JP5771674B2 - 加熱調理器 - Google Patents

Description

この発明は、加熱調理器に関し、詳しくは加熱室内にミストを供給する加熱調理器に関する。

従来の加熱調理器としては、蒸気発生装置で発生させた飽和水蒸気を過熱水蒸気生成用ヒータにより加熱することにより過熱水蒸気に変換して加熱室に供給するものがある(例えば、特開２０１３−０１９５９４号公報(特許文献１)参照)。

上記従来の加熱調理器では、蒸気発生装置の飽和水蒸気生成用ヒータと過熱水蒸気生成用ヒータが必要になり、それぞれ同時に最大電力を投入することができず、各ヒータの合計電力が最大電力になるようにするか、または、各ヒータに交互に最大電力を投入して、過熱水蒸気を生成するので、過熱水蒸気の生成効率が低下するという問題がある。

そこで、上記過熱水蒸気の生成効率を向上できる加熱調理器として、ミスト発生装置の水溜部で超音波ユニットの超音波振動により発生させたミストを加熱室に供給することが考えられる(例えば、特開２０１３−０６１０９８号公報(特許文献２)参照)。

特開２０１３−０１９５９４号公報 特開２０１３−０６１０９８号公報

しかしながら、上記超音波振動により発生させたミストを加熱室に供給する加熱調理器では、ミスト発生装置の水溜部で発生させたミストを供給経路に送り出すような構成がないため、加熱室にミストを効率よく供給することができないという問題があった。

そこで、この発明の課題は、簡単な構成で加熱室にミストを効率よく供給できる加熱調理器を提供することにある。

上記課題を解決するため、この発明の加熱調理器は、
被加熱物を加熱する加熱室と、
上記加熱室を介して熱媒体を循環させるための循環経路と、
上記循環経路内に配置された循環ファンと、
上記循環経路内かつ上記循環ファンの下流側にミストを供給するミスト供給装置と
を備え、
上記ミスト供給装置は、
略一定の水位に水を溜めるための水溜部と、
上記水溜部に溜まった水に超音波振動を与えてミストを発生させる超音波振動部と、
上記循環経路の上記循環ファンの下流側に、上記水溜部の略一定の水位に溜まった水の表面に沿って上記熱媒体が流入するように設けられた入口と、
上記循環経路の上記入口側よりも下流側、かつ、上記入口側よりも静圧が低くなる位置に設けられた出口とを有することを特徴とする。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記加熱室の側壁に設けられた上記循環経路の吸込口と、
上記加熱室の側壁かつ上記循環経路の吸込口の下側に設けられ、上記循環ファンの停止状態で上記ミスト供給装置から供給されたミストを上記循環経路内から上記加熱室内の底側に案内するミスト案内部を備えた。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記循環経路内に配置されたヒータを備えた。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記ミスト供給装置に温水を供給する温水供給装置を備えた。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記ミスト供給装置の出口側に設けられ、上記循環ファンによって上記循環経路に流れる上記熱媒体の流れに上記ミスト供給装置内のミストが吸引されるエジェクタ部を備えた。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記加熱室内にマイクロ波を供給するマイクロ波発生部を備え、
上記マイクロ波発生部から供給されるマイクロ波により上記被加熱物を加熱するとき、上記ミスト供給装置からのミストを上記循環経路を介して上記加熱室内に供給する。

以上より明らかなように、この発明によれば、簡単な構成で加熱室にミストを効率よく供給できる加熱調理器を実現することができる。

図１はこの発明の第１実施形態の加熱調理器の正面斜視図である。 図２は上記加熱調理器の縦断面の模式図である。 図３は上記加熱調理器の側面の模式図である。 図４は図３のIV−IV線から見た縦断面図である。 図５は図３のＶ−Ｖ線から見た縦断面図である。 図６は上記加熱調理器の制御ブロック図である。 図７はこの発明の第２実施形態の加熱調理器の制御ブロック図である。 図８はこの発明の第３実施形態の加熱調理器の制御ブロック図である。 図９はこの発明の第４実施形態の加熱調理器の制御ブロック図である。 図１０はこの発明の加熱調理器の超音波振動により生成されたミストから過熱水蒸気にしたときの加熱室内の酸素濃度の変化と、ヒータ加熱により蒸発させた飽和水蒸気から過熱水蒸気にしたときの加熱室内の酸素濃度の変化を示す図である。

以下、この発明の加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。

〔第１実施形態〕
図１はこの発明の第１実施形態の加熱調理器の正面斜視図を示している。

この第１実施形態の加熱調理器は、図１に示すように、直方体形状のケーシング１の正面に、下端側の辺を略中心に回動する扉２を取り付けている。この扉２の上側にハンドル３を取り付けている。また、扉２において加熱室１３(図２に示す)とは反対側(前面側)に耐熱ガラス４を取り付けている。また、扉２の右側に操作パネル５を設けている。この操作パネル５は、カラー液晶表示部６とボタン群７とを有している。また、ケーシング１の上側かつ右側後方に排気ダクト８を設けている。さらに、扉２の下方には、ケーシング１の前脚(図示せず)に着脱可能な露受容器９が配置されている。

図２は上記加熱調理器の縦断面の模式図を示している。

上記加熱調理器は、図２に示すように、給水タンク１１から供給された水を飽和水蒸気発生装置１２で加熱して飽和水蒸気を発生させる。そして、飽和水蒸気発生装置１２で発生させた飽和水蒸気は、蒸気供給通路(図示せず)を介して、加熱室１３の右側面に取り付けられた循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の加熱室１３側に供給される。

上記蒸気供給通路に接続された蒸気供給管３４は、加熱室１３の右側面と平行になるように、循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の近傍に取り付けられている。また、循環ユニット１４内には、蒸気吸込口１５に対向するように循環ファン１８を配置している。循環ファン１８は、循環ファン用モータ１９によって回転駆動される。

また、上記加熱室１３には、加熱室１３の上面および左側面を覆うように、Ｌ字状に屈曲した蒸気ダクト１００を取り付けている。この蒸気ダクト１００は、加熱室１３の上面側に固定された第１ダクト部１１０と、第１ダクト部１１０の左側方から下側に屈曲する屈曲部１２０と、加熱室１３の左側面側に固定され、屈曲部１２０を介して第１ダクト部１１０に連なる第２ダクト部１３０とを有している。

上記蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０は過熱水蒸気生成ヒータ２０を収納している。この蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０と過熱水蒸気生成ヒータ２０とで過熱水蒸気生成装置２１を構成している。なお、過熱水蒸気生成装置は、蒸気ダクトとは別に設けてもよい。

また、上記蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０の右側は、循環ユニット１４の上部に設けられた蒸気供給口２２に連通している。加熱室１３の天面には、複数の第１蒸気吹出口２４が設けられており、蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０は、第１蒸気吹出口２４を介して加熱室１３内に連通している。一方、蒸気ダクト１００の第２ダクト部１３０は、加熱室１３の左側面に設けられた複数の第２蒸気吹出口２５を介して加熱室１３内に連通している。

上記加熱室１３と蒸気ダクト１００との隙間は、耐熱樹脂などによりシールされている。また、加熱室１３と蒸気ダクト１００は、加熱室１３の前面開口を除いて断熱材(図示せず)により覆われている。

上記循環ユニット１４と過熱水蒸気生成装置２１とそれらを接続する接続部材とによって、加熱室１３を介して熱媒体(水蒸気を含む空気)を循環させる循環経路が形成されている。この循環経路における循環ユニット１４の加熱室１３との境界部に、飽和水蒸気発生装置１２で発生させた飽和水蒸気が供給される。

また、上記ケーシング１内の下側には、マイクロ波発生部の一例としてのマグネトロン８０(図６に示す)が配置されている。このマグネトロン８０で発生したマイクロ波は、導波管(図示せず)によって加熱室１３の下部中央近傍に導かれ、回転アンテナ用モータ３７によって駆動される回転アンテナ３８によって攪拌されながら加熱室１３内の上方に向かって放射されて被加熱物２７を加熱する。この場合、被加熱物２７は、トレイ３０や網４０を使わずに加熱室１３内の下側または底面近傍に配置される。

また、上記ケーシング１内の下側には、冷却ファン部(図示せず)や、電装品部１７も配置されている。この電装品部１７は、加熱調理器の各部を駆動する駆動回路やこの駆動回路を制御する制御回路等を有している。

また、図３は上記加熱調理器の側面の模式図を示しており、図１,図２に示す加熱調理器と同一の構成部には同一参照番号を付して、説明を省略する。図３において、４５は加熱室１３(図２に示す)に対して給気や排気を行うための希釈ファンである。

図３に示すように、給水タンク１１の上側かつ循環ユニット１４近傍にミスト供給装置１４０を配置している。このミスト供給装置１４０は、給水ポンプ７０(図６に示す)によって給水タンク１１から水が供給される。

図４は図３のIV−IV線から見た縦断面図を示しており、図１,図２に示す加熱調理器と同一の構成部には同一参照番号を付して、説明を省略する。

図４に示すように、循環ユニット１４の近傍にミスト供給装置１４０を配置している。このミスト供給装置１４０は、水を溜めるための水溜部１６０と、その水溜部１６０に溜まった水に超音波振動を与えてミストを発生させる超音波振動部１５０を有する。この水溜部１６０は、給水タンク１１(図３に示す)から供給された水が溢れて水面の位置を略一定に保つように構成されており、溢れた水は、排水路(図示せず)を介して給水タンク１１に戻る。

上記水溜部１６０の循環ユニット１４の下部に対向する箇所に入口１６０aを設けている。この入口１６０aを介して水溜部１６０内の空間と循環ユニット１４内の空間とが連通している。

上記ミスト供給装置１４０の上部に第１ミスト供給管１７０の一端が接続され、第１ミスト供給管１７０の他端が循環ユニット１４の上部に接続されている。第１ミスト供給管１７０の他端に第２ミスト供給管１８０の一端が接続され、第２ミスト供給管１８０の他端が循環ユニット１４の上部に設けられた蒸気供給口２２近傍に位置する。この循環ユニット１４の蒸気供給口２２は、下流側に向かって徐々に細くなる先細り形状をしており、この蒸気供給口２２の内側に第２ミスト供給管１８０の出口１８０a側が配置されていることにより、蒸気供給口２２の流路断面積が小さくなって熱媒体(水蒸気を含む空気)の流速が速くなる。これにより、第２ミスト供給管１８０の出口１８０a側から蒸気供給口２２の下流側に向かってミストが引き込まれる(エジェクタ効果)。ここで、熱媒体は、空気の割合が少なくほとんどが飽和水蒸気または過熱水蒸気である場合も含まれる。

上記循環ユニット１４の先細り形状の蒸気供給口２２側と第２ミスト供給管１８０の出口１８０a側でエジェクタ部を構成している。

上記ミスト供給装置１４０の入口１６０aは、循環ユニット１４内の循環ファン１８の下流側かつミスト供給装置１４０の出口１８０a側よりも静圧が高くなる位置に設けられている。

また、上記ミスト供給装置１４０の蒸気供給口２２は、前後方向に間隔をあけて４つ設けられており、最も前面側の蒸気供給口２２に第２ミスト供給管１８０の出口１８０aが配置されている。

図５は図３のＶ−Ｖ線から見た縦断面図を示しており、図１,図２に示す加熱調理器と同一の構成部には同一参照番号を付して、説明を省略する。

上記加熱調理器では、循環ファン１８を停止することにより、ミスト供給装置１４０(図４に示す)の入口１６０aからミストが循環ユニット１４(循環経路)内に流出して充満する。このとき、加熱室１３の側壁かつ循環経路の蒸気吸込口１５の下側に設けられたミスト案内部１９０によって、循環ユニット１４内に充満したミストが自重により加熱室１３内の底側に案内される。これにより、ミスト供給装置１４０から供給されたミストの多くを加熱室１３内の底側に集めることができ、加熱室１３内の底面に載置された被加熱物の回りに高濃度のミストを供給できる。

また、図６は上記加熱調理器の制御ブロック図を示している。

上記加熱調理器は、図６に示すように、マイクロコンピュータと入出力回路などからなる制御装置２００を電装品部１７(図２に示す)内に備えている。この制御装置２００には、過熱水蒸気生成ヒータ２０,循環ファン用モータ１９,冷却ファン用モータ１６,給気ダンパ用モータ４４,排気ダンパ用モータ６０,操作パネル５,庫内温度センサ２９,解凍センサ５０,給水ポンプ７０,飽和水蒸気発生装置１２,マグネトロン８０,回転アンテナ用モータ３７,希釈ファン用モータ４６,音声合成装置３００,超音波振動部１５０などが接続されている。制御装置２００は、操作パネル５からの信号および庫内温度センサ２９,解凍センサ５０からの検出信号に基づいて、過熱水蒸気生成ヒータ２０,循環ファン用モータ１９,冷却ファン用モータ１６,給気ダンパ用モータ４４,排気ダンパ用モータ６０,操作パネル５,給水ポンプ７０,飽和水蒸気発生装置１２,マグネトロン８０,回転アンテナ用モータ３７,希釈ファン用モータ４６,音声合成装置３００,超音波振動部１５０などを制御する。この音声合成装置３００は、スピーカ９０に対して、音声、報知音、メロディ音、キータッチ音などを表す信号を出力する。

また、上記制御装置２００は、飽和水蒸気発生装置１２,過熱水蒸気生成ヒータ２０,マグネトロン８０を制御する加熱制御部２００aと、超音波振動部１５０を制御するミスト制御部２００bとを有している。

上記構成の加熱調理器において、過熱水蒸気を使用して加熱調理を行う場合には、図２に示す過熱水蒸気生成ヒータ２０をオンすると共に、循環ファン１８を回転駆動する。そうして、ミスト供給装置１４０から循環ユニット１４の蒸気供給口２２近傍上に供給されたミストは、循環ファン１８の回転によって負圧になっている循環ユニット１４内に出口１８０aを介して吸い込まれて、蒸気供給口２２から過熱水蒸気生成装置２１内に吹き出される。そして、過熱水蒸気生成装置２１の過熱水蒸気生成ヒータ２０によってミストが加熱されて過熱水蒸気となる。この過熱水蒸気の一部は、下側の加熱室１３の天面に設けられた複数の第１蒸気吹出口２４から、加熱室１３内に下方に向かって吹き出す。また、過熱水蒸気の他の一部は、蒸気ダクト１００を介して加熱室１３の第２蒸気吹出口２５から加熱室１３内に吹き出す。

そして、上記加熱室１３内に供給された過熱水蒸気は、トレイ３０上の網４０に搭載された被加熱物２７を加熱した後、加熱室１３の右壁面に循環ユニット１４の蒸気吸込口１５に対向して形成された吸込口２８から循環ユニット１４内に吸い込まれる。そうして、再び循環経路を通って加熱室１３内に戻るという循環を繰り返す。

上記過熱水蒸気を用いた加熱調理では、ミスト供給装置１４０への水の供給は、給水ポンプ７０(図６に示す)によって給水タンク１１から間欠的に供給される。

なお、飽和水蒸気を使用して被加熱物２７を加熱調理する場合には、過熱水蒸気生成ヒータ２０をオフすると共に、循環ファン１８を停止する。そうすると、循環ファン１８が停止しているため、循環経路内に循環気流が発生することがなく、飽和水蒸気発生装置１２から循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の近傍上流側に供給された飽和水蒸気は、循環ユニット１４内に強制的に吸い込まれない。これにより、水蒸気圧によって自然に加熱室１３内に流れ込む飽和水蒸気により、被加熱物２７が、蒸されたり、暖められたりする。

上記構成の加熱調理器によれば、加熱室１３を介して熱媒体(水蒸気を含む空気)を循環させるための循環経路内かつ循環ファン１８の下流側にミスト供給装置１４０からミストを供給することによって、循環ファン１８の下流側の熱媒体の流れにミスト供給装置１４０からのミストが引き込まれて、循環経路を介して加熱室１３にスムーズに供給される。したがって、簡単な構成で加熱室１３にミストを効率よく供給できる。

また、上記循環経路内の循環ファン１８の下流側かつミスト供給装置１４０の出口１８０a側よりも静圧が高くなる位置に設けられた入口１６０aからミスト供給装置１４０に循環ファン１８からの熱媒体(水蒸気を含む空気)が流入し、ミスト供給装置１４０の出口１８０aから熱媒体と共にミストが循環ファン１８の下流側に供給される。これにより、外気を導入することなく、加熱室１３にミストをさらに効率よく供給できる。

また、上記ミスト供給装置１４０の水溜部１６０に溜まった水の表面に沿って熱媒体(水蒸気を含む空気)が流入するように、ミスト供給装置１４０の入口１６０aを循環ユニット１４の下部に設けることによって、水溜部１６０に溜まった水の表面近傍のミスト濃度が下がるので、超音波振動部１５０よる新たなミストの発生効率が向上し、より多くのミストを生成できる。

また、上記循環経路内に配置された過熱水蒸気生成ヒータ２０によって、加熱室１３を介して循環経路を循環する熱媒体(水蒸気を含む空気)を加熱することで、ミスト供給装置１４０から供給されたミストを水蒸気または過熱水蒸気にすることが容易にできる。

また、上記循環ユニット１４の先細り形状の蒸気供給口２２側と第２ミスト供給管１８０の出口１８０a側で構成されたエジェクタ部により、循環ファン１８によって循環ユニット１４内に流れる熱媒体(水蒸気を含む空気)の流れにミスト供給装置１４０内のミストが吸引されるので、循環ユニット１４内の流れを利用して、ミスト供給装置１４０から効率よくミストを供給できる。

また、上記マグネトロン８０(マイクロ波発生部)から供給されるマイクロ波により被加熱物を加熱するとき、ミスト供給装置１４０からのミストを加熱室１３内に供給する。これによって、例えば冷凍食品を解凍する場合は、食品の内部に比べて食品の表面側がマイクロ波で温度上昇しやすく加熱ムラができるが、マイクロ波による解凍中にミスト供給装置１４０からのミストを食品表面に供給することで、食品の表面側の温度上昇を抑制して、食品全体を均一に加熱することができる。

なお、上記ミスト供給装置１４０に例えば７０℃〜８０℃の温水を供給する温水供給装置２１０(図６に示す)を備えてもよい。この場合、ミストの発生効率を向上できると共に、温水供給装置２１０で７５℃以上の温水を１分以上溜めておくことによって、温水を殺菌することが可能になる。

また、上記第１実施形態では、ミスト供給装置１４０の入口１６０aを水溜部１６０の循環ユニット１４の下部に対向する箇所に設けたが、ミスト供給装置の入口はこれに限らず、外気が導入される入口を設けてもよい。

〔第２実施形態〕
図７はこの発明の第２実施形態の加熱調理器の制御ブロック図を示している。この第２実施形態の加熱調理器は、赤外線アレイセンサ１１００と制御装置１２００を除いて第１実施形態の加熱調理器と同一の構成をしており、図１〜図５を援用する。

この第２実施形態の加熱調理器は、加熱室１３内の底部を格子状に分割した６４のエリアの温度を検出する赤外線アレイセンサ１１００を備えている。この赤外線アレイセンサ１１００は、半導体基板上に行列状に配列された複数の赤外線センサ素子と、赤外線センサ素子上に赤外線を集光するためのフレネルレンズとを含む。赤外線アレイセンサ１１００は、視野角内の被測定物から放射された赤外線を検出することによって、被測定物表面の複数箇所の温度を検出する。各赤外線センサ素子として、たとえばサーモパイルや焦電センサが用いられる。サーモパイルは、熱電対を直列に数十対接続して構成されたものである。

上記加熱調理器において、加熱室１３内に食品を載せた皿(または容器)を載置して、マグネトロン８０で発生させたマイクロ波で加熱する場合、マイクロ波により食品が熱くなると、食品から熱が伝わって皿が徐々に熱くなる。

このとき、制御装置１２００は、マイクロ波加熱中に赤外線アレイセンサ１１００により検出された各エリアの温度上昇の時間差に基づいて、熱くなった皿を識別する。

そして、加熱調理の終了時に皿が熱くなっていることを、制御装置１２００により音声合成装置３００を制御して、スピーカ９０から音声や報知音を出力すると共に、液晶表示部６に表示する。

これにより、熱くなった皿を手にとってやけどするのを防ぐことができる。

また、制御装置１２００は、赤外線アレイセンサ１１００により検出された各エリアの温度に基づいて、識別された皿の温度がやけどをしない程度に下がったとき、皿の温度が低下したことを、スピーカ９０から音声や報知音を出力すると共に、液晶表示部６に表示する。

上記第２実施形態では、６４のエリアの温度を検出する赤外線アレイセンサ１１００を備えたが、複数個の赤外線センサと走査機構を組み合わせて、加熱室１３内の底部を走査するようにしてもよい。

〔第３実施形態〕
図８はこの発明の第３実施形態の加熱調理器の制御ブロック図を示している。この第３実施形態の加熱調理器は、ＷiＦi(Wireless Fidelity)通信部２１００と制御装置２２００を除いて第１実施形態の加熱調理器と同一の構成をしており、図１〜図５を援用する。

この第３実施形態の加熱調理器は、制御装置２２００により制御されるＷiＦi通信部２１００を備えている。

上記制御装置２２００は、ＷiＦi通信部２１００を制御して、スマートフォンやウェアラブル端末と無線通信を行う。

ここで、スマートフォンやウェアラブル端末は、体温、脈拍、血圧、体重、体脂肪、骨密度、血管年齢、血中酸素濃度などのメディカルデータを測定する各種センサを少なくとも１つ備える。例えば、一般的なスマートフォンでは、そのようなセンサは備えていないが、上記メディカルデータを測定するセンサ装置をスマートフォンに接続して用いる。また、ウェアラブル端末としては、腕時計型やメガネ型の情報端末がある。

上記制御装置２２００は、このようなスマートフォンやウェアラブル端末からのメディカルデータに基づいて、ユーザーの健康状態に応じた調理メニューの提案を音声や報知音および液晶表示部６の表示により行う。

なお、このときのユーザーの年齢、性別は、スマートフォンやウェアラブル端末または加熱調理器本体において予め設定されているものとする。

例えば、ユーザーの健康状態に応じた調理メニューとして次のようなものがある。

・血圧が高めのユーザーには減塩メニューを提案
・体脂肪が多めのユーザーには脱油メニューを提案
・骨密度が低めのユーザーにはカルシウム吸収メニューを提案
また、複数のメディカルデータからユーザーの体調を判断する体調判断部を備えて、ビタミンの豊富な調理メニューや、ビタミンを損なわない調理シーケンスなどを提案してもよい。

〔第４実施形態〕
図９はこの発明の第４実施形態の加熱調理器の制御ブロック図を示している。この第４実施形態の加熱調理器は、近接センサ３１００と制御装置３２００を除いて第１実施形態の加熱調理器と同一の構成をしており、図１〜図５を援用する。

この第４実施形態の加熱調理器は、本体正面から至近距離(例えば数十ｃｍ)内のユーザーの手の動きなどを検出する近接センサを備えている。なお、この近接センサ３１００は、発光素子と受光素子を有し、測定対象物の距離や大きさを測定するだけでなく、上下左右の移動方向も検出できるものとする。

上記加熱調理器の制御装置３２００は、近接センサ３１００により検出されたユーザーの手の動きなどに基づいて、操作パネル５を触ることなく、前面に設けた照明部を点灯したり、扉２を開いたり、加熱調理をスタートさせたりする操作を行う。

ここで、ユーザーは、加熱調理器の前で予め決められたジェスチャを手の動きなどにより各種動作を操作する。

これにより、ユーザーは、手が食材や調味料などで汚れていたり食品を持っていたりして、操作パネル５を触れることができないときに、手の動きなどにより操作することが可能になり、利便性が向上する。

〔第５実施形態〕
次に、この発明の第５実施形態の加熱調理器について説明する。この第５実施形態の加熱調理器は、制御装置２００の動作を除いて第１実施形態の加熱調理器と同一の構成をしており、図１〜図６を援用する。

この第５実施形態の加熱調理器は、スピーカ９０に音声信号を出力する音声合成装置３００(図６に示す)を備えている。この音声合成装置３００は、制御装置２００のマイクロコンピュータを含むメインＬＳＩ(大規模集積回路)により制御される音声出力用マイクロコンピュータを含む音声ＬＳＩである。

上記制御装置２００と音声合成装置３００は、電力消費を最小限にするスリープモードの機能を備えている。なお、スリープ状態の制御装置２００では、操作パネル５のボタン群７の入力のみ機能している。

そして、スリープ状態から起動するとき、キー入力を検出して制御装置２００が起動した後、音声合成装置３００が遅れて起動する。この制御装置２００の起動に対する音声合成装置３００の起動のタイムラグは、０．数秒程度である。

ここで、キー入力後に音声合成装置３００ですぐに音声出力させる場合、音声出力がキー入力から遅れるので、ユーザーに違和感を生じさせることになる。

そこで、この加熱調理器では、スリープ解除のキー操作を長押し(音声合成装置３００の起動のタイムラグよりも長い時間)として、長押しの終了時に音声出力することによって、ユーザーがキーを離したときには音声合成装置３００が起動した状態となっていて、キーを離してから遅れることなく音声信号が音声合成装置３００から出力される。

これにより、キー入力後に音声合成装置３００ですぐに音声出力させる場合、スリープ解除のキー誤操作を防止できると共に、音声出力がキー入力(長押し)から遅れることがなく、ユーザーに違和感を生じさせない。

なお、スリープ解除のキー操作は、長押しに限らず、タッチパネルのスライド操作などの操作時間が長いキー操作でもよい。

上記第１〜第５実施形態では、超音波振動方式によってミストを生成したが、小さな噴射口から水を霧状に噴射するノズル方式によってミストを生成してもよい。

この発明の加熱調理器では、オーブンレンジなどにおいて、過熱水蒸気または飽和水蒸気を用いることによって、ヘルシーな調理を行うことができる。例えば、この発明の加熱調理器では、温度が１００℃以上の過熱水蒸気または飽和水蒸気を食品表面に供給し、食品表面に付着した過熱水蒸気または飽和水蒸気が凝縮して大量の凝縮潜熱を食品に与えるので、食品に熱を効率よく伝えることができる。また、凝縮水が食品表面に付着して塩分や油分が凝縮水と共に滴下することにより、食品中の塩分や油分を低減できる。さらに、加熱室内は過熱水蒸気または飽和水蒸気が充満して低酸素状態となることにより、食品の酸化を抑制した調理が可能となる。ここで、低酸素状態とは、加熱室内において酸素の体積％が１０％以下(例えば０.５〜３％)である状態を指す。

図１０はこの発明の加熱調理器の超音波振動により生成されたミストから過熱水蒸気にしたときの加熱室内の酸素濃度の変化を示すと共に、ヒータ加熱により蒸発させた飽和水蒸気から過熱水蒸気にしたときの加熱室内の酸素濃度の変化の比較例を示している。

図１０に示すように、この発明の加熱調理器は、飽和水蒸気から過熱水蒸気にした比較例に比べて、ミストから過熱水蒸気にしたときの酸素濃度の立ち下がりが早くなると共に、長時間後は比較例よりも低い酸素濃度を実現することができる。

この発明の具体的な実施の形態について説明したが、この発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更して実施することができる。

この発明の加熱調理器は、
被加熱物を加熱する加熱室１３と、
上記加熱室１３を介して熱媒体を循環させるための循環経路と、
上記循環経路内に配置された循環ファン１８と、
上記循環経路内かつ上記循環ファン１８の下流側にミストを供給するミスト供給装置１４０と
を備えたことを特徴とする。

上記構成によれば、加熱室１３を介して熱媒体を循環させるための循環経路内かつ循環ファン１８の下流側にミスト供給装置１４０からミストを供給することによって、循環ファン１８の下流側の熱媒体の流れにミスト供給装置１４０からのミストが引き込まれて、循環経路を介して加熱室１３にスムーズに供給される。したがって、簡単な構成で加熱室１３にミストを効率よく供給できる。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記循環経路の上記循環ファン１８の下流側かつ上記ミスト供給装置１４０の出口側よりも静圧が高くなる位置に上記ミスト供給装置１４０の入口１６０aが設けられている。

上記実施形態によれば、循環経路の循環ファン１８の下流側かつミスト供給装置１４０の出口側よりも静圧が高くなる位置に設けられた入口からミスト供給装置１４０に循環ファン１８からの熱媒体が流入し、ミスト供給装置１４０の出口から熱媒体と共にミストが循環ファン１８の下流側に供給される。これにより、加熱室１３にミストをさらに効率よく供給できる。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記ミスト供給装置１４０は、略一定の水位に水を溜めるための水溜部１６０と、上記水溜部１６０に溜まった水に超音波振動を与えてミストを発生させる超音波振動部１５０を有し、
上記ミスト供給装置１４０の入口１６０aは、上記ミスト供給装置１４０の水溜部１６０に溜まった水の表面に沿って熱媒体が流入するように、上記循環経路に設けられている。

上記実施形態によれば、ミスト供給装置１４０の水溜部１６０に溜まった水(水位が略一定)の表面に沿って熱媒体が流入するように、ミスト供給装置１４０の入口１６０aを循環経路に設けることによって、水溜部１６０に溜まった水の表面近傍のミスト濃度が下がるので、超音波振動部１５０による新たなミストの発生効率が向上し、より多くのミストを生成できる。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記加熱室１３の側壁に設けられた上記循環経路の吸込口２８と、
上記加熱室１３の側壁かつ上記循環経路の吸込口２８の下側に設けられ、上記循環ファン１８の停止状態で上記ミスト供給装置１４０から供給されたミストを上記循環経路内から上記加熱室１３内の底側に案内するミスト案内部１９０を備えた。

上記実施形態によれば、循環ファン１８を停止することにより、ミスト供給装置１４０から供給されたミストが循環経路内に充満して、加熱室１３の側壁かつ循環経路の吸込口２８の下側に設けられたミスト案内部１９０によって、循環経路内に充満したミストが自重により加熱室１３内の底側に案内される。これにより、ミスト供給装置１４０から供給されたミストの多くを加熱室１３内の底側に集めることができ、加熱室１３内の底面に載置された被加熱物の回りに高濃度のミストを供給できる。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記循環経路内に配置されたヒータ２０を備えた。

上記実施形態によれば、循環経路内に配置されたヒータ２０によって、加熱室１３を介して循環経路を循環する熱媒体を加熱することで、ミスト供給装置１４０から供給されたミストを水蒸気または過熱水蒸気にすることが容易にできる。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記ミスト供給装置１４０に温水を供給する温水供給装置２１０を備えた。

上記実施形態によれば、ミスト供給装置１４０に温水供給装置２１０から例えば７０℃〜８０℃の温水を供給することによって、ミストの発生効率を向上できる。また、温水供給装置２１０で７５℃以上の温水を１分以上溜めておくことによって、温水を殺菌することが可能になる。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記ミスト供給装置１４０の出口１８０a側に設けられ、上記循環ファン１８によって上記循環経路に流れる上記熱媒体の流れに上記ミスト供給装置１４０内のミストが吸引されるエジェクタ部を備えた。

上記実施形態によれば、ミスト供給装置１４０の出口１８０a側に設けられたエジェクタ部により、循環ファン１８によって循環経路内に流れる熱媒体の流れにミスト供給装置１４０内のミストが吸引されるので、循環経路内の流れを利用して、ミスト供給装置１４０から効率よくミストを供給できる。

また、一実施形態の加熱調理器では、
上記加熱室１３内にマイクロ波を供給するマイクロ波発生部８０を備え、
上記マイクロ波発生部８０から供給されるマイクロ波により上記被加熱物を加熱するとき、上記ミスト供給装置１４０からのミストを上記循環経路を介して上記加熱室１３内に供給する。

上記実施形態によれば、マイクロ波発生部８０から供給されるマイクロ波により被加熱物を加熱するとき、ミスト供給装置１４０からのミストを循環経路を介して加熱室１３内に供給する。これによって、例えば冷凍食品を解凍する場合は、食品の内部に比べて食品の表面側がマイクロ波で温度上昇しやすく加熱ムラができるが、マイクロ波による解凍中にミスト供給装置１４０からのミストを食品表面に供給することで、食品の表面側の温度上昇を抑制して、食品全体を均一に加熱することができる。

１…ケーシング
２…扉
３…ハンドル
４…耐熱ガラス
５…操作パネル
６…カラー液晶表示部
７…ボタン群
８…排気ダクト
９…露受容器
１１…給水タンク
１２…飽和蒸気発生装置
１３…加熱室
１４…循環ユニット
１５…蒸気吸込口
１６…冷却ファン用モータ
１７…電装品部
１８…循環ファン
１９…循環ファン用モータ
２０…過熱水蒸気生成ヒータ
２１…過熱水蒸気生成装置
２２…蒸気供給口
２４…第１蒸気吹出口
２５…第２蒸気吹出口
２７…被加熱物
２８…吸込口
２９…庫内温度センサ
３０…トレイ
３４…蒸気供給管
３７…回転アンテナ用モータ
３８…回転アンテナ
３９a,３９b,３９c…係止部
４０…網
４４…給気ダンパ用モータ
４５…希釈ファン
４６…希釈ファン用モータ
５０…解凍センサ
６０…排気ダンパ用モータ
７０…給水ポンプ
８０…マグネトロン
９０…スピーカ
１００…蒸気ダクト
１１０…第１ダクト部
１２０…屈曲部
１３０…第２ダクト部
１４０…ミスト供給装置
１５０…超音波振動部
１６０…水溜部
１６０a…入口
１７０…第１ミスト供給管
１８０…第２ミスト供給管
１８０a…出口
１９０…ミスト案内部
２００,１２００,２２００,３２００…制御装置
２００a…加熱制御部
２００b…ミスト制御部
２１０…温水供給装置
３００…音声合成装置
１１００…赤外線アレイセンサ
２１００…ＷiＦi通信部
３１００…近接センサ

Claims (3)

1. 被加熱物を加熱する加熱室と、
   上記加熱室を介して熱媒体を循環させるための循環経路と、
   上記循環経路内に配置された循環ファンと、
   上記循環経路内かつ上記循環ファンの下流側にミストを供給するミスト供給装置と
   を備え、
   上記ミスト供給装置は、
   略一定の水位に水を溜めるための水溜部と、
   上記水溜部に溜まった水に超音波振動を与えてミストを発生させる超音波振動部と、
   上記循環経路の上記循環ファンの下流側に、上記水溜部の略一定の水位に溜まった水の表面に沿って上記熱媒体が流入するように設けられた入口と、
   上記循環経路の上記入口側よりも下流側、かつ、上記入口側よりも静圧が低くなる位置に設けられた出口とを有することを特徴とする加熱調理器。
2. 請求項１に記載の加熱調理器において、
   上記加熱室の側壁に設けられた上記循環経路の吸込口と、
   上記加熱室の側壁かつ上記循環経路の吸込口の下側に設けられ、上記循環ファンの停止状態で上記ミスト供給装置から供給されたミストを上記循環経路内から上記加熱室内の底側に案内するミスト案内部を備えたことを特徴とする加熱調理器。
3. 請求項１または２に記載の加熱調理器において、
   上記ミスト供給装置の出口側に設けられ、上記循環ファンによって上記循環経路に流れる上記熱媒体の流れに上記ミスト供給装置内のミストが吸引されるエジェクタ部を備えたことを特徴とする加熱調理器。

Images