JP5759303B2 - インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 - Google Patents

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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5492162B2 (ja) * 2011-09-01 2014-05-14 株式会社日立ハイテクノロジーズ 微細構造転写装置
JP6021365B2 (ja) * 2012-03-12 2016-11-09 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
US20140239529A1 (en) * 2012-09-28 2014-08-28 Nanonex Corporation System and Methods For Nano-Scale Manufacturing
JP6282069B2 (ja) 2013-09-13 2018-02-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、検出方法及びデバイス製造方法
JP6538695B2 (ja) 2013-12-31 2019-07-03 キャノン・ナノテクノロジーズ・インコーポレーテッド パーシャルフィールドインプリントのための非対称的なテンプレート形状の調節
US9471227B2 (en) * 2014-07-15 2016-10-18 Western Digital Technologies, Inc. Implementing enhanced performance with read before write to phase change memory to avoid write cancellations
JP6506521B2 (ja) 2014-09-17 2019-04-24 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法
JP2018186107A (ja) * 2015-09-15 2018-11-22 綜研化学株式会社 微細構造体の製造方法
CN107229274B (zh) * 2016-03-24 2022-06-28 松下电器（美国）知识产权公司 位置指示方法、终端装置、自行式装置以及程序
US10575424B2 (en) 2016-03-24 2020-02-25 Western Digital Technologies, Inc. Hermetic sealed electrical connector with high-speed transmission for hard disk drive
US10578984B2 (en) * 2016-12-20 2020-03-03 Canon Kabushiki Kaisha Adaptive chucking system
WO2018146880A1 (ja) * 2017-02-09 2018-08-16 ボンドテック株式会社 部品実装システム、樹脂成形装置、部品実装方法および樹脂成形方法
JP2019050315A (ja) * 2017-09-11 2019-03-28 東芝メモリ株式会社 インプリント装置及びインプリント方法
JP7041545B2 (ja) * 2018-02-16 2022-03-24 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品の製造方法及びモールド
JP7089375B2 (ja) * 2018-02-19 2022-06-22 キヤノン株式会社 平坦化装置
JP7134725B2 (ja) * 2018-06-11 2022-09-12 キヤノン株式会社 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置、および物品の製造方法
JP7254564B2 (ja) * 2019-03-05 2023-04-10 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
US11728203B2 (en) * 2020-10-13 2023-08-15 Canon Kabushiki Kaisha Chuck assembly, planarization process, apparatus and method of manufacturing an article
US12282251B2 (en) * 2021-09-24 2025-04-22 Canon Kabushiki Kaisha Method of shaping a surface, shaping system, and method of manufacturing an article

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3456290B2 (ja) * 1995-01-31 2003-10-14 オムロン株式会社 光学素子の製造方法及び光学素子製造装置
US7150622B2 (en) 2003-07-09 2006-12-19 Molecular Imprints, Inc. Systems for magnification and distortion correction for imprint lithography processes
JP4773729B2 (ja) 2005-02-28 2011-09-14 キヤノン株式会社 転写装置およびデバイス製造方法
NL1036034A1 (nl) * 2007-10-11 2009-04-15 Asml Netherlands Bv Imprint lithography.
JP2010080714A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Canon Inc 押印装置および物品の製造方法
NL2004409A (en) * 2009-05-19 2010-11-22 Asml Netherlands Bv Imprint lithography apparatus.

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