製造方法、それを用いた樹脂組成物

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6413306B1 (en) 1999-10-07 2002-07-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Pigment dispersions containing ABC-block polymer dispersant
WO2001025357A3 (en) * 1999-10-07 2001-06-07 Du Pont Pigment dispersions containing abc-block polymer dispersant
WO2002028976A1 (fr) * 2000-10-04 2002-04-11 Kansai Paint Co., Ltd. Composition de revetement a base aqueuse
JP2002179990A (ja) * 2000-10-04 2002-06-26 Kansai Paint Co Ltd 水性塗料組成物
JP2009531514A (ja) * 2006-03-28 2009-09-03 カウンシル オブ サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ 末端不飽和を含有する水溶性マクロモノマー及びその製造方法
JP2010143983A (ja) * 2008-12-17 2010-07-01 Toray Fine Chemicals Co Ltd ラジカル重合性オリゴマーおよびその製造方法
JP2011080050A (ja) * 2009-09-09 2011-04-21 Kansai Paint Co Ltd 顔料分散樹脂の製造方法、顔料分散樹脂、顔料分散体及び塗料
US8815480B2 (en) 2010-10-22 2014-08-26 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus
TWI458746B (zh) * 2010-11-08 2014-11-01 Nippon Soda Co Novel copolymer
WO2012063435A1 (ja) * 2010-11-08 2012-05-18 日本曹達株式会社 新規共重合体
JP5778686B2 (ja) * 2010-11-08 2015-09-16 日本曹達株式会社 新規共重合体
CN103180354A (zh) * 2010-11-08 2013-06-26 日本曹达株式会社 新型共聚物
KR101540165B1 (ko) * 2010-11-08 2015-07-28 닛뽕소다 가부시키가이샤 신규 공중합체
US9018311B2 (en) 2010-11-08 2015-04-28 Nippon Soda Co., Ltd. Copolymer
US8673526B2 (en) 2011-01-28 2014-03-18 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus
US8609311B2 (en) 2011-02-04 2013-12-17 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus
JP2012229354A (ja) * 2011-04-27 2012-11-22 Hitachi Chemical Co Ltd 両末端にポリグリシジルブロックを有するアクリル樹脂及びその製造方法、それを用いた樹脂組成物
CN103906777A (zh) * 2011-10-20 2014-07-02 日本曹达株式会社 新型共聚物
WO2013057918A1 (ja) * 2011-10-20 2013-04-25 日本曹達株式会社 新規共重合体
JP2013087232A (ja) * 2011-10-20 2013-05-13 Nippon Soda Co Ltd 新規共重合体
US9562128B2 (en) 2011-10-20 2017-02-07 Nippon Soda Co., Ltd. Copolymer
WO2014109308A1 (ja) * 2013-01-11 2014-07-17 日本曹達株式会社 無機粒子用分散剤、該分散剤を含有する組成物、硬化性組成物、硬化物および薄膜
JP6031125B2 (ja) * 2013-01-11 2016-11-24 日本曹達株式会社 無機粒子用分散剤、該分散剤を含有する組成物、硬化性組成物、硬化物および薄膜
CN103772603A (zh) * 2013-11-28 2014-05-07 杭州杭化哈利玛化工有限公司 高分子量窄分布交联型聚丙烯酰胺的制备方法及其应用
WO2016017596A1 (ja) * 2014-07-28 2016-02-04 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法
JP2016026264A (ja) * 2015-11-18 2016-02-12 日立化成株式会社 両末端にポリグリシジルブロックを有するアクリル樹脂及びその製造方法、それを用いた樹脂組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5156160B2 (ja) 表面コーティング用レベリング剤
JP2000169531A (ja) ブロック共重合体の製造方法
AU736750B2 (en) Graft copolymer emulsions and two-package waterborne urethane coatings
JP2001114847A (ja) イミダゾール基含有分岐重合体、その製造方法及びその用途
US20040054108A1 (en) Method for polymerizing ethylenically unsaturated monomers by degenerative iodine transfer
CN113088153B (zh) 一种氯化聚丙烯/丙烯酸酯杂化水分散体及其制备方法、应用
JP2000239334A (ja) 分岐ポリマーの製造方法
EP1523510B1 (en) Method for polymerizing ethylenically unsaturated monomers by degenerative iodine transfer
WO2015163321A1 (ja) ブロックポリマ
TW200400203A (en) Graft copolymer with a urethane/urea group as a pigment dispersant
JP5692896B2 (ja) 顔料分散樹脂の製造方法、顔料分散樹脂、顔料分散体及び塗料
JP2019023319A (ja) ブロックポリマ及びその製造方法
JP2927299B2 (ja) 塗料用樹脂組成物
JP4414056B2 (ja) N−ビニル環状ラクタム系グラフト重合体およびその製造方法
JP5524786B2 (ja) カルボニル基を有する変性ビニル系樹脂、その分散体、及び上記分散体を含む水性塗料組成物
JP2963897B1 (ja) 分散機能を有する両性樹脂の製造方法
JP2013144801A (ja) ペイント中の接着促進剤としてのコポリマーの使用
JP2764995B2 (ja) 低温硬化性樹脂組成物
WO2001096411A1 (en) Water soluble ampiphilic heteratom star polymers and their use as emulsion stabilizers in emulsion polymerization
JP6484927B2 (ja) ブロックポリマ及びその製造方法
JP2000191734A (ja) 分岐ポリマーの製造方法
JP6372565B2 (ja) ブロックポリマの製造方法
EP1523505A2 (en) Method for making methacrylate unit-containing low-polydispersity polymers
Balgeman Reversible Addition-Fragmentation Chain-Transfer Emulsion Polymerization and its Application to Waterborne Coatings
JP2002129093A (ja) エマルションの製造方法およびこのエマルションを用いた塗料組成物