JP5717329B2 - 固体撮像装置及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は固体撮像装置に関するものであり、更に詳細には、画素内に電荷保持部を有する固体撮像装置に関するものである。
近年、固体撮像装置の更なる高性能化のために、画素内に光電変換部及びフローティングディフュージョン(以下FD)とは別に電荷保持部を有する構成が検討されている。画素内の電荷保持部は、特許文献1、2に記載されているようにグローバル電子シャッタを実現するために、もしくは、特許文献3に記載されているようにダイナミックレンジを拡大するために設けられる。更には特許文献4に記載されているように、画素毎にAD変換器を有する構成においても、画素内の電荷保持部が設けられる。
特許文献1には、N型半導体領域で形成された蓄積領域上の電極TX1と、該蓄積領域の電荷を転送するための電極TX2とを分離するように表面部分にP型半導体領域が配された構成が開示されている。このような構成により蓄積領域への暗電流を防止するとしている。
米国特許公報7414233 特開2008−004692号公報 特開2006−197383号公報 特開2009−038167号公報
特許文献1の構成によれば、二つの転送ゲート構造を分離するようにP型半導体領域が配されており、その下部に電荷保持部を構成するN型半導体領域が延在して配されている。電荷は転送ゲート間のP型半導体領域下部のN型半導体領域を移動する。このP型半導体領域下部のN型半導体領域の不純物濃度プロファイルが電荷の転送効率に大きく寄与する。
しかしながら、電荷保持部のN型半導体領域が延在するような構成では、一部、N型の不純物濃度が高い領域が生じる場合があり、高濃度の領域が生じると、その部分が電荷だまりとなって、転送効率が悪化する場合があった。
本発明はこの課題に基づいて成されたものであり、電荷保持部からFDへの電荷転送効率を向上させることを目的とする。
上記課題に鑑みて本発明は、入射した光に応じて電荷を生成する光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷を前記光電変換部とは別の場所で保持する第1導電型の第1半導体領域を含んで構成される電荷保持部と、前記電荷保持部とセンスノードとの間のポテンシャルを制御する転送ゲート電極を含んで構成される転送部と、を有する画素を複数備える固体撮像装置であって、前記電荷保持部は、前記第1半導体領域の上部に絶縁膜を介して配された制御電極を含み、前記制御電極と前記転送ゲート電極との間の半導体領域の表面に、前記第1半導体領域よりも不純物濃度が高い第2導電型の第2半導体領域が配され、前記第2半導体領域の下部の、前記第1半導体領域が配される位置よりも深い位置であって、前記電荷保持部から前記センスノードヘの電荷経路となる位置に、第1導電型の第3半導体領域が配されていることを特徴とする。
本発明によれば、電荷保持部からの電荷転送効率を向上させることが可能となる。
実施例1の固体撮像装置の画素断面の概略図である。 実施例2の固体撮像装置の画素断面の概略図である。 実施例3の固体撮像装置の画素断面の概略図である。 実施例3の固体撮像装置の画素上面の概略図である。 図3のY−Y´断面における不純物濃度プロファイルを示す概念図である。 本発明の固体撮像装置の製造方法の一例を示すため画素断面図である。 本発明の固体撮像装置の等価回路図である。
以下実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。半導体の導電型に関して、第1導電型をN型、第2導電型をP型として説明を行なうが、これは逆でもよい。信号電荷が電子となるかホールとなるかの違いのみである。また各画素の断面図は1画素の一部に関してのものであるが、実際の装置においては画素を複数備えた構成となっている。
(実施例1)
図1は本発明に係る一実施形態である固体撮像装置の画素断面の概略図である。
101は光電変換部である。例えばP型半導体領域とN型半導体領域とを含んで構成されるフォトダイオードが用いられる。102は電荷保持部である。電荷保持部102は、光電変換部で生成された電荷を保持可能なN型の半導体領域(第1半導体領域)を含んで構成される。103は転送部である。転送部103は、電荷保持部で保持された電荷をセンスノードへ転送する。104はセンスノードである。センスノードは、例えば画素増幅MOSトランジスタのゲートに電気的に接続されたFDである。センスノードは、画素増幅MOSトランジスタのゲートに電気的に接続される代わりに、不図示の垂直信号線に電気的に接続されていてもよい。
次に上記各部材の詳細な構成に関して説明する。本実施例において、光電変換部101、電荷保持部102、転送部103、センスノード104はP型ウェル107内に配される。P型ウェル107は、イオン注入もしくはエピタキシャル成長によって、N型基板116の表面側に形成される。P型ウェル107が形成されたN型基板116の代わりに、P型の半導体基板を用いてもよい。
105、106はN型半導体領域である。N型半導体領域105はN型半導体領域106の内部に配され、N型半導体領域106よりもN型不純物濃度が高い。P型半導体領域108とPN接合を形成している。N型半導体領域106は、P型ウェル107とPN接合を形成している。
108は高濃度のP型半導体領域である。P型半導体領域108を設けることにより半導体表面で生じる暗電流を低減することが可能となる。本実施例において、上述の光電変換部101は、N型半導体領域105、106、P型ウェル107、P型半導体領域108で構成される。
110はN型半導体領域である。本実施例においては、N型半導体領域110が光電変換部とは別の場所で電荷を保持する第1半導体領域である。112は制御電極である。上述の電荷保持部102は、N型半導体領域110、及び制御電極112を含んで構成される。
本実施例の電荷保持部102は、N型半導体領域110の上部に絶縁膜109を介して制御電極112を備えている。制御電極112は、N型半導体領域110の半導体表面側のポテンシャルを制御する。電荷保持部で発生する暗電流の影響を抑制するためには、制御電極に負電圧が印加されるとよい。
113は転送ゲート電極である。転送ゲート電極113に供給されるバイアスにより、N型半導体領域110に隣接するP型ウェル107の一部の領域に、信号電荷の転送路が形成される。転送ゲート電極113は供給されるバイアスに応じて転送路の形成、非形成状態を切り替え、電荷保持部とFDとの電気的接続を制御する。
N型半導体領域114はFDである。本実施例ではFD114がセンスノードとして機能する。センスノードは、蓄積された電荷の量に応じて信号が出力される半導体領域であればよい。
115は遮光部材である。遮光部材115は、電荷保持部102、転送部103、センスノード104へ入射する光を低減、好ましくは完全に遮蔽する。
116はP型半導体領域(第2半導体領域)である。制御電極112及び転送ゲート電極113間の表面部分に配される。P型半導体領域116を設けることにより、FD114へ電荷を転送する電荷転送路における暗電流を抑制することが可能となる。
117はN型半導体領域(第3半導体領域)である。P型半導体領域116の下部の電荷保持部からセンスノードヘの電荷経路となる位置に配される。N型半導体領域117はN型半導体領域110に比べて半導体基板の深い位置に配される。N型半導体領域110とN型半導体領域117とは別工程で形成される。P型半導体領域116とN型半導体領域117とはPN接合を構成している。このPN接合面(第1のPN接合面)が、電荷保持部を構成するN型半導体領域110とP型半導体領域107とのPN接合面(第2のPN接合面)よりも浅い位置に存在する。このようなPN接合面の深さ位置の関係を達成するための一つの方法として、N型半導体領域117の拡散深さが、N型半導体領域110の拡散深さよりも深くするのがよい。
このような構成によれば、電荷転送路に不純物濃度の高い部分が生じることを抑制することが可能となり、電荷保持部からFDの間の電荷経路における電子だまりの発生を低減することが可能となる。このような効果が得られる理由を詳細に説明する。比較例として、第1のPN接合面と第2のPN接合面とが同じ深さの場合に関して検討する。このような構成の場合には、N型半導体領域110、117とがほぼ同じような不純物濃度プロファイルとなる。そうすると、イオン注入のばらつきやN型の不純物イオンが半導体領域中を拡散することにより、局所的にN型の不純物濃度が高い領域が生じる場合がある。この高濃度領域が信号電荷から見るとポテンシャルが低い領域となり。信号電荷だまりになる可能性が高い。信号電荷だまりが生じると電荷の転送効率が低下する恐れがある。
次に第1のPN接合面が第2のPN接合面よりも浅い位置に配される場合に関して検討する。この場合には暗電流抑制のために配されたP型半導体領域116の不純物濃度プロファイルに影響を及ぼし、P型半導体領域116の実質的な不純物濃度が低下し、充分な暗電流低減効果が得られない場合がある。
これに対して本実施例によれば、信号電荷だまりの生じるのを抑制し更に充分な暗電流効果を得ることが可能となる。
(実施例2)
図2に本実施例の画素断面の概略図を示す。実施例1と同様の機能を有する部分には同様の符号を付し詳細な説明は省略する。
本実施例において実施例1と異なるところは、N型半導体領域117の不純物濃度である。実施例1では不純物濃度に関しては言及しなかったが、本実施例ではN型半導体領域117の不純物濃度が、N型半導体領域110の不純物濃度よりも高い。
本実施例によれば、実施例1で得られた効果に加えて、転送特性が電荷保持部の不純物濃度に依存せず決定できるので、電荷保持部の飽和電荷数を、転送特性と独立に設計することが可能となる。更に、電荷保持部を構成するN型半導体領域110のプロセスばらつき等による位置ずれによって生じる暗電流、飽和電荷数のバラツキを低減することが可能となる。
(実施例3)
図3に本実施例の画素断面の概略図、図4に画素の上面図を示す。図5に図3のY−Y´断面における不純物プロファイルの概念図である。図3は図4のA−B部分の断面図となる。実施例1、2と同様の機能を有する部分には同様の符号を付し詳細な説明は省略する。
本実施例において実施例1、2と異なるところは、N型半導体領域110の下部にP型半導体領域301(第4半導体領域)が配されている点である。更に、P型半導体領域301の下部に複数の半導体領域で構成されるP型半導体領域302(第5半導体領域)を配した点である。ここでは302a〜302dの4つのP型半導体領域により構成されている。P型半導体領域の数はこれに限られるものではない。
301は高濃度のP型半導体領域であり、P型半導体領域301の不純物濃度はP型ウェル107の不純物濃度より高い。好ましくは、N型半導体領域110と、P型ウェル107を介することなく直接にPN接合を構成する。P型半導体領域301の深さ方向の不純物濃度プロファイルは、ある深さに不純物濃度ピークを持ったプロファイルとしてもよい。P型半導体領域301の不純物濃度のピークは、表面から0.5μmよりも浅い位置であることが好ましい。表面から0.5μmよりも浅い位置にピークが位置すると、N型半導体領域110と高濃度P型半導体領域301との間に、不純物濃度の低い領域が配されないためである。この構成により、電荷保持部からセンスノードヘの低電圧での電荷転送が可能となる。これを詳細に説明する。
まず、電荷保持部からセンスノードヘの電荷転送のメカニズムを説明する。光電変換部101で生成された信号電荷がN型半導体領域110で保持される前に、N型半導体領域110にセンスノードを介してリセット電圧が供給される。この後、センスノードの電位がフローティングにされた後に、光電変換部101の電荷がN型半導体領域110へ転送される。その後、順次電荷保持部からセンスノードヘ電荷が転送される。画素行ごともしくは複数画素行ごとに転送が行なわれる。この時、N型半導体領域110は転送部103を介して逆バイアスが供給された状態となる。逆バイアスによってN型半導体領域110が空乏化することで電荷が転送される。N型半導体領域110に保持された電荷のほとんど、好ましくは全てをセンスノードへ転送するためには、N型半導体領域110の大部分、好ましくは全領域が空乏化される必要がある。このときの空乏層の広がりを抑制するためには、N型半導体領域110が、P型ウェル107を介することなく直接に、高濃度P型半導体領域301とPN接合を構成していると好ましい。N型半導体領域110とPN接合を形成するP型半導体領域の不純物濃度が高いので、P型半導体領域への空乏層の広がりが抑制されるためである。したがって、転送部を介して供給される逆バイアス電圧が小さくても、N型半導体領域110の大部分、あるいは全領域を空乏化することが可能となる。
さらに本実施例においては、高濃度P型半導体領域301の不純物濃度が、転送路下部の、P型半導体領域301と同じ深さの領域の不純物濃度よりも高い。言い換えると、高濃度P型半導体領域301は転送ゲート電極113の下部にまで延在していない。この構成によれば、転送ゲート電極113に供給されるバイアス電圧を大きくすることなく、転送ゲート電極113下のP型ウェルに転送路を形成することが可能となる。
更に本実施例においては、P型半導体領域301の一部の下部にP型半導体領域302が配される。P型半導体領域302は、転送ゲート電極113下部及びFD114の下部にまで延在している。
P型ウェル107は、二つの領域107aと107bに分離される。しかし、P型半導体領域302が、P型半導体領域301、転送ゲート電極113及びFD114のそれぞれの少なくとも一部のみの下に延在している構成としてもよい。また107bの領域に更にイオン注入を行ないP型の半導体領域を形成してもよい。
P型半導体領域302に含まれる複数の半導体領域の全てもしくは一部の端部は、電荷保持部の端部を基準として同じ画素内の光電変換部側からオフセットして配されている。オフセットされた部分には光電変換部の一部を構成するN型半導体領域106が配される。
本実施例では、複数の画素の各々において、P型半導体領域302、303の光電変換部側の端部が光電変換部からオフセットしている。この構成によれば、斜め方向から入射した光に対しても感度を持つことが可能となる。すべての画素がそのような配置となっていても良いし、一部の画素のみでもよい。
次に、図4に関して説明する。401は画素を構成する回路が配される部分である。具体的には増幅MOSトランジスタ、リセットMOSトランジスタなどである。この等価回路の一例に関しては後述する。402は素子分離領域である。活性領域どうしを分離するために設けられる。絶縁膜で構成されるフィールド領域もしくはPN接合分離で構成される拡散分離いずれかが配される。403はFDに電気的に接続されたコンタクトプラグである。FDと増幅MOSトランジスタのゲートとを電気的に接続する。404は素子が配される活性領域である。
図4において、P型半導体領域302の配置される領域を点線で示しており、P型半導体領域116及びN型半導体領域201の配置される領域を一点鎖線で示している。図4からP型半導体領域302の端部が電荷保持部の端部を基準として同じ画素内の光電変換部側からオフセットして配されていることがわかる。上述したようにオフセットされた部分には光電変換部の一部を構成するN型半導体領域106が配される。
図5に図3のY−Y´断面における不純物濃度プロファイルを示す。縦軸は逆導電型の不純物によって補償された正味の不純物濃度(ネット濃度)である。横軸は半導体基板の受光部が配される一主面からの深さを示している。P型半導体領域302a〜dはそれぞれ不純物濃度のピークを有している。P型半導体領域301、302は最も表面に近い部分の領域が最もピーク値が高い構成となっている。
以上述べたように、本実施例によれば、実施例1、2の効果に加えて、光電変換部の感度が向上するという効果が得られる。
(固体撮像装置の製造方法)
図6に本発明の固体撮像装置の製造プロセスを説明するための画素断面の概略図を示す。各実施例と同様の機能を有する部分には同様の符号を付し詳細な説明は省略する。
本製造方法の特徴の第1点目は、同一のマスク(第1のマスク)を用いてN型半導体領域110及びP型半導体領域301とを形成する点である。第2点目は、制御電極112及び転送ゲート電極113間のギャップ部に配されたP型半導体領域116及びN型半導体領域201とを、同一マスクを用いて形成する点である。
図6を参照して具体的に説明する。図6においては本実施例に関する部分のみを抽出している。その他トランジスタなどの製造方法は公知の方法を用いて製造することができる。図6(a)は、P型半導体領域301が形成される時の画素断面の概略図である。601は例えばフォトレジストで形成されたマスクパターンである。
まずフォトレジストを基板全面に形成する。その後、電荷保持部のN型半導体領域110を配するべき領域に開口が形成されるように、フォトレジストを露光する。
N型半導体領域110を形成するための第1不純物注入工程として、露光工程により形成されたフォトレジストパターンをマスクパターン(第1のマスクパターン)として用いて、N型不純物イオンを注入する。不純物としては砒素、リンなどを用いることができる。
続いて、フォトレジストマスクを除去する工程を経ることなく、高濃度P型半導体領域301を形成するための第2不純物注入工程として、P型不純物イオンを注入する。このときの不純物としては、ボロンなどを用いることができる。その後、イオン注入時に生じる結晶欠陥等を回復させるため、熱処理を行なう。このようにして、同一のマスクパターンを用いて、N型半導体領域110とP型半導体領域301とが形成される。
N型半導体領域を形成するための第1不純物注入工程と、P型半導体領域を形成するための第2不純物注入工程とは、逆の順番で実施してもよい。
N型半導体領域110とP型半導体領域301とを形成した後、フォトレジストマスク601を除去する。
その後、P型半導体領域302を上記第1のマスクとは異なるマスクで光電変換部からオフセットするように形成する。そして制御電極112及び転送ゲート電極113を形成する。
次に、P型半導体領域116、N型半導体領域201を形成する工程を図6(b)を用いて説明する。
まず、フォトレジストを基板全面に形成する。その後、制御電極112及び転送ゲート電極113間とのギャップ部を除いて半導体基板が覆われるように、フォトレジストが露光されフォトレジスタマスク(第2のマスク)を形成する。制御電極112及び転送ゲート電極113に対してセルフアラインとなるようにイオン注入を行なうためフォトレジストは制御電極112及び転送ゲート電極113の少なくとも一部及びその他の領域を覆って形成される。
その後、制御電極112、転送ゲート電極113に対してセルフアラインで、P型不純物のイオン注入を行ない、P型半導体領域116を形成する(第3不純物注入工程)。その後、第2のマスクを除去することなくN型不純物のイオン注入を行い、N型半導体領域201を形成する(第4不純物注入工程)。この際のイオン注入の条件としては、少なくともN型半導体領域よりも深い位置に配されるように、第1不純物注入工程に比べてイオン注入エネルギを大きくする。その後、イオン注入時に生じる結晶欠陥等を回復させるため、熱処理を行なう。
このような製造方法によれば、大幅な製造工程の増加を必要とせずに、P型半導体領域301、116、N型半導体領域201を形成することができる。更に、N型半導体領域110とP型半導体領域301との、基板表面と水平な方向へのずれを低減することが可能となる。そのため、N型半導体領域110とP型半導体領域301とがPN接合を直接構成する部分を大きくすることが可能となる。また、P型半導体領域116、N型半導体領域201の位置ずれを抑制することが可能となり、各画素毎の転送ばらつきを抑制することが可能となる。
第1、第2不純物注入工程及び第3、第4不純物注入工程のいずれか一方のみを同一マスクを用いて行なっても良い。
(固体撮像装置の等価回路)
図7は以上に述べた全実施例に適用可能な固体撮像装置の等価回路図である。この等価回路を有する固体撮像装置はグローバル電子シャッタ動作が可能となる。
801は光電変換部である。ここではフォトダイオードを用いている。802は電荷保持部である。光電変換部で生じた信号電荷を保持する。803は増幅部のセンスノードである。例えばFD及びFDに電気的に接続された増幅トランジスタのゲート電極がこれにあたる。804は第1転送部である。電荷保持部の電荷を増幅部のセンスノードへ転送する。805は必要に応じて設けられる第2転送部である。第2転送部は電荷保持部の制御電極と兼ねることもできる。転送の機能を持たせずに、電荷保持部の制御電極としての機能のみを持たせてもよい。第2転送部としての機能は光電変換部の電荷を電荷保持部へ転送することである。808はリセット部である。少なくとも増幅部の入力部に基準電圧を供給する。更に電荷保持部に対して基準電圧を供給しても良い。807は必要に応じて設けられる選択部である。信号線に画素行ごとの信号を出力させる。806は増幅部を構成する増幅トランジスタである。信号線に設けられた定電流源とともにソースフォロワ回路を構成する。809は電荷排出制御部である。光電変換部とオーバーフロードレイン(以下、OFD)として機能する電源線との接続を制御する。
また等価回路はこれに限られるものではなく、一部の構成を複数の画素で共有してもよい。また、各素子の制御配線を一定電圧で固定し、導通の制御を行なわない構成にも適用可能である。
第2転送部を埋め込みチャネル型のMOSトランジスタ構成として、光電変換部で生じた電荷が直ちに電荷保持部へ流入するような構成とすることができる。これは、非導通状態であっても表面よりも深い部位にエネルギー障壁が一部低くなっている部分が存在している構成である。この場合には電荷転送部は積極的な制御を行なわずに一定の電圧が供給された状態とすることもできる。つまり転送部としての機能を有さずとも固定のポテンシャル障壁を設けても良い。
このような構成によれば、光電変換部に光が入射した際に光電変換により生成した信号電荷の大半が光電変換部で蓄積されることなく電荷保持部へ転送可能となる。したがって、全ての画素に含まれる光電変換部において電荷の蓄積時間を揃えることが可能となる。また、MOSトランジスタが非導通時においてはチャネル表面にホールが蓄積されており、かつ電荷が転送されるチャネルが表面よりも所定深さの部分に存在するため、絶縁膜界面における暗電流の影響を低減することが可能となる。
別の観点でいうと、光電変換部及び電荷保持部で信号電荷を蓄積している期間において、光電変換部と電荷保持部の間の電荷経路のポテンシャルが光電変換部とOFD領域との間の電荷経路のポテンシャルよりも低いともいえる。ここでのポテンシャルとは信号電荷に対してのポテンシャルである。
さらに駆動という観点では、1露光期間中に光電変換部から第1の電荷保持部に移動してきた電荷を第1の電荷保持部において保持し、画像信号として用いている。つまり、光電変換部での1露光期間を開始後、電荷保持部のリセット動作を介することなく画素外部へ信号を読み出しているともいえる。なお1露光期間とは1フレームの画像を撮影する際に、各光電変換部で共通に決定されるものである。
このような画素構成においては光電変換部から電荷保持部への電荷転送が低電圧で行なうことが可能であるため。本発明の実施例と組み合わせた時に、低電圧での電荷転送効率向上という観点で更に好ましい。
このような構成においては、グローバル露光は比較的容易に実施できるが、電荷保持部からFD領域への転送期間中は光電変換部の電荷はOFD領域へ排出されるため、画像が間欠的になる。このような構成において画像の連続性が特に必要な場合には、ライン露光を行なうことによって連続的な画像を得ることが可能となる。必要に応じて両者を切り替え可能にすることができる。
また、ダイナミックレンジ向上のために画素内に電荷保持部が設けられ、電荷保持部からセンスノードへ電荷が転送されるような固体撮像装置においても、本発明を実施することができる。
本発明は各実施形態に限定されるものではなく、発明の概念を超えない範囲で各種の変更が可能である。例えば、制御電極112を含まない構成に用いることもできる。例えばN型半導体領域110が、コンタクトプラグ、スイッチを介して選択的に電源に接続される構成である。
101 光電変換部
102 電荷保持部
114 制御電極
113 転送ゲート電極
116 P型半導体領域
117、201 N型半導体領域

Claims (8)

  1. 入射した光に応じて電荷を生成する光電変換部と、
    前記光電変換部で生成された電荷を前記光電変換部とは別の場所で保持する第1導電型の第1半導体領域を含んで構成される電荷保持部と、
    前記電荷保持部とセンスノードとの間のポテンシャルを制御する転送ゲート電極を含んで構成される転送部と、を有する画素を複数備える固体撮像装置であって、
    前記電荷保持部は、前記第1半導体領域の上部に絶縁膜を介して配された制御電極を含み、
    前記制御電極と前記転送ゲート電極との間の半導体領域の表面であって且つ前記制御電極及び前記転送ゲート電極に覆われていない領域に、前記第1半導体領域よりも不純物濃度が高い第2導電型の第2半導体領域が配され、
    前記第2半導体領域の下部に第3半導体領域が配され前記第3半導体領域は、前記電荷保持部から前記センスノードヘの電荷経路であ
    前記第1半導体領域は平面視において前記制御電極に重なるように配されており、
    前記第3半導体領域は、
    前記制御電極の前記センスノード側の端部よりも前記転送ゲート電極側に配されており、且つ前記第1半導体領域よりも深い位置に配されていることを特徴とする固体撮像装置。
  2. 前記第3半導体領域の不純物濃度は前記第1半導体領域の不純物濃度よりも高いことを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。
  3. 前記第1半導体領域の下部に、前記第1半導体領域とPN接合を構成するように第2導電型の第4半導体領域が配されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の固体撮像装置。
  4. 前記センスノードはフローティングディフュージョンを含み、
    前記第4半導体領域よりも深い位置に、前記第4半導体領域の少なくとも一部、前記転送ゲート電極、及び前記フローティングディフュージョンのそれぞれの下部にわたって配された第2導電型の第5半導体領域を有することを特徴とする請求項3に記載の固体撮像装置。
  5. 前記第5半導体領域は、深さの異なる複数の第2導電型の半導体領域を含んで構成されることを特徴とする請求項4に記載の固体撮像装置。
  6. 前記画素の各々において、前記第5半導体領域の光電変換部側の端部が、前記第2半導体領域の光電変換部側の端部に比べて、光電変換部から離れた位置にあり、
    前記第2半導体領域の少なくとも一部の下部に前記光電変換部の一部を構成する第1導電型の半導体領域が配されていることを特徴とする請求項5に記載の固体撮像装置。
  7. 前記光電変換部と前記電荷保持部との間の電荷経路が埋め込みチャネルであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  8. 請求項1〜7に記載の固体撮像装置の製造方法であって、前記第2半導体領域と前記第3半導体領域とは、同一マスクを用いて、前記制御電極及び前記転送ゲート電極に対してセルフアラインで形成されることを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
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