JP5765606B2 - 電子部品用複合ボールの製造方法 - Google Patents
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Description
上記問題を解決すべく、はんだよりも融点の高い、例えばCuからなるコアボールに、はんだを被覆した複合ボールによる実装が提案されている(特許文献1)。これは、はんだ層よりも融点の高いコアボールを有することで、実装時における接続端子のギャップ高さの潰れがなくなり、パッケージの3次元の高密度実装が可能となる。
また、コアボールの表面にはんだを被覆する方法としては、特許文献2に開示されるように、陰極を槽内の円周部に、陽極を槽内中央部に配置し、水平方向に回転可能な密閉されためっき槽を用い、特定の高速回転によって電解めっき法によるはんだめっきを行なうことが開示されており、これにより、凝集することなく均一な膜厚のはんだめっき層が形成できるといった改善が提案されている。
このような表面に凹凸を生じたボールでは、ボールの転がりが悪くなり、ボール搭載時の位置精度が低くなる。また、凹凸により画像検出が困難になるため、ボール搭載後の画像処理装置において欠損判定の際に不具合が生じる。さらに、バンプ形成時に凹凸に巻きこまれる有機成分が、リフロー時の溶融によってガス化し皮膜中にボイドとして残留し接合信頼性を下げる、あるいは皮膜中からガス成分が放出される際にボールが位置ずれを起こすといった問題が発生する。
本発明の目的は、はんだめっき層の表面に生じる凹凸をなくし平滑な表面を有する電子部品用複合ボールの製造方法を提供することである。
また、前記平滑化加工は、前記複合体同士を接触させて行なうことが好ましい。
また、前記液体は、pH4〜6の水溶液であることが好ましい。
従来、はんだめっき層を表面に形成した電子部品用複合ボールについては、はんだめっき技術の改良に注力されており、めっき後のめっき層の表面を別手段で改質しようという試みは成されていなかった。
本発明においては、はんだめっき層の表面状態の問題に鑑み、検討した結果、はんだめっき工程の後処理として平滑化加工を加えることが可能であり、実際に平滑面の形成に成功したものである。
なお、メディアによる研磨力等の付与といった作用と、上記不純物の付着等の問題とを鑑みて、メディアを使用するか、複合体同士の接触のみに頼るかは適宜選択することができる。
ここで、回転槽を使用すると、はんだめっき層を形成した複合体を流動させやすくなり、複合体同士、複合体と回転槽の容器壁面あるいは添加されるメディア等の接触機会を増加することができ、平滑化加工を均一に行ない易いからである。
また、液体中で行なうことにより、複合体同士、複合体と回転槽等の容器壁面、あるいは添加されるメディア等との過度の摩擦を低減することができ、より精度の高い滑らかな表面を得ることができる。また、研磨により除去された研磨物の再付着を抑制するという効果もある。
また、使用する液体として、電解めっき法によりはんだめっき層を形成する場合には、めっき層を形成するときに使用しためっき液を、電圧を印加しない状態でそのまま使用することも可能である。また、場合によっては、錯体形成剤の添加や、界面活性剤の添加等により液体の性質の調整を行なってもよい。
電子部品用途としてコアボールの材質としては、コアボールに良導体としての特性を求める場合は、Cu、Ni、Fe、Co等の金属単体あるいは合金が選択されるが、そうでない場合はセラミックスや樹脂の球体であってもよい。
電子部品として典型的なはんだ組成系は、Sn−Bi、Sn、Sn−Ag、Sn−Ag−Cu、Sn−Auであり、通常融点が300℃以下のものが使用される。
はんだめっき層を形成する方法としては、電解めっき法、非電解めっき法や溶融めっき法など適宜選択できる。
本発明においては、はんだめっき層の平滑化加工が重要であり、はんだめっき層とコアボールの間に別の層が存在していてもかまわない。例えば、コアボールにCuを用いたときのはんだによるCuコアボールの喰われを防止する目的で形成するNiバリア層などが典型である。
回転方向は、水平ドラム式では、重力による流動が起こらないため、停止や反転、速度の可変などの動作等を取り入れて、平滑化加工が均一に進むようにすることが望ましい。このような回転槽の運転条件は、回転槽の大きさ、処理する複合体のサイズや量によって適宜選択することができる。
また、はんだめっきを回転槽で行なう場合、めっき処理終了から電圧を印加しないで回転槽を回転することで、平滑化加工をめっき処理から連続して実施することも可能である。本発明によって得られる電子部品用複合ボールの表面は、JISB0601測定において、Rz5μm以下、Ra2μm以下とすることができる。
はんだめっき層を形成したままの複合体の外観および断面を、走査型電子顕微鏡で観察した結果を図5に示す。図5に示すように、複合体の表面には凹凸が形成されていることがわかる。
本発明のはんだめっき層の表面を平滑化加工した電子部品用複合ボールの一例の外観を、走査型電子顕微鏡で観察した結果を図1に示す。尚、図中の電子部品用複合ボール以外に見える不定形な模様は、観察時に混入した異物であり、本発明の電子部品用複合ボールと直接関係がないものである。図1に示すように、いずれのpHに調整しためっき液においても、平滑化加工を1時間実施することで、図5の平滑化を実施しない複合体に比べ、はんだめっき層の表面が平滑になっていることが確認できた。
また、平滑化加工を3時間実施することにより、はんだめっき層の表面をより平滑にすることができ、平滑化加工を5時間実施することで、ほぼ真球形状を得ることができ、半導体パッケージ等の電子部品用複合ボールとして最適なボールが得られることが確認できた。また、pHが高くなるに従い、より短時間ではんだめっき層の表面を平滑にすることができることを確認した。
また、図2Bに示すように、平滑化加工を3時間実施することにより、はんだめっき層の表面をより平滑にすることができ、図2Cに示すように、平滑化加工を5時間実施することで、ほぼ真球形状を得ることができた。
本発明のはんだめっき層の表面を平滑化加工した電子部品用複合ボールの一例の外観を、走査型電子顕微鏡で観察した結果を図3に示す。図3に示すように、本発明の電子部品用複合ボールは、純水中で平滑化加工を実施することでも、実施例1で得た電子部品用複合ボールと同等の平滑な表面を得ることができ、図5の平滑化加工を実施しない複合体に比べ、はんだめっき層の表面が平滑になっていることが確認できた。
その結果、比較例である平滑化加工前の複合体では、ボール5個の最大高さRzの最大値が7.89μm、最小値が3.96μm、平均値が5.92μmであったのに対し、本発明例の平滑化加工を5時間実施した電子部品用複合ボールでは、ボール5個の最大高さRzの最大値が3.35μm、最小値が1.06μm、平均値が1.93μmと、はんだめっき層の表面が平滑になり、半導体パッケージ等の電子部品用複合ボールとして最適なボールが得られることを確認できた。
本発明のはんだめっき層の表面を平滑化加工した電子部品用複合ボールの一例の外観を、走査型電子顕微鏡で観察した結果を図4に示す。図4に示すように、メディアを投入して平滑化加工を実施することにより、実施例1で得られた図1のメディアを投入せずに同一時間の平滑化加工を実施したものと同等な表面を得ることができ、半導体パッケージ等の電子部品用複合ボールとして、最適なボールが得られることを確認できた。
Claims (1)
- 球体からなるコアボールを用意し、次いで前記コアボールを包囲するようにはんだめっき層を形成して複合体とし、次いでpH4〜6の水溶液を入れた回転槽内で、メディアを用いないで前記複合体同士を接触させて前記はんだめっき層の表面を平滑化加工することを特徴とする電子部品用複合ボールの製造方法。
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