JP5731401B2 - ビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法 - Google Patents
ビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5731401B2 JP5731401B2 JP2011545153A JP2011545153A JP5731401B2 JP 5731401 B2 JP5731401 B2 JP 5731401B2 JP 2011545153 A JP2011545153 A JP 2011545153A JP 2011545153 A JP2011545153 A JP 2011545153A JP 5731401 B2 JP5731401 B2 JP 5731401B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- vinyl ether
- monomer
- carbon atoms
- star polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 0 C1C2C=*C*C12 Chemical compound C1C2C=*C*C12 0.000 description 2
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F297/00—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/22—Oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F261/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of oxygen-containing monomers as defined in group C08F16/00
- C08F261/06—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of oxygen-containing monomers as defined in group C08F16/00 on to polymers of unsaturated ethers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Description
で表されるジビニル化合物を挙げることができる。
で表される有機ハロゲン化アルミニウム化合物またはハロゲン化アルミニウム化合物が挙げられる。
で表されるビニルエーテル系単量体を挙げることができる。
で表されるオキシスチレン系単量体を挙げることができる。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により標準ポリスチレン検量線から求めた〔RI検出器;カラムは昭和電工(株)製ShodexLF804×3本;溶離液はテトラヒドロフラン〕。
(2)絶対分子量(Mwabsolute):
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)−粘度法により絶対分子量を求めた。〔RI検出器;粘度計;カラムは昭和電工(株)製ShodexKF−800D+KF−805L×2本;溶離液はテトラヒドロフラン〕。
(3)枝数(f):
枝数(f)は、次式に従って算出した。
f=A×B/C
A:アーム形成モノマーの重量画分
B:Mwabsolute(星)
C:Mw(枝)
(4)粒径:
粒径は、動的光散乱(DLS)(大塚電子(株)製)により解析した〔溶離液はテトラヒドロフラン〕
核−エチルビニルエーテル−p−tert−ブトキシスチレン共重合 系星型ポリマーの製造(A法によるアーム形成):
三方活栓をつけたガラス容器を準備し、アルゴン置換後、アルゴン雰囲気下で加熱してガラス容器内の吸着水を除いた。容器内に1−イソブトキシエチルアセテート(以下、「IBEA」)14.8ミリモーラー(以下、「mM」と略記する)、1,4−ビス(ビニルオキシメチル)シクロヘキサン(以下、「CHDVE」と記載する)29.5mM、酢酸エチル3.7モーラー(以下、「M」と略記する)およびトルエン185mlを入れ、冷却した。
核−エチルビニルエーテル−p−tert−ブトキシスチレン共重合 系星型ポリマーの製造(B法によるアーム形成):
三方活栓をつけたガラス容器を準備し、アルゴン置換後、アルゴン雰囲気下で加熱してガラス容器内の吸着水を除いた。容器内にIBEA14.8mM、CHDVE29.5mM、酢酸エチル3.7M、トルエン185mlを入れ、冷却した。
核−エチルビニルエーテル−p−イソプロペニルフェノール共重合系 星型ポリマーの製造(A法によるアーム形成):
三方活栓をつけたガラス容器を準備し、アルゴン置換後、アルゴン雰囲気下で加熱してガラス容器内の吸着水を除いた。容器内にIBEA14.8mM、CHDVE29.5mM、酢酸エチル3.7M、トルエン185mlを入れ、冷却した。
核−p−tert−ブトキシスチレン−エチルビニルエーテル共重合 系星型ポリマーの製造(オキシスチレン系単量体、ビニルエーテル系 単量体の順に反応させた場合):
三方活栓をつけたガラス容器を準備し、アルゴン置換後、アルゴン雰囲気下で加熱してガラス容器内の吸着水を除いた。容器内にIBEA14.8mM、CHDVE29.5mM、酢酸エチルM、トルエン185mlを入れ、冷却した。
核−エチルビニルエーテル−p−tert−ブトキシスチレン共重合 系星型ポリマーの製造(kVE/kOS<1650の場合):
EVE及びPTBOSの反応温度を−20℃とした以外は実施例2と同様にして反応を行った。
Claims (8)
- 前記ジビニル化合物(1)の使用量が、開始種1当量に対して1〜1000の範囲である請求項1に記載のビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法。
- 前記ジビニル化合物(1)の分子間架橋反応による核の形成を、GPCチャートの波形をモニタリングすることにより確認する請求項1又は2に記載のビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法。
- 前記オキシスチレン系単量体をリビングカチオン重合させてジブロックアームを形成させる際に、ルイス酸を追加することを特徴とする請求項1〜3のいずれかの項記載のビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法。
- 追加するルイス酸が、初期に導入したルイス酸とは異なるルイス酸であることを特徴とする請求項4記載のビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法。
- 前記ビニルエーテル系単量体が次の一般式(2)
で表されるものである請求項1〜5のいずれかの項記載のビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法。 - 混床イオン交換樹脂を用いて金属化合物を除去する工程を含む請求項1〜7のいずれかの項記載のビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011545153A JP5731401B2 (ja) | 2009-12-09 | 2010-11-08 | ビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009279252 | 2009-12-09 | ||
JP2009279252 | 2009-12-09 | ||
PCT/JP2010/069795 WO2011070880A1 (ja) | 2009-12-09 | 2010-11-08 | ビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法 |
JP2011545153A JP5731401B2 (ja) | 2009-12-09 | 2010-11-08 | ビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011070880A1 JPWO2011070880A1 (ja) | 2013-04-22 |
JP5731401B2 true JP5731401B2 (ja) | 2015-06-10 |
Family
ID=44145433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011545153A Active JP5731401B2 (ja) | 2009-12-09 | 2010-11-08 | ビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5731401B2 (ja) |
TW (1) | TW201134841A (ja) |
WO (1) | WO2011070880A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9908960B2 (en) | 2013-09-03 | 2018-03-06 | Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | Star-shaped vinyl ether polymer |
WO2016208257A1 (ja) | 2015-06-22 | 2016-12-29 | 丸善石油化学株式会社 | 電子材料用重合体の製造方法およびその製造方法により得られた電子材料用重合体 |
JP6617936B2 (ja) | 2015-09-18 | 2019-12-11 | 日本電気株式会社 | 指紋撮像システム、指紋撮像装置、画像処理装置、指紋撮像方法、及びプログラム |
CN114605601B (zh) * | 2022-04-15 | 2023-08-15 | 清华大学 | 一种活性纳米乳胶及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003342327A (ja) * | 2002-05-24 | 2003-12-03 | Tosoh Corp | 狭分散性オキシスチレン系共重合体及びその製造方法 |
WO2009008252A1 (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | Aba型トリブロック共重合体及びその製造方法 |
WO2009011186A1 (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-22 | Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | Aba型トリブロック共重合体及びその製造方法 |
JP2010132717A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Maruzen Petrochem Co Ltd | ビニルエーテル系aba型トリブロック共重合体の製造方法 |
WO2010109928A1 (ja) * | 2009-03-24 | 2010-09-30 | 丸善石油化学株式会社 | ビニルエーテル系星型ポリマーおよびその製造方法 |
-
2010
- 2010-11-08 JP JP2011545153A patent/JP5731401B2/ja active Active
- 2010-11-08 WO PCT/JP2010/069795 patent/WO2011070880A1/ja active Application Filing
- 2010-11-22 TW TW099140216A patent/TW201134841A/zh unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003342327A (ja) * | 2002-05-24 | 2003-12-03 | Tosoh Corp | 狭分散性オキシスチレン系共重合体及びその製造方法 |
WO2009008252A1 (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | Aba型トリブロック共重合体及びその製造方法 |
WO2009011186A1 (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-22 | Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | Aba型トリブロック共重合体及びその製造方法 |
JP2010132717A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Maruzen Petrochem Co Ltd | ビニルエーテル系aba型トリブロック共重合体の製造方法 |
WO2010109928A1 (ja) * | 2009-03-24 | 2010-09-30 | 丸善石油化学株式会社 | ビニルエーテル系星型ポリマーおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2011070880A1 (ja) | 2013-04-22 |
WO2011070880A1 (ja) | 2011-06-16 |
TW201134841A (en) | 2011-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5662526B2 (ja) | Aba型トリブロック共重合体及びその製造方法 | |
JP5770625B2 (ja) | ビニルエーテル系星型ポリマーおよびその製造方法 | |
JP5731401B2 (ja) | ビニルエーテル系星型ポリマーの製造方法 | |
JP5844640B2 (ja) | ビニルエーテル系星型ポリマーおよびその製造方法 | |
JP4183293B2 (ja) | (メタ)アクリル酸エステル系重合体及びその製造方法 | |
JP4101853B2 (ja) | アニオン重合体の製造方法 | |
JP4120267B2 (ja) | 狭分散性オキシスチレン系共重合体及びその製造方法 | |
KR100653302B1 (ko) | 스티렌 유도체 | |
JP4627360B2 (ja) | A−b−a型アルケニルフェノール系共重合体 | |
JP2010132717A (ja) | ビニルエーテル系aba型トリブロック共重合体の製造方法 | |
JP5761817B2 (ja) | スターポリマー及びその製法 | |
JPH05148324A (ja) | 共重合体及びその製造方法 | |
JP2003183314A (ja) | 狭分散性オキシスチレン系重合体の製造方法 | |
JP2004331779A (ja) | インデン系重合体の製造方法 | |
JPH0632839A (ja) | 単分散性共重合体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130823 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130823 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140902 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141017 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150317 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150409 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5731401 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |