JP5728109B1 - 基板の製造方法と基板とマスクフィルム - Google Patents
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Abstract
Description
このソルダーレジスト層を紫外線で照射した後に現像処理を行い、この後熱処理を行なうことによって基板を製造する基板の製造方法であって、
前記ソルダーレジスト層の所定部分を照射する紫外線の照射量を減少させることにより、前記所定部分を光が透過する透過性にするとともに、その所定部分の形状によって文字または記号を表示することを特徴とする。
図1ないし図3に示す回路基板(基板)10は、回路基板本体11と、この回路基板本体11の少なくとも一方の面(上面)に形成された例えば銅箔からなる回路パターン12,13と、この回路パターン12,13及び回路基板本体11の上に形成されたソルダーレジスト層20とから構成されている。
[第2実施例]
図3Aは、第2実施例の回路基板30を示す。この回路基板30は、回路基板本体11とソルダーレジスト層20との間にプライマー層としてインク層(着色層)31を設けたものであり、インク層31の色でA,B,Cの文字が表示される。インク層31の色を選択することにより、より鮮明に文字などを表示することができる。
[製造方法]
次に、基板である回路基板30の製造方法について簡単に説明する。
[第1製造方法]
先ず、図4に示すように、前工程で回路パターン32a〜32c(図3Aに回路パターン32a〜32cが表示されていないが、ここでは、説明の便宜上、表示されているものとして説明する)が作製された回路基板本体11の上にプライマー層としてのインク層31を形成する。回路パターン32a〜32cが形成されていない部分には、図示していないが回路基板本体11の上に直接インク層31が形成されることになる。
[第2製造方法]
図7に第2製造方法を示す。この第2製造方法は、第1製造方法と同様に形成したソルダーレジスト層20の上にネガタイプのソルダーマスクフィルム(第1パターンマスクフィルム:ソルダーレジスト用マスクフィルム)140を被せる。ソルダーマスクフィルム140の黒部分141が紫外線をカットし、白部分142が紫外線をほぼ100%透過する部分である。
[第3実施例]
図11は、上記と同様にして文字などを形成した基板である磁気カード400を示す。この磁気カード400は、磁気カード本体(基板本体)401の上面に磁気層402とソルダーレジスト層403とを設けたものであり、ソルダーレジスト層403に第1製造方法または第2製造方法で文字A,B,Cを所定部分である表示部分421〜423で形成したものである。この磁気カード400も文字を表示するための印刷工程は不要となる。
11 基板本体
12 回路パターン
13 回路パターン
20 ソルダーレジスト層
21〜23 表示部分(所定部分)
30 回路基板(基板)
31 インク層(着色層)
32 回路パターン
40 マスクフィルム
41 紫外線をカットする部分
42 紫外線を小量透過する部分
43 紫外線を透過する部分
60 ソルダーレジスト層
140 パターンマスクフィルム
141 紫外線をカットする部分
142 紫外線を透過する部分
150 文字用マスクフィルム
151 紫外線を透過する部分
152 紫外線をカットする部分
400 磁気カード(基板)
402 磁気層
421〜423 表示部分
Claims (12)
- 基板本体の少なくとも一方の面に、エポキシ系樹脂とアクリル樹脂との混合樹脂からなるソルダーレジストインキを塗布してソルダーレジスト層を形成し、
このソルダーレジスト層を紫外線で照射した後に現像処理を行い、この後熱処理を行なうことによって基板を製造する基板の製造方法であって、
前記ソルダーレジスト層の所定部分を照射する紫外線の照射量を減少させることにより、前記所定部分を光が透過する透過性にするとともに、その所定部分の形状によって文字または記号を表示することを特徴とする基板の製造方法。 - 前記ソルダーレジスト層と基板本体との間に着色層を形成することを特徴とする請求項1に記載の基板の製造方法。
- 前記着色層は、プライマー層として形成することを特徴とする請求項2に記載の基板の製造方法。
- 前記紫外線の照射量の減少は、前記ソルダーレジスト層にマスクフィルムを被せて行うことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の基板の製造方法。
- 前記マスクフィルムは、紫外線の透過量が異なる黒色の濃淡が施され且つ前記ソルダーレジスト層の所定部分に対応する前記マスクフィルムの部分の濃淡が所定濃度となっていることを特徴とする請求項4に記載の基板の製造方法。
- 前記基板本体は、少なくとも一方の面に形成された回路パターンを有し、この回路パターンを保護するための前記ソルダーレジスト層が形成された請求項4に記載の基板の製造方法であって、
前記マスクフィルムは、前記ソルダーレジスト層の不要部分を現像処理によって除去する除去部分を形成するために用意された第1パターンマスクフィルムと、文字または記号を形成するために用意された文字・記号用の第2パターンマスクフィルムとであり、
前記ソルダーレジスト層の上に、第1,第2パターンマスクフィルムのうちどちらか一方を被せて該ソルダーレジスト層を紫外線で一次露光し、
この後、前記一方の第1パターンマスクフィルムまたは第2パターンマスクフィルムの上に他方の第2パターンマスクフィルムまたは第1パターンマスクフィルムを被せて前記ソルダーレジスト層を紫外線で二次露光して、前記所定部分のみを透過性にし、この所定部分の形状で文字または記号を表示することを特徴とする基板の製造方法。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の基板の製造方法で製造されたことを特徴とする基板。
- 請求項2に記載の基板の製造方法で製造される基板であって、
前記ソルダーレジスト層を2層に形成し、この2層の間に前記着色層または導電性の着色層を設けたことを特徴とする基板。 - 前記基板本体は、銘板本体または表示パネル本体であることを特徴とする請求項7または請求項8に記載の基板。
- 請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の基板の製造方法で製造される基板であって、
前記基板本体は、少なくも一方の面に回路パターンが形成され、この回路パターンが前記ソルダーレジスト層で保護された回路基板本体であり、
前記所定部分の形状が示す文字または記号は、その回路基板本体に搭載される電子部品の情報であることを特徴とする基板。 - 請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の基板の製造方法で製造される基板であって、
前記基板本体は、磁気記録層を設けた磁気カード本体またはICチップを埋め込んだICカード本体であることを特徴とする基板。 - 請求項5に記載の基板の製造方法に使用されるマスクフィルムであって、
前記マスクフィルムは、濃淡が所定濃度で紫外線の透過率の小さい第1部分と、この第1部分より濃度が薄く紫外線の透過率の大きい第2部分と、第1部分より濃度が濃く紫外線を透過しない第3部分とを有し、
第1部分で前記ソルダーレジスト層の透明な所定部分を形成し、第2部分で前記ソルダーレジスト層の不透明な部分を形成し、第3部分により前記ソルダーレジスト層の除去部分を形成することを特徴とするマスクフィルム。
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