JP5708120B2 - フォトマスクの異物除去方法及び異物除去装置 - Google Patents
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Description
また、3軸微動機構21と、制御装置22が、プローブ先端を前記特定された異物の位置に移動させるとともに、前記プローブ先端を前記フォトマスクから離間させる移動手段を構成している。
また、制御装置22と、バルブ31と、真空ポンプ32とが、前記異物を前記プローブ先端で吸引及び吸引の解除を可能とした吸引手段を構成している。
02 … 異物
11 … プローブ
12 … カンチレバー
13 … 台座
14 … 細管
15 … プローブヘッド
21 … 3軸微動機構
22 … 制御装置
23 … Z変位量フィードバック機構
24 … 半導体レーザー
25 … 光検出器
26 … 光学カメラ(撮影手段)
31 … バルブ
32 … 真空ポンプ(吸引手段)
41 … ブロワー(除去手段)
A … 基板01の表面深さ
B … 細管14の直径
C … カンチレバー12先端の開口部
Claims (7)
- フォトマスクに付着した異物を除去するフォトマスクの異物除去方法であって、
前記フォトマスクの表面及び前記異物の三次元情報を取得し、前記三次元情報に基づいて前記異物の位置を特定する工程と、
前記特定された異物の位置に基づいてプローブ先端を動かして前記異物を前記プローブ先端で吸引し、その後、前記プローブ先端を前記フォトマスクから離間させることにより前記異物を前記フォトマスクから除去する工程と、
前記吸引を解除し、前記プローブ先端で吸引した前記異物を前記プローブ先端から除去する工程と、
を備えたことを特徴とするフォトマスクの異物除去方法。 - 前記プローブ先端は中空構造の細管で構成されていることを特徴とする請求項1に記載のフォトマスクの異物除去方法。
- 前記細管の材料は、カーボンナノチューブであって、その直径は、数nm〜100nmであることを特徴とする請求項2に記載のフォトマスクの異物除去方法。
- 前記プローブ先端で吸引した前記異物を前記プローブ先端から除去する工程では、前記プローブ先端の異物に向けて気体をブローすることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項に記載のフォトマスクの異物除去方法。
- 前記プローブは、前記細管を支持する台座を有し、
前記台座は、少なくとも直径又は長さの一方が異なる細管の交換が可能に構成されていることを特徴とする請求項2または3記載のフォトマスクの異物除去方法。 - 前記プローブ先端の吸引作用は、真空ポンプによる吸引力であり、この吸引力はバルブ開閉によって制御されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項にフォトマスクの異物除去方法。
- フォトマスクに付着した異物を除去するフォトマスクの異物除去装置であって、
前記フォトマスクの表面及び前記異物の三次元情報を取得し、前記三次元情報に基づいて前記異物の位置を特定する位置特定手段と、
プローブ先端を前記特定された異物の位置に移動させるとともに、前記プローブ先端を前記フォトマスクから離間させる移動手段と、
前記異物を前記プローブ先端で吸引及び吸引の解除を可能とした吸引手段と、
を備えたことを特徴とするフォトマスクの異物除去装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011067188A JP5708120B2 (ja) | 2011-03-25 | 2011-03-25 | フォトマスクの異物除去方法及び異物除去装置 |
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JP2012203163A JP2012203163A (ja) | 2012-10-22 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP5708120B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000019717A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Mitsubishi Electric Corp | マスク検査装置および半導体デバイスの製造方法 |
JP2000098589A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Seiko Epson Corp | レチクル異物検査装置、レチクル異物検査機能を有する露光装置および半導体装置の製造方法 |
JP2005084582A (ja) * | 2003-09-11 | 2005-03-31 | Sii Nanotechnology Inc | フォトマスクのパーティクル除去方法 |
JP2007316551A (ja) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Fujifilm Corp | 異物除去装置 |
JP4984709B2 (ja) * | 2006-07-24 | 2012-07-25 | 凸版印刷株式会社 | 微小異物除去方法及び微小異物除去装置 |
JP2009160689A (ja) * | 2008-01-07 | 2009-07-23 | Sii Nanotechnology Inc | 走査型プローブ顕微鏡を用いた異物除去方法 |
KR20090103200A (ko) * | 2008-03-27 | 2009-10-01 | 주식회사 하이닉스반도체 | 포토마스크의 파티클 제거방법 |
JP2010054773A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Toshiba Corp | 異物除去方法及び半導体装置の製造方法 |
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JP2012203163A (ja) | 2012-10-22 |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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