JP5763710B2 - 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 - Google Patents
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Description
前記気泡提供部材は前記供給ラインに提供されて前記液相の有機溶剤を加熱する加熱器及び前記加熱器の温度を調節する制御器を含み、前記制御器は前記液相の有機溶剤を沸騰点以上に加熱するように前記加熱器を制御することができる。
前記流体供給ユニットは前記加熱器を迂回するように前記供給ラインに提供される迂回ラインをさらに包含できる。
120・・・容器、
200・・・昇降部材、
300・・・ノズル部、
400・・・バックノズル部、
500・・・有機溶剤供給部材、
510・・・供給管、
520・・・気泡発生部材。
Claims (20)
- 基板を支持する基板支持ユニットと、
前記基板支持ユニットを囲み、前記基板から飛散する有機溶剤を回収する容器と、
前記容器の一側に提供され、前記基板へ気泡を含む液相の有機溶剤を噴出する流体供給ユニットと、を有し、
前記流体供給ユニットは、
前記有機溶剤を前記基板へ吐出させるノズルヘッドと、
貯藏タンクから前記ノズルヘッドへ前記有機溶剤を供給する有機溶剤供給ラインと、
前記有機溶剤供給ラインに提供されて前記液相の有機溶剤に気泡を提供する気泡提供部材と、を含み、
前記気泡提供部材は、
前記有機溶剤供給ラインに連結され、内部には前記液相の有機溶剤が流れ、微孔が形成されたメンブレン(Membrane)ラインと、
前記メンブレンラインを囲むハウジングと、
前記メンブレンラインと前記ハウジングとの間の空間へ気体を供給する気体供給ラインと、を含み、
前記空間に供給された前記気体が前記微孔を通じて前記メンブレンラインの内部へ流れ込まれて液相の前記有機溶剤に気泡を提供する基板洗浄装置。 - 基板を支持する基板支持ユニットと、
前記基板支持ユニットを囲み、前記基板から飛散する有機溶剤を回収する容器と、
前記容器の一側に提供され、前記基板へ気泡を含む液相の有機溶剤を噴出する流体供給ユニットと、を含み、
前記流体供給ユニットは、
前記有機溶剤を前記基板へ吐出させるノズルヘッドと、
貯藏タンクから前記ノズルヘッドへ前記有機溶剤を供給する有機溶剤供給ラインと、
前記有機溶剤供給ラインに提供されて前記液相の有機溶剤に気泡を提供する気泡提供部材と、を含み、
前記気泡提供部材は、
前記有機溶剤供給ラインに提供される前記液相の有機溶剤に超音波を印加する超音波印加部材を含み、
前記超音波印加部材は、
流体媒質が収まれている容器と、
前記容器内の流体媒質に振動を印加する振動子と、
前記振動子へ超音波を印加する発振器と、を含み、
前記有機溶剤供給ラインの一部が前記容器内の流体媒質の内部に沈まれるように提供される基板洗浄装置。 - 前記気泡提供部材は、
前記有機溶剤供給ラインに提供されて、前記液相の有機溶剤を加熱する加熱器と、
前記加熱器の温度を調節する制御器と、を含み、
前記制御器は前記液相の有機溶剤を沸騰点以上に加熱するように前記加熱器を制御する請求項1または2に記載の基板洗浄装置。 - 前記流体供給ユニットは、
前記加熱器を迂回するように前記有機溶剤供給ラインに提供される迂回ラインと、をさらに含む請求項3に記載の基板洗浄装置。 - 前記有機溶剤がイソプロパノールアルコール(Isopropyl Alcohol)で提供され、
前記制御器が前記イソプロパノールアルコールを80℃乃至100℃に加熱するように前記加熱器を制御する請求項3に記載の基板洗浄装置。 - 前記気泡提供部材は、
前記有機溶剤供給ラインを流れる前記液相の有機溶剤に超音波を印加する超音波印加部材を含み、
前記超音波印加部材は、
前記有機溶剤供給ラインに提供される振動部材と、
前記振動部材に前記超音波を提供する発振器と、を含む請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記超音波印加部材は、
前記振動部材と前記ノズルヘッドとの間に提供され、前記液相の有機溶剤に含まれた気泡量を測定する気泡量測定器と、
前記振動部材に印加される超音波の周波数を調節する制御器と、をさらに含む請求項6に記載の基板洗浄装置。 - 前記振動部材は、
前記有機溶剤供給ラインに接触され、前記有機溶剤供給ラインを囲むように提供される本体と、
前記本体内に提供されて前記超音波が印加され、印加された前記超音波を前記有機溶剤供給ラインへ再印加する振動子と、を含む請求項6または請求項7に記載の基板洗浄装置。 - 前記気泡提供部材は、
前記有機溶剤に含まれた気泡量を測定する気泡量測定器と、
前記気体供給ラインに設置されて前記空間に供給される前記気体の流量を調節する流量調節バルブと、
前記気泡量測定器から測定された結果にしたがって、前記流量調節バルブを制御する制御器と、をさらに含む請求項1および請求項6〜8のいずれか1項に記載の基板洗浄装置。 - 前記流体供給ユニットは、
前記有機溶剤供給ラインで分岐されて前記貯藏タンクに連結され、前記液相の有機溶剤を前記貯藏タンクへ移動させる回収ラインをさらに含む請求項1〜9のいずれか1項に記載の基板洗浄装置。 - 前記気泡提供部材が前記有機溶剤供給ラインで前記回収ラインに分岐される分岐点と前記ノズルヘッドとの間に提供される請求項10に記載の基板洗浄装置。
- 前記流体供給ユニットは、
前記回収ラインに提供されて、循環される前記液相の有機溶剤で気泡を分離する脱気部材をさらに含み、
前記気泡提供部材が前記有機溶剤供給ラインで前記回収ラインに分岐される分岐点と前記貯藏タンクとの間の前記有機溶剤供給ライン上に提供される請求項10に記載の基板洗浄装置。 - 前記流体供給ユニットは、
前記ノズルヘッドに連結されたノズルアームをさらに含み、
前記気泡提供部材が前記ノズルアームの内部に提供された請求項11に記載の基板洗浄装置。 - 請求項1および請求項6〜9のいずれか1項に記載の基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法であって、
気泡を含む液相の有機溶剤を基板に供給して基板のパターン内に残留する純水を前記液相の有機溶剤に置換することを含み、
前記液相の有機溶剤に気泡を提供する方法は、
前記メンブレンライン外部へ気体が運搬され、前記気体が前記メンブレンラインの微孔を通じて前記メンブレンラインの内部へ流れ込まれることによって、前記メンブレンラインの内部を通る前記液相の有機溶剤に気泡が発生されることを含む基板洗浄方法。 - 前記液相の有機溶剤に気泡を提供する方法は、
前記液相の有機溶剤を沸騰点以上に加熱して気泡を発生させることを含む請求項14に記載の基板洗浄方法。 - 前記有機溶剤がイソプロパノールアルコールであり、
前記イソプロパノールアルコールを沸騰点である80℃乃至100℃に加熱して前記イソプロパノールアルコールに気泡を提供する請求項15に記載の基板洗浄方法。 - 前記有機溶剤に気泡を提供する方法は、
前記有機溶剤に超音波を印加することを含む請求項14に記載の基板洗浄方法。 - 液相の前記有機溶剤の内部の気泡の量を測定する段階と、
前記測定結果を基準に前記有機溶剤に投入される気体の量を調節する段階と、をさらに含む請求項17に記載の基板洗浄方法。 - 前記流体供給ユニットには、前記有機溶剤供給ラインで分岐されて前記貯藏タンクに連結され、前記液相の有機溶剤を前記貯藏タンクへ移動させる回収ラインが含まれ、
気泡が含まれた前記有機溶剤が、前記回収ラインを通じて移動する途中に、前記有機溶剤から気泡を分離する段階と、をさらに含む請求項14〜18のいずれか1項に記載の基板洗浄方法。 - 前記気泡を含む液相の有機溶剤が前記基板のパターンに残留する場合、気泡が包含されていない前記液相の有機溶剤が前記基板へ吐出されて前記液相の有機溶剤が混合されながら、気泡が除去される段階と、をさらに含む請求項19に記載の基板洗浄方法。
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