JP5768706B2 - 接合装置 - Google Patents
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Description
本発明の一形態によれば、電解質膜の片面に拡散層を接合する接合装置が提供される。この形態の接合装置は、電解質膜と拡散層とを挟んで接合する一対の接合ローラと、前記一対の接合ローラの前段に配置され、前記一対の接合ローラに挟まれた前記拡散層の表面に前記電解質膜を搬送する搬送ローラと、前記一対の接合ローラと前記搬送ローラとの間に配置され、前記接合ローラと同期して前記電解質膜を搬送しつつ、前記電解質膜を挟持して加圧することによって前記拡散層に接合される前記電解質膜のシワの発生を抑制する一対のシワ抑制用ローラと、前記一対の接合ローラのうちの前記電解質膜側の第1の接合ローラと、前記一対のシワ抑制用ローラのうちの第1のシワ抑制用ローラと、の両方に接し、前記第1の接合ローラの回転を前記第1のシワ抑制用ローラに伝達する動力伝達用ローラと、を備える。この形態によれば、接合ローラと、搬送ローラと、の間にシワ抑制用ローラを備えることで、電解質膜の変形自由度がある領域(シワ抑制用ローラから接合ローラまでの領域)の長さを短くできるので、シワの発生を抑制できる。また、搬送ローラと、シワ抑制用ローラとの間でシワが生じても、シワ抑制用ローラでシワを取り除くことが出来る。シワ抑制用ローラを接合ローラと同期させることができる。また、シワ抑制用ローラを駆動するための別個の駆動装置が不要となる。
電解質膜の片面に拡散層を接合する接合装置であって、電解質膜と拡散層とを挟んで接合する一対の接合ローラと、前記一対の接合ローラの前段に配置され、前記一対の接合ローラに挟まれた前記拡散層の表面に前記電解質膜を搬送する搬送ローラと、前記一対の接合ローラと前記搬送ローラとの間に配置され、前記接合ローラと同期して前記拡散層を搬送しつつ、前記電解質膜を挟持して加圧することによって前記拡散層に接合される前記電解質膜のシワの発生を抑制する一対のシワ抑制用ローラと、を備える、接合装置。
この適用例によれば、接合ローラと、搬送ローラと、の間にシワ抑制用ローラを備えることで、電解質膜の変形自由度がある領域(シワ抑制用ローラから接合ローラまでの領域)の長さを短くできるので、シワの発生を抑制できる。また、搬送ローラと、シワ抑制用ローラとの間でシワが生じても、シワ抑制用ローラでシワを取り除くことが出来る。
適用例1に記載の接合装置において、さらに、前記一対の接合ローラのうちの前記電解質膜側の第1の接合ローラと、前記一対のシワ抑制用ローラのうちの第1のシワ抑制用ローラと、の両方に接し、前記第1の接合ローラの回転を前記第1のシワ抑制用ローラに伝達する動力伝達用ローラと、を備える、接合装置。
この適用例によれば、シワ抑制用ローラを接合ローラと同期させることができる。また、シワ抑制用ローラを駆動するための別個の駆動装置が不要となる。
適用例2に記載の接合装置において、前記一対のシワ抑制用ローラ及び前記動力伝達用ローラは、マグネットローラであり、前記一対のシワ抑制用ローラは、磁力によるニップ圧で前記電解質膜を挟む、接合装置。
この適用例によれば、シワ抑制用ローラは、磁力によるニップ圧で電解質膜を両面から挟み、電解質膜に圧力を掛けてシワの発生を抑制し、あるいは、電解質膜に一旦発生したシワを取り除くことができる。また、動力伝達用ローラもマグネットローラとすることで、接合ローラやシワ抑制用ローラと確実に接触し、駆動力を伝達することができる。
適用例1〜3のいずれか一つの適用例に記載の接合装置において、前記シワ抑制用ローラの直径は、前記接合ローラの直径よりも小さく構成されている、接合装置。
この適用例によれば、電解質膜の変形自由度がある領域(シワ抑制用ローラから接合ローラまでの領域)の長さをより短くできる。
適用例2または3に記載の接合装置において、前記動力伝達用ローラの直径は、前記接合ローラの直径よりも小さく構成されている、接合装置。
この適用例によれば、電解質膜の変形自由度がある領域(シワ抑制用ローラから接合ローラまでの領域)の長さをより短くできる。
適用例4または5に記載の接合装置において、前記接合ローラの直径は、80mm以上であり、前記シワ抑制用ローラの直径は20mm以下であり、前記接合ローラの回転中心と、前記シワ抑制用ローラの回転中心との間隔は100mm以下である、接合装置。
11…膜接合装置
100…接合ローラ
100A…回転中心
110…搬送ローラ
110A…回転中心
120…シワ抑制用ローラ
124…シワ抑制用ローラ
130…動力伝達用ローラ
132…動力伝達用ローラ
200…電解質膜
210…シワ
300…拡散層
φ100、φ110、φ120、φ130…直径
ω100、ω120、ω130…角速度
v100、v120…線速度
L1…間隔
F1〜F4…力
F1X、F1Y…成分
PA、PB、PC…点
Claims (5)
- 電解質膜の片面に拡散層を接合する接合装置であって、
電解質膜と拡散層とを挟んで接合する一対の接合ローラと、
前記一対の接合ローラの前段に配置され、前記一対の接合ローラに挟まれた前記拡散層の表面に前記電解質膜を搬送する搬送ローラと、
前記一対の接合ローラと前記搬送ローラとの間に配置され、前記接合ローラと同期して前記電解質膜を搬送しつつ、前記電解質膜を挟持して加圧することによって前記拡散層に接合される前記電解質膜のシワの発生を抑制する一対のシワ抑制用ローラと、
前記一対の接合ローラのうちの前記電解質膜側の第1の接合ローラと、前記一対のシワ抑制用ローラのうちの第1のシワ抑制用ローラと、の両方に接し、前記第1の接合ローラの回転を前記第1のシワ抑制用ローラに伝達する動力伝達用ローラと、
を備える、接合装置。 - 請求項1に記載の接合装置において、
前記一対のシワ抑制用ローラ及び前記動力伝達用ローラは、マグネットローラであり、前記一対のシワ抑制用ローラは、磁力によるニップ圧で前記電解質膜を挟む、接合装置。 - 請求項1または2に記載の接合装置において、
前記シワ抑制用ローラの直径は、前記接合ローラの直径よりも小さく構成されている、接合装置。 - 請求項1から3のいずれか一項に記載の接合装置において、
前記動力伝達用ローラの直径は、前記接合ローラの直径よりも小さく構成されている、
接合装置。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載の接合装置において、
前記接合ローラの直径は、80mm以上であり、前記シワ抑制用ローラの直径は20mm以下であり、前記接合ローラの回転中心と、前記シワ抑制用ローラの回転中心との間隔は100mm以下である、接合装置。
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JP2011285872A JP5768706B2 (ja) | 2011-12-27 | 2011-12-27 | 接合装置 |
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JP2011285872A JP5768706B2 (ja) | 2011-12-27 | 2011-12-27 | 接合装置 |
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JP2013134943A JP2013134943A (ja) | 2013-07-08 |
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Family Applications (1)
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JP2011285872A Active JP5768706B2 (ja) | 2011-12-27 | 2011-12-27 | 接合装置 |
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2011
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