JP5717735B2 - 気相におけるイソシアネートの調製方法 - Google Patents
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Description
(i)常に>0かつ<45mol%、好ましくは0.05mol%から25mol%、特に好ましくは0.1mol%から10mol%であり、
(ii)20分の期間内に、該20分の期間の開始時を基準として最大99%変化する、好ましくは80%以下変化する、特に好ましくは60%以下変化する
ことを特徴とする方法により、達成することがきることが判明した。
(iii)ホスゲンとアミンとの反応において形成されるHClの少なくとも一部をディーコン法で塩素に変換する。
(iv)アミンを含有する流れと共に反応器に導入される不活性物質の、ディーコン法に供されるHClに対するモル比が常に、>0および25mol%の間、好ましくは>0および11mol%の間、特に好ましくは0.025および0.5mol%の間である
ような量で添加する。
80%対20%の重量比で2.4−および2,6−トルイレンジアミンを含む混合物20.5kmol/時を、17.85kmol/時の窒素と一緒に約280℃で気化させ、300℃より高い温度を有する下流イソシアネート凝縮ステージを含む回転対称管型反応器に気体形態で通過させる。同時に、これと並行して気体ホスゲンを、やはり300℃より高い温度を有する管型反応器に供給する。これらの流れをノズルによって混合ゾーンに注入し、混合し、その混合物が反応空間に入る。この反応空間での反応は、10秒未満の滞留時間内に断熱的に行う。そのガス混合物を凝縮ステージに通し、それによって約165℃のガス温に冷却する。得られた凝縮物を蒸留シーケンスに供し、純粋なTDIを得る。非凝縮ガス混合物を後続の洗浄でo−ジクロロベンゼンで洗浄し、副生成物HClを吸収により過剰なホスゲンから分離する。
80%対20%の重量比で2.4−および2,6−トルイレンジアミンを含む混合物20.5kmol/時を、17.85kmol/時の窒素と一緒に約280℃で気化させ、300℃より高い温度を有する下流イソシアネート凝縮ステージを含む回転対称管型反応器に気体形態で通過させる。同時に、これと並行して気体ホスゲンを、やはり300℃より高い温度を有する管型反応器に供給する。これらの流れをノズルによって混合ゾーンに注入し、混合し、その混合物が反応空間に入る。この反応空間での反応は、10秒未満の滞留時間内に断熱的に行う。そのガス混合物を凝縮ステージに通し、それによって約165℃のガス温に冷却する。得られた凝縮物を蒸留シーケンスに供し、純粋なTDIを得る。非凝縮ガス混合物を後続の洗浄でo−ジクロロベンゼンで洗浄し、副生成物HClを吸収により過剰なホスゲンから分離する。
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
[1]反応器中で気相において少なくとも1つの不活性物質の存在下、対応するアミンとホスゲンとの反応によるイソシアネートの連続調製方法であって、ホスゲン含有流と、アミンおよび不活性物質を含有する流れとを反応器へ供給し、および該流れにおけるアミノ基に対する不活性物質のモル比は、
(i)常に>0および<45mol%であり、
(ii)20分の期間内に、該20分の期間の開始時を基準として最大99%変化する
ことを特徴とする、方法。
[2]前記不活性物質として、窒素もしくは1以上の希ガスまたはその混合物を、不活性物質として用いることを特徴とする、[1]に記載の方法。
[3]クロロベンゼン、クロロトルエン、ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、クロロナフタレンもしくはデカヒドロナフタレンまたはこれらの混合物を、前記不活性物質として用いることを特徴とする、[1]に記載の方法。
[4](iii)ホスゲンとアミンとの反応により形成されるHClを、ディーコン法により塩素へ少なくとも部分的に変換する
ことを特徴とする、[1]に記載の方法。
[5](iv)ディーコン法へ供給するHClに対する、アミンを含有する流れと共に反応器に導入する不活性物質のモル比は常に、>0および25mol%の間である
ことを特徴とする、[4]に記載の方法。
[6]アミンおよび不活性物質を含有する流れを、アミンを気化しおよび不活性物質を気体形態で供給する気化器から除去し、気化器に入る直前の供給物中における不活性物質の圧力は、該気化器における圧力より少なくとも10mbar高いことを特徴とする、[1]に記載の方法。
[7]トルイレンジアミン、ジアミノヘキサンまたはイソホロンジアミンを、アミンとして用いることを特徴とする、[1]に記載の方法。
Claims (4)
- 反応器中で気相において少なくとも1つの不活性物質の存在下、対応するアミンとホスゲンとの反応によるイソシアネートの連続製造方法であって、ホスゲン含有流と、アミンおよび不活性物質を含有する流れとを反応器へ供給し、および該流れにおけるアミノ基に対する不活性物質のモル比は、
(i)常に>0および<45mol%であり、
(ii)20分の期間内に、該20分の期間の開始時を基準として最大99%変化し、
(iii)ホスゲンとアミンとの反応により形成されるHClを、ディーコン法により塩素へ少なくとも部分的に変換し、
(iv)ディーコン法へ供給するHClに対する、アミンを含有する流れと共に反応器に導入する不活性物質のモル比は常に、>0および25mol%の間であり、
アミンおよび不活性物質を含有する流れを、アミンを気化しおよび不活性物質を気体形態で供給する気化器から除去し、気化器に入る直前の供給物中における不活性物質の圧力は、該気化器における圧力より少なくとも50mbar高いことを特徴とする、方法。 - 前記不活性物質として、窒素もしくは1以上の希ガスまたはその混合物を、不活性物質として用いることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- クロロベンゼン、クロロトルエン、ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、クロロナフタレンもしくはデカヒドロナフタレンまたはこれらの混合物を、前記不活性物質として用いることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- トルイレンジアミン、ジアミノヘキサンまたはイソホロンジアミンを、アミンとして用いることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
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