JP5753677B2 - 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 - Google Patents
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 191
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 89
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 89
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 79
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 51
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 claims description 49
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 47
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 40
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims description 27
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims description 20
- 230000001112 coagulating effect Effects 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 8
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims description 8
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 41
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 11
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 6
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 6
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 3
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 3
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 3
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- 238000007652 sheet-forming process Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- ZUBZATZOEPUUQF-UHFFFAOYSA-N isopropylhexane Natural products CCCCCCC(C)C ZUBZATZOEPUUQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- WHQSYGRFZMUQGQ-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylformamide;hydrate Chemical compound O.CN(C)C=O WHQSYGRFZMUQGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Description
本実施形態の研磨パッド10は、図1に示すように、樹脂シートとしてのウレタンシート2を備えている。ウレタンシート2は、湿式凝固法によりポリウレタン樹脂でシート状に形成されている。
研磨パッド10は、図3に示すように、湿式凝固法によりウレタンシート2を作製し、得られたウレタンシート2と両面テープ8とを貼り合わせることにより製造される。湿式凝固法では、ポリウレタン樹脂を極性溶媒に溶解させた樹脂溶液を準備する準備工程、樹脂溶液を成膜基材にシート状に塗布する塗布工程、樹脂溶液を凝固液中で凝固させシート状のポリウレタン樹脂を形成するシート形成工程、形成されたシート状のポリウレタン樹脂を洗浄し乾燥させる洗浄・乾燥工程、スキン層をバフ処理で除去するバフ処理工程、研磨面P側に凸部5、凹部6を形成するために熱エンボス加工する熱エンボス工程を経てウレタンシート2が作製される。以下、工程順に説明する。
準備工程では、ポリウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂を溶解可能な水混和性の極性溶媒および添加剤を均一となるように混合し樹脂溶液を準備する。ポリウレタン樹脂としては、例えば、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系等のいずれのポリウレタン樹脂も用いることができるが、100%モジュラスが2〜50MPaの範囲のポリウレタン樹脂を選択し用いる。極性溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチルピロリドン(NMP)等を用いることができる。本例では、極性溶媒としてDMFを用いる。添加剤としては、気泡3および細孔4の大きさや量(個数)を制御するため、カーボンブラック等の顔料、空隙形成を促進させる親水性活性剤、樹脂の凝固再生を安定化させる疎水性活性剤等を用いることができる。ポリウレタン樹脂を、例えば、30wt%となるようにDMFに溶解させ、減圧下で脱泡することで樹脂溶液を調製する。
塗布工程では、準備工程で準備した樹脂溶液を常温下でナイフコータ等の塗布装置により帯状の成膜基材にシート状に略均一に塗布する。このとき、ナイフコータ等と成膜基材との間隙(クリアランス)を調整することで、樹脂溶液の塗布厚さ(塗布量)を調整する。成膜基材としては、布帛や不織布等を用いることもできるが、本例では、PET製フィルムを用いる。
シート形成工程では、成膜基材に塗布された樹脂溶液を、ポリウレタン樹脂に対して貧溶媒である水を主成分とする凝固液(水系凝固液)に連続的に案内する。凝固液には、ポリウレタン樹脂の凝固再生速度を調整するために、上述した極性溶媒が10〜20wt%の範囲の割合で混合された水を使用することができる。本例では、水に15wt%のDMFが混合された凝固液を使用する。凝固液中で樹脂溶液が凝固し、連通構造を有するシート状のポリウレタン樹脂が再生する。
図3に示すように、洗浄・乾燥工程では、シート形成工程で形成されたシート状のポリウレタン樹脂(以下、成膜樹脂という。)を水等の洗浄液中で洗浄して成膜樹脂中に残留するDMFを除去した後、乾燥させる。成膜樹脂の乾燥には、本例では、内部に熱源を有するシリンダを備えたシリンダ乾燥機を用いる。成膜樹脂がシリンダの周面に沿って通過することで乾燥する。乾燥後の成膜樹脂をロール状に巻き取る。
バフ処理工程では、洗浄・乾燥工程で乾燥させた成膜樹脂のスキン層が形成された面側にバフ処理を施す。成膜樹脂では、湿式凝固法による成膜時に厚みバラツキが生じているため、スキン層と反対の面側に、表面が平坦な圧接治具を圧接することで、スキン層側の表面に凹凸を出現させる。この凹凸をバフ処理で除去する。本例では、連続的に製造された成膜樹脂を、圧接ローラに圧接しながら、連続的または断続的にバフ処理を施す。成膜樹脂がバフ処理されて形成された成膜樹脂では厚みが均一化され、表面に開孔3a、開孔4aが形成される。
熱エンボス工程では、成膜樹脂のバフ処理された面側に熱エンボス加工を施し、凸部5、凹部6を形成する。本例では、凸部5の形成位置に合わせて矩形状の開孔が形成された格子状の金属製の治具を使用する。この治具を加熱し、平板上に載置した成膜樹脂の表面(バフ処理された面)に押し付けることで凸部5、凹部6を有するウレタンシート2を作製する。このとき、治具の温度を120〜140℃の範囲に調整し、1〜5分間加圧処理する。換言すれば、格子状の治具により凹部6の形成位置が加圧され、凸部5が加圧されることなく形成される。ここで、熱エンボス加工で形成された凹部6における空隙構造について詳述する。熱エンボス工程では、気泡3、細孔4がほぼ一様に分散した状態で形成された成膜樹脂に(バフ処理後に)熱エンボス加工が施される。このため、凹部6では、気泡3が縮径されて細孔4より小さくなるか、または、押し潰されてなくなる。細孔4についても、縮径されるか、または、閉塞してなくなる。結果として、凹部6におけるウレタンシート2の厚み方向に沿う断面では、凸部5における気泡3のような大きな空隙が観察されず、微細孔4sのみが細孔4の形成割合より小さい形成割合で形成された空隙構造が観察される。
次に、本実施形態の研磨パッド10の作用等について説明する。
実施例1の1では、樹脂シート2の作製に100%モジュラスが6MPaのジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI)系のポリウレタン樹脂を用いた。このポリウレタン樹脂を固形分濃度が30wt%となるようにDMFに溶解させ樹脂溶液を調製した。樹脂溶液を成膜基材に塗布する際に、塗布装置のクリアランスを1.6mmに設定し、水と10wt%のDMFとが混合された凝固液を使用した。スキン層側にバフ処理を施した後、凸部5の幅が3mm、凹部6の幅が1mmとなる格子状に熱エンボス加工を施した。得られたウレタンシート2とPET製の基材を有する両面テープ8とを貼り合わせ、研磨パッド10を製造した(図1も参照)。得られた研磨パッド10では、気泡3の最大径が50〜300μmの範囲、平均径が120μmであり、凸部の長さ累計10mmあたりに平均48個の割合で気泡3が形成されていることが確認された。また、気泡3間には最大径が1〜10μmの範囲の多数の細孔4が形成されており、凹部6では、最大径が50〜300μmの気泡が認められず、細孔の開孔が縮径ないし閉塞されていることが確認された。
実施例1の2では、シート形成時に、水と20wt%のDMFとが混合された凝固液を使用する以外は実施例1の1と同様にして研磨パッド10を製造した。得られた研磨パッド10では、気泡3の最大径が50〜300μmの範囲、平均径が80μmであり、凸部の長さ累計10mmあたりに平均9個の割合で気泡3が形成されていることが確認された。また、気泡3間には最大径が1〜10μmの範囲の多数の細孔4が形成されており、凹部6では、最大径が50〜300μmの気泡が認められず、細孔の開孔が縮径ないし閉塞されていることが確認された。
実施例2では、実施例1の1と同じポリウレタン樹脂を用い、ポリウレタン樹脂固形分濃度が30wt%となるように樹脂溶液を調製した。樹脂溶液の溶媒としては、DMFの一部を、水に対する溶解度がDMFの水に対する溶解度より小さい酢酸エチルに置き換え、ポリウレタン樹脂に対して質量比2/3の割合で添加した。樹脂溶液の溶媒を変えること以外は実施例1の1と同様にして研磨パッド10を製造した。得られた研磨パッド10では、気泡3の最大径が50〜300μmの範囲、平均径が58μmであり、凸部の長さ累計10mmあたりに平均5個の割合で気泡3が形成されていることが確認された。また、気泡3間には最大径が1〜10μmの範囲の多数の細孔4が形成されており、凹部6では、最大径が50〜300μmの気泡が認められず、細孔の開孔が閉塞されていることが確認された。
比較例1の1では、実施例1と同じポリウレタン樹脂を用い、水のみの凝固液中で樹脂溶液を凝固させた以外は実施例1と同様にして研磨パッドを製造した。すなわち、比較例1の1は従来の研磨パッド20である(図5も参照)。得られた研磨パッド20では、気泡の平均径が160μmであったものの、最大径が50〜300μmの範囲にはなく、凸部の長さ累計10mmあたりに平均52個の割合で気泡が形成されており、気泡のうち約2割の気泡が最大径300μmを超える巨大気泡であることが確認された。また、気泡間には最大径が1〜10μmの範囲の多数の細孔が形成されているものの、凹部では、最大径が50〜300μmの気泡が形成されており、細孔の開孔も確認された。
比較例1の2では、シート形成時に、水と30wt%のDMFとが混合された凝固液を使用する以外は比較例1の1と同様にして研磨パッドを製造した。得られた研磨パッドでは、最大径50μmを超える気泡や巨大気泡の形成が認められず、最大径が1〜10μmの範囲の多数の細孔のみが形成されていることが確認された。
各実施例および比較例の研磨パッドについて、以下の研磨条件で研磨加工を行い、研磨レート、研磨均一性およびスクラッチの有無を測定した。被研磨物としては、12インチのシリコンウェハ上にCVD(化学気相成長)によりテトラエトキシシランの絶縁膜を1μmの厚さとなるように形成した基板を用いた。この基板では、絶縁膜の厚さ均一性(CV%)が13.2%であった。研磨レートは、1分間あたりの研磨量を厚さで表したものであり、研磨加工前後の基板の絶縁膜について17箇所の厚み測定結果から求めた。厚み測定は、光学式膜厚膜質測定器(KLAテンコール社製、ASET−F5x)のDBSモードにて測定した。また、研磨均一性については、研磨加工後の絶縁膜の厚さ均一性(CV%)を示すものであり、研磨レートの測定における17箇所の厚み測定結果のバラツキ(標準偏差/平均値)から求めた。スクラッチの評価では、25枚の基板を繰り返し3回順次研磨加工を行い、研磨加工後の21枚目〜25枚目の基板5枚について、パターンなしウェハ表面検査装置(KLAテンコール社製、Surfscan SP1DLS)の高感度測定モードにて測定し、基板表面におけるスクラッチの有無を評価した。研磨レート、研磨均一性およびスクラッチの有無の測定結果を下表1に示す。
(研磨条件)
使用研磨機:株式会社荏原製作所製、F−REX300
研磨速度:定盤回転数70rpm、研磨ヘッド回転数71rpm
加工圧力:220g/cm2
スラリ:コロイダルシリカスラリ(キャボット社製、商品名SS25を純水で2倍容量に希釈)
スラリ供給量:200ml/分
2 ウレタンシート
3 気泡
3a 開孔
4 細孔
4a 開孔
5 凸部
6 凹部
10 研磨パッド
Claims (6)
- 湿式凝固法により複数の空隙が形成され被研磨物を研磨加工するための研磨面に前記空隙の開孔が形成された樹脂シートを備えた研磨パッドにおいて、前記樹脂シートは、厚み方向に沿う断面を観察したときに、前記空隙の最大径が50μm〜300μmの範囲にあり、かつ、前記厚み方向に縦長で前記樹脂シートの厚みの半分未満の長さを有する気泡と、前記気泡間に前記空隙の最大径が1μm〜10μmの範囲にある多数の細孔とが形成されたものであるとともに、一面側に、前記気泡および細孔の開孔が表面に形成され該表面により前記研磨面が構成される凸部と、前記凸部の間に形成された凹部とを有しており、前記凹部の形成位置が加熱されるように加圧され形成されたものであるとともに、前記凹部において、前記気泡および細孔が前記凸部に形成された細孔より縮径ないし閉塞され、かつ、前記厚み方向に沿う断面に前記気泡が観察されないものであることを特徴とする研磨パッド。
- 前記気泡は、前記樹脂シートの厚み方向と交差する方向における前記凸部の長さ10mmあたりに3個〜50個の範囲の割合で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
- 請求項1または請求項2に記載の研磨パッドの製造方法であって、
樹脂を極性溶媒に均一となるように混合し溶解させた樹脂溶液を準備する準備ステップと、
前記準備ステップで準備した樹脂溶液をシート状の基材に塗布した後、水系凝固液中で凝固させ樹脂シートを形成させるシート形成ステップと、
前記シート形成ステップで形成された樹脂シートの一面側に凸部と凹部とが形成されるように熱エンボス加工を施すエンボス加工ステップと、
を含み、
前記エンボス加工ステップにおいて、前記凹部に対応する位置が加熱されるように加圧することを特徴とする製造方法。 - 前記準備ステップにおいて、前記樹脂溶液に、前記樹脂を溶解可能であり、水に対する溶解度が前記極性溶媒の水に対する溶解度より小さい有機溶媒を更に混合することを特徴とする請求項3に記載の製造方法。
- 前記有機溶媒は、前記樹脂溶液中に5wt%〜15wt%の範囲の割合で混合されることを特徴とする請求項4に記載の製造方法。
- 前記シート形成ステップにおいて、前記水系凝固液として前記極性溶媒が10wt%〜20wt%の範囲の割合で混合された水を用いることを特徴とする請求項3に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010248715A JP5753677B2 (ja) | 2010-11-05 | 2010-11-05 | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010248715A JP5753677B2 (ja) | 2010-11-05 | 2010-11-05 | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012096344A JP2012096344A (ja) | 2012-05-24 |
JP5753677B2 true JP5753677B2 (ja) | 2015-07-22 |
Family
ID=46388864
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010248715A Active JP5753677B2 (ja) | 2010-11-05 | 2010-11-05 | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5753677B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6004329B2 (ja) * | 2012-08-10 | 2016-10-05 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持具及びその製造方法 |
JP6178190B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2017-08-09 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド |
JP6178191B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2017-08-09 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド |
JP5975335B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-08-23 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及びその製造方法 |
JP6111797B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2017-04-12 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法 |
JP6474191B2 (ja) * | 2013-11-21 | 2019-02-27 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッドの製造方法及び研磨パッド |
US10688621B2 (en) * | 2016-08-04 | 2020-06-23 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Low-defect-porous polishing pad |
US9925637B2 (en) * | 2016-08-04 | 2018-03-27 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Tapered poromeric polishing pad |
US10259099B2 (en) * | 2016-08-04 | 2019-04-16 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Tapering method for poromeric polishing pad |
JP6818489B2 (ja) * | 2016-09-30 | 2021-01-20 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及びその製造方法 |
JP7481143B2 (ja) * | 2020-03-27 | 2024-05-10 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド、その製造方法、及び研磨加工物の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4555559B2 (ja) * | 2003-11-25 | 2010-10-06 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨布及び研磨布の製造方法 |
JP2006186239A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 研磨パッドおよび半導体デバイスの製造方法 |
JP5421635B2 (ja) * | 2009-03-30 | 2014-02-19 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド |
-
2010
- 2010-11-05 JP JP2010248715A patent/JP5753677B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012096344A (ja) | 2012-05-24 |
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Date | Code | Title | Description |
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