JP5725001B2 - 渦流発生装置 - Google Patents

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Description

本発明は、内燃機関の燃焼室にタンブル流やスワール流等の渦流を発生させる渦流発生装置に関するものである。
従来から、渦流発生装置では、吸入空気が流れる流路内で回転駆動される板状のバタフライ弁を備え、バタフライ弁を回転駆動して吸入空気の流れを流路断面の特定の周辺に絞って偏らせるものが公知である(例えば、特許文献1、2参照)。そして、このような渦流発生装置では、特定の周辺に偏った流れ(以下、「偏流」と呼ぶことがある。)以外の流れを発生させないことで、偏流の流速低下や偏流の拡散を抑制して理想的な渦流を発生させることができると考えられている。
ところで、偏流以外の流れを発生させないようにするには、バタフライ弁が吸入空気の流れを特定の周辺に最も絞る全閉角を占めるときに、特定の周辺以外の周辺でバタフライ弁の周縁と流路壁との間に形成されるクリアランス(以下、「全閉時CL」と呼ぶことがある。)を限りなくゼロに近付ける必要がある。しかし、全閉時CLを限りなくゼロに近付けるには、弁体の周縁を高弾性の材料で設けたり、部品の精度を高めたりする必要があり、コストアップになる。
なお、特許文献2では、バタフライ弁の回転軌跡よりも下流側に仕切り板を設けることで偏流の拡散防止を意図している。しかし、偏流以外の流れが発生することに変わりがなく、偏流の流速が低下して理想的な渦流発生の妨げになるものと考えられる。
特開2001−248450号公報 特開2010−190166号公報
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、渦流発生装置において、コスト面で負担が大きい全閉時CLの極小化を意図することなく、偏流の流速低下や偏流の拡散を抑制して理想的な渦流を発生させることにある。
本願の第1発明によれば、渦流発生装置は、以下に説明するバタフライ弁と流路壁段差とを備える。
まず、バタフライ弁は、内燃機関に吸入される吸入空気の流れを吸入空気の流路の断面の特定の周辺に絞るように回転駆動されるものであり、板状に設けられる。次に、流路壁段差は、吸入空気の流路を形成する流路壁において、吸入空気の流れに関してバタフライ弁の回転軌跡よりも下流側に設けられる段差であり、段差の隆起側、陥没側がそれぞれ吸入空気の流れに関して下流側、上流側に位置する。
また、流路の断面は矩形状であり、流路の断面には、特定の周辺以外に、特定の周辺の向かい側であって流路の中心軸を基準として特定の周辺の反対側に存在するボトム周辺、ならびに、特定の周辺およびボトム周辺以外の周辺である2つのサイド周辺が存在する。
そして、流路壁段差は、ボトム周辺および2つのサイド周辺に連続するように設けられている。
これにより、全閉時CLからバタフライ弁の下流側に流出した流れ(偏流以外の流れ)は、流路壁段差における段差面に当たって曲がり、流路の周辺から中央に向かう(以下の説明では、ボトム周辺から流出した流れを「ボトム流れ」と呼ぶことがある。また、サイド周辺から流出した流れを「サイド流れ」と呼ぶことがある。)。
そして、ボトム流れはサイド流れを吸引しながら偏流に合流するので、バタフライ弁の下流側で吸入空気の流れは偏流に集約される。このため、渦流発生装置において、コスト面で負担が大きい全閉時CLの極小化を意図することなく、偏流の流速低下や偏流の拡散を抑制して理想的な渦流を発生させることができる。
本願の第1発明に従属する第2発明によれば、流路壁段差の内、ボトム周辺の部位、および、サイド周辺の内のボトム周辺側の部位は、流路の中心軸に対し傾斜している。
これにより、サイド流れおよびボトム流れが偏流の方に向かいやすくなるので、より容易に吸入空気の流れを偏流に集約することができる。
本願の第1、第2発明に従属する第3発明によれば、流路壁段差の内、ボトム周辺の部位、および、サイド周辺の内のボトム周辺側の部位は、特定の周辺に近いほど吸入空気の流れの下流に存在するように、流路の中心軸に対し傾斜している
これにより、サイド流れおよびボトム流れが偏流の方に向かいやすくなるので、より容易に吸入空気の流れを偏流に集約することができる。
本願の第1〜第3発明に従属する第4発明によれば、流路壁段差の内、ボトム周辺の部位と、サイド周辺の内のボトム周辺側の部位とは、流路の中心軸に対し、同じ角度だけ傾斜して同一平面をなす
これにより、ボトム流れが偏流の方に向かいやすくなるので、より容易に吸入空気の流れを偏流に集約することができる。
本願の第1〜第4発明に従属する第5発明によれば、流路には、バタフライ弁の回転軸を基準として特定の周辺と同じ側、かつ、バタフライ弁の回転軌跡よりも下流側に、特定の周辺に絞られた吸入空気の流れが拡散するのを抑制する仕切り板が設けられている。
これにより、集約された偏流が拡散するのを防止することができる。
本願の第5発明に従属する第6発明によれば、バタフライ弁が吸入空気の流れを最も絞らない全開角を占めるとき、バタフライ弁の回転軸を基準として特定の周辺と同じ側の部分の流路断面積(S1)は、特定の周辺に絞られた吸入空気の通路であって仕切り板により形成される通路の断面積(S2)と、バタフライ弁の周縁の内の回転軸よりも下流側の周縁と仕切り板の上流縁とで挟まれる範囲の面積(S3)との和(S2+S3)よりも小さい。
弁体が全開角を占めるときに、バタフライ弁の下流側の周縁と仕切り板の上流縁とが接近し過ぎていると、流路の中央において吸入空気の流れに対する流路抵抗が大きなって流路の圧力損失が大きくなる。そこで、バタフライ弁の下流側の周縁と仕切り板の上流縁との位置関係がS1≦S2+S3の関係を満たすようにすることで、バタフライ弁の下流側の周縁と仕切り板の上流縁との過剰な接近配置を避け、流路の圧力損失の増加を抑制する。これにより、渦流を発生させないときの吸入空気の流量を確保することができる。
渦流発生装置の構成図である(実施例1)。 図1のII−II断面図である(実施例1)。 図1のIII−III断面図である(実施例1)。 渦流発生装置の構成図である(実施例2)。 渦流発生装置の構成図である(実施例3)。 渦流発生装置の構成図である(実施例4)。 バタフライ弁が全閉角を占めるときの渦流発生装置の構成図である(実施例5)。 バタフライ弁が全開角を占めるときの渦流発生装置の構成図である(実施例5)。 S2+S3と流路の圧力損失との関係を示す特性図である(実施例5)。
実施形態の渦流発生装置を実施例に基づき説明する。
〔実施例1の構成〕
実施例1の渦流発生装置1の構成を、図1〜図3を用いて説明する。
渦流発生装置1は、例えば、内燃機関の燃焼室(図示せず。)にタンブル流やスワール流を発生させるものであり、例えば、燃焼室直近の上流側に配置されるインテークマニホールドの分岐管2内に設けられる。
そして、渦流発生装置1は、本願発明に係わる主な構成要素として、以下に説明するバタフライ弁3と流路壁段差4とを備える。
まず、バタフライ弁3は、内燃機関に吸入される吸入空気の流れを分岐管2内の流路6の断面の特定の周辺(以下、「特定周辺」と呼ぶ。)に絞るように回転駆動されるものであり、板状に設けられている(以下、バタフライ弁3を弁体3と呼ぶ。)。そして、弁体3は、吸入空気の流れを特定周辺に絞って偏らせることで、特定周辺に偏った流れ(偏流)を発生させ、この偏流が燃焼室に吸入されてタンブル流やスワール流になる。
また、弁体3は、全ての分岐管2内に一枚ずつ配置され、分岐管2が並ぶ方向に一本の回転軸7が通され、回転軸7は全ての弁体3に共通している。そして、分岐管2が並ぶ方向の一端に、回転軸7を回転駆動するトルクを発生するアクチュエータ(図示せず)が設けられている。アクチュエータには、電動モータや負圧式駆動装置等が採用され、負圧式駆動装置を採用した場合、吸入空気の燃焼室への吸引に伴い発生する負圧を利用することができる。
また、弁体3は矩形状に設けられており、回転軸7は、矩形の長辺に平行となるように弁体3に一体化されている。
そして、弁体3は、吸入空気の流れを特定周辺に最も絞る全閉角、および吸入空気の流れを最も絞らない全開角のいずれか一方の回転角を占めるように回転駆動される。
ここで、全閉角は、偏流を発生させるときに弁体3が占める回転角であり、例えば、流路6の軸(以下、「流路軸」と呼ぶ。)に垂直な面方向から弁体3の特定周辺の側の周縁が下流側に突き出るように角度θだけ弁体3が傾斜したときの回転角である。また、全開角は、偏流を発生させないときに弁体3が占める回転角であり、例えば、弁体3が流路軸に平行な面方向を占めるときの回転角である。
また、弁体3が全閉角を占めるとき、流路6の断面において特定周辺以外の周辺では、弁体3の周縁と流路6の壁(以下、「流路壁」と呼ぶ。)との間にクリアランス(全閉時CL)が形成される。そして、全閉時CL8からも吸入空気が漏れ出し、偏流以外の流れであるボトム流れ、およびサイド流れが形成される。
ここで、ボトム流れは、特定周辺の向かい側であって流路軸を基準として特定周辺の反対側の周辺(ボトム周辺)から漏れ出した流れである。また、サイド流れは、特定周辺およびボトム周辺以外の周辺(サイド周辺)から漏れ出した流れである。さらに、サイド周辺は特定周辺およびボトム周辺の両端に2箇所存在するので、サイド流れは偏流およびボトム流れの両端に形成される。
次に、流路壁段差4は、流路壁において、吸入空気の流れに関して弁体3の回転軌跡よりも下流側に設けられる段差である。そして、段差の隆起側、陥没側がそれぞれ吸入空気の流れに関して下流側、上流側に位置する。ここで、弁体3の回転軌跡は、全閉角と全開角との間の角度範囲(角度幅としてπ/2−θ)を往復するものである。
また、流路壁段差4は、ボトム周辺および2つのサイド周辺に連続するように設けられ、流路軸を包囲する環9を形成している。そして、環9は、流路軸に垂直な断面でみたときに流路軸を包囲するコの字状に見え(図2参照。)、流路軸に平行な断面でみたときに流路軸に垂直な1つの線分に見える(図1参照:なお、以下の説明では、流路軸に平行な断面でみることを「側面視する」と称する。)。さらに、流路壁段差4における段差面10は、環9の全範囲において流路軸に垂直な平面である。
〔実施例1の効果〕
実施例1によれば、渦流発生装置1は流路壁段差4を備え、流路壁段差4は、吸入空気の流れに関して弁体3の回転軌跡よりも下流側に設けられ、段差の隆起側、陥没側がそれぞれ吸入空気の流れに関して下流側、上流側に位置する。
これにより、全閉時CL8から弁体3の下流側に流出した偏流以外の流れ(ボトム流れおよびサイド流れ)は、段差面10に当たって曲がり、流路6のボトム周辺およびサイド周辺から中央に向かう。
そして、ボトム流れはサイド流れを吸引しながら偏流に合流するので、弁体3の下流側で吸入空気の流れは偏流に集約される。このため、渦流発生装置1において全閉時CL8が存在しても、偏流の流速低下や偏流の拡散を抑制して理想的な渦流を発生させることができる。
〔実施例2〕
実施例2の渦流発生装置1によれば、図4に示すように、環9は、弁体3が全閉角を占めるときに、弁体3の面方向と平行である。つまり、環9は、側面視したときに全閉角を占める弁体3に平行な1つの線分に見える。さらに、段差面10は、環9の全範囲において全閉角を占める弁体3に平行な平面である。
これにより、サイド流れが偏流の方に向かいやすくなるので、より容易に吸入空気の流れを偏流に集約することができる。
〔実施例3〕
実施例3の渦流発生装置1によれば、図5に示すように、環9の内、回転軸7を基準としてボトム周辺と同じ側の部分9bは、弁体3が全閉角を占めるときに、特定周辺と同じ側の部分9aよりも弁体3に近い。ここで、環9は、側面視したときに逆N字状に見える。すなわち、環9は、側面視したときに、全閉角を占める弁体3に平行な2つの線分と流路軸に平行な1つの線分とからなる逆N字状に見える。
ここで、部分9a、9bは、それぞれ、側面視したときに、全閉角を占める弁体3に平行な個別の線分として見える。また、側面視したときに、部分9aに対応する線分は、部分9bに対応する線分よりも、全閉角を占める弁体3との距離が遠くに見える。そして、全ての段差面10が、全閉角を占める弁体3に平行になっているのではなく、部分9a、9bの段差面10が、全閉角を占める弁体3に平行になっている。
これにより、ボトム周辺ではボトム流れに対する流路抵抗が大きくなるので、ボトム流れの流速が大きくなる。このため、ボトム流れは、より強くサイド流れを吸引することができる。また、ボトム流れに対する流路抵抗が大きくなることで、ボトム流れの流量が低減して相対的に偏流の流量が増加する。このため、より強力に吸入空気の流れを偏流に集約することができる。
〔実施例4〕
実施例4の渦流発生装置1によれば、図6に示すように、部分9aは、側面視したときに、弁体3の回転軌跡と略同一の形状であって角度π/2に対応する円弧に見え、弁体3の回転軌跡に沿う。
これにより、特定周辺と同じ側のサイド周辺では、サイド流れに対する流路抵抗が大きくなるので、サイド流れの流量が低減して相対的に偏流の流量が増加する。このため、より強力に吸入空気の流れを偏流に集約することができる。
〔実施例5〕
実施例5の渦流発生装置1によれば、図7および図8に示すように、流路6には、回転軸7を基準として特定周辺と同じ側、かつ、弁体3の回転軌跡よりも下流側に、偏流が拡散するのを抑制する仕切り板12が設けられている。
これにより、集約された偏流が拡散するのを防止することができる。
また、図8に示すように、弁体3が全開角を占めるとき、弁体3の周縁の内の回転軸7よりも下流側の周縁(以下、下流縁3aと呼ぶ。)と仕切り板12の上流縁12aとの位置関係は、S1≦S2+S3の関係を満たすように設定されている。ここで、S1は、流路6の断面の内、回転軸7を基準として特定周辺と同じ側の部分の流路断面積である。また、S2は、仕切り板12により形成される偏流の流路断面積である。さらに、S3は、下流縁3aと上流縁12aとで挟まれる範囲の面積である。
弁体3が全開角を占めるときに、弁体3の下流縁3aと仕切り板12の上流縁12aとが接近し過ぎていると、流路6の中央において吸入空気の流れに対する流路抵抗が大きなって流路6の圧力損失が大きくなる(図9参照。)。そこで、下流縁3aと上流縁12aとの位置関係がS1≦S2+S3の関係を満たすようにすることで、下流縁3aと上流縁12aとの過剰な接近配置を避け、流路6の圧力損失の増加を抑制する。これにより、渦流を発生させないときの吸入空気の流量を確保することができる。
〔変形例〕
渦流発生装置1の態様は、実施例1〜7に限定されず種々の変形例を考えることができる。
例えば、実施例1〜7の渦流発生装置1によれば、弁体3は矩形状に設けられていたが、弁体3を円板状に設けるとともに流路6を円形断面となるように設け、弁体3の一部の周辺を欠落させて欠落した部分により吸入空気の流れを絞るようにしてもよい。
1 渦流発生装置 3 弁体(バタフライ弁) 4 流路壁段差 6 流路

Claims (6)

  1. 内燃機関に吸入される吸入空気の流れを吸入空気の流路(6)の断面の特定の周辺に絞るように回転駆動される板状のバタフライ弁(3)と、
    前記流路(6)を形成する流路壁において、吸入空気の流れに関して前記バタフライ弁(3)の回転軌跡よりも下流側に設けられる段差であり、段差の隆起側、陥没側がそれぞれ吸入空気の流れに関して下流側、上流側に位置する流路壁段差(4)とを備え
    前記流路(6)の断面は矩形状であり、前記流路(6)の断面には、前記特定の周辺以外に、前記特定の周辺の向かい側であって前記流路(6)の中心軸を基準として前記特定の周辺の反対側に存在するボトム周辺、ならびに、前記特定の周辺および前記ボトム周辺以外の周辺である2つのサイド周辺が存在し、
    前記流路壁段差(4)は、前記ボトム周辺および2つの前記サイド周辺に連続するように設けられていることを特徴とする渦流発生装置(1)。
  2. 請求項1に記載の渦流発生装置(1)において、
    前記流路壁段差(4)の内、前記ボトム周辺の部位、および、前記サイド周辺の内の前記ボトム周辺側の部位は、前記流路(6)の中心軸に対し傾斜していることを特徴とする渦流発生装置(1)。
  3. 請求項1または請求項2に記載の渦流発生装置(1)において、
    前記流路壁段差(4)の内、前記ボトム周辺の部位、および、前記サイド周辺の内の前記ボトム周辺側の部位は、前記特定の周辺に近いほど吸入空気の流れの下流に存在するように、前記流路(6)の中心軸に対し傾斜していることを特徴とする渦流発生装置(1)。
  4. 請求項1または請求項3に記載の渦流発生装置(1)において、
    前記流路壁段差(4)の内、前記ボトム周辺の部位と、前記サイド周辺の内の前記ボトム周辺側の部位とは、前記流路(6)の中心軸に対し、同じ角度だけ傾斜して同一平面をなすことを特徴とする渦流発生装置(1)。
  5. 請求項1または請求項4に記載の渦流発生装置(1)において、
    前記流路(6)には、前記バタフライ弁(3)の回転軸(7)を基準として前記特定の周辺と同じ側、かつ、前記バタフライ弁(3)の回転軌跡よりも下流側に、前記特定の周辺に絞られた吸入空気の流れが拡散するのを抑制する仕切り板(12)が設けられていることを特徴とする渦流発生装置(1)。
  6. 請求項5に記載の渦流発生装置(1)において、
    前記バタフライ弁(3)が吸入空気の流れを最も絞らない全開角を占めるとき、前記バタフライ弁(3)の回転軸(7)を基準として前記特定の周辺と同じ側の部分の流路断面積(S1)は、前記特定の周辺に絞られた吸入空気の通路であって前記仕切り板(12)により形成される通路の断面積(S2)と、前記バタフライ弁(3)の周縁の内の前記回転軸(7)よりも下流側の周縁(3a)と前記仕切り板(12)の上流縁(12a)とで挟まれる範囲の面積(S3)との和(S2+S3)よりも小さいことを特徴とする渦流発生装置(1)。
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