JP5687315B2

JP5687315B2 - 液体供給装置、液体供給方法およびパワー半導体モジュール

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Publication number: JP5687315B2
Application number: JP2013137724A
Authority: JP
Inventors: 勇樹鈴野; 真樹鈴野; 高橋　哲; 哲高橋
Original assignee: 株式会社鈴野製作所; 日本インター株式会社
Priority date: 2013-07-01
Filing date: 2013-07-01
Publication date: 2015-03-18
Anticipated expiration: 2033-07-01
Also published as: JP2015010972A

Description

本発明は、液体を吐出するための吐出口が先端部に形成されたニードルと、発光部と受光部とを有する液面センサとを具備し、液面センサの発光部から照射された光が、ニードルからワークの凹部内に供給されて溜まった液体の液面によって反射され、その反射光が液面センサの受光部によって検出されるように構成された液体供給装置、液体供給方法およびその方法により製造されるパワー半導体モジュールに関する。

特に、本発明は、発光部と受光部とが一体型の液面センサを用いつつ、ニードルの先端部の吐出口からワークの凹部内への液体供給を実行しながら、ワークの凹部内に溜まった液体の液面が目標高さに到達したか否かを検出することができる液体供給装置、液体供給方法およびその方法により製造されるパワー半導体モジュールに関する。

従来から、液体を吐出するための吐出口が先端部に形成されたニードルと、発光部と受光部とを有する液面センサとを具備する液体供給装置が知られている。この種の液体供給装置の例としては、例えば特許文献１（特開２００６−３２２８９６号公報）の図４等に記載されたものがある。

特許文献１の図４に記載された液体供給装置では、液面センサの発光部から照射された光が、ニードルからワークの凹部内に供給されて溜まった液体の液面によって反射され、その反射光が液面センサの受光部によって検出される。つまり、特許文献１の図４に記載された液体供給装置では、ワークの凹部内に溜まった液体の液面が目標高さに到達しているか否かを検出することができる。

ところで、特許文献１の図４に記載された液体供給装置では、ニードルからワークの凹部内への液体供給中に、ワークの凹部内に溜まった液体の液面が目標高さに到達したか否かを検出することができず、スループットを十分に向上させることができない。

特開２００６−３２２８９６号公報

前記問題点に鑑み、本発明は、ニードルの先端部の吐出口からワークの凹部内への液体供給を実行しながら、ワークの凹部内に溜まった液体の液面が目標高さに到達したか否かを検出することができる液体供給装置、液体供給方法およびその方法により製造されるパワー半導体モジュールを提供することを目的とする。

詳細には、本発明は、発光部と受光部とが一体型の液面センサを用いつつ、ニードルの先端部の吐出口からワークの凹部内への液体供給を実行しながら、ワークの凹部内に溜まった液体の液面が目標高さに到達したか否かを検出することができる液体供給装置、液体供給方法およびその方法により製造されるパワー半導体モジュールを提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明によれば、液体を吐出するための吐出口（１０３ａ１）が先端部（１０３ａ）に形成されたニードル（１０３）と、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とを有する第１液面センサ（Ｓ１）とを具備し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に供給されて溜まった液体の液面（ＬＳ）によって反射され、その反射光が第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出されるように構成された液体供給装置（１００）において、
発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の第１液面センサ（Ｓ１）を使用し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中に、ワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置を固定し、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも下側に位置するように、液体供給中のワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置を設定し、
それにより、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が高くなる内側部分（ＬＳ２ａ）と、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）とを有するリング状の隆起部分（ＬＳ２）であって、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を中心とするリング状の隆起部分（ＬＳ２）が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）に形成され、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第１照射位置（ＩＰ１）を、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とを、共に、第１照射位置（ＩＰ１）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第１照射位置（ＩＰ１）に到達し、反射され、次いで、第１照射位置（ＩＰ１）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出されることを特徴とする液体供給装置（１００）が提供される。

請求項２に記載の発明によれば、発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とが一体型の第２液面センサ（Ｓ２）を第１液面センサ（Ｓ１）とは別個に設け、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第２照射位置（ＩＰ２）を、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定し、
第２照射位置（ＩＰ２）を、第１照射位置（ＩＰ１）からニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を中心とする周方向に９０°以上離間させて配置し、
第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とを、共に、第２照射位置（ＩＰ２）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）からの光の照射と、第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）からの光の照射とを選択的に実行し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第２照射位置（ＩＰ２）に到達し、反射され、次いで、第２照射位置（ＩＰ２）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の受光部（Ｓ２ｂ）によって検出されることを特徴とする請求項１に記載の液体供給装置（１００）が提供される。

請求項３に記載の発明によれば、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）から落下する液体を受け止めるためのシャッタ（１０５）を設け、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給時にシャッタ（１０５）を退避位置（１０５ａ）に退避させ、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後にシャッタ（１０５）をニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の真下の作動位置（１０５ｂ）に配置することを特徴とする請求項１又は２に記載の液体供給装置（１００）が提供される。

請求項４に記載の発明によれば、液体を吐出するための吐出口（１０３ａ１）が先端部（１０３ａ）に形成されたニードル（１０３）と、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とを有する第１液面センサ（Ｓ１）とを具備し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に供給されて溜まった液体の液面（ＬＳ）によって反射され、その反射光が第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出されるように構成された液体供給装置（１００）の液体供給方法において、
発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の第１液面センサ（Ｓ１）を使用し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中に、ワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置を固定し、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも下側に位置するように、液体供給中のワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置を設定し、
それにより、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が高くなる内側部分（ＬＳ２ａ）と、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）とを有するリング状の隆起部分（ＬＳ２）であって、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を中心とするリング状の隆起部分（ＬＳ２）が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）に形成され、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第１照射位置（ＩＰ１）を、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とを、共に、第１照射位置（ＩＰ１）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第１照射位置（ＩＰ１）に到達し、反射され、次いで、第１照射位置（ＩＰ１）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出されることを特徴とする液体供給装置（１００）の液体供給方法が提供される。

請求項５に記載の発明によれば、発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とが一体型の第２液面センサ（Ｓ２）を第１液面センサ（Ｓ１）とは別個に設け、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第２照射位置（ＩＰ２）を、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定し、
第２照射位置（ＩＰ２）を、第１照射位置（ＩＰ１）からニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を中心とする周方向に９０°以上離間させて配置し、
第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とを、共に、第２照射位置（ＩＰ２）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）からの光の照射と、第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）からの光の照射とを選択的に実行し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第２照射位置（ＩＰ２）に到達し、反射され、次いで、第２照射位置（ＩＰ２）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の受光部（Ｓ２ｂ）によって検出されることを特徴とする請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法が提供される。

請求項６に記載の発明によれば、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）から落下する液体を受け止めるためのシャッタ（１０５）を設け、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給時にシャッタ（１０５）を退避位置（１０５ａ）に退避させ、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後にシャッタ（１０５）をニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の真下の作動位置（１０５ｂ）に配置することを特徴とする請求項４又は５に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法が提供される。

本発明の別の態様によれば、ワーク（Ｗ）としてのパワー半導体モジュールの凹部（Ｗ２）内に、液体としてエポキシ樹脂またはゲル剤を供給するための請求項４〜６のいずれか一項に記載の液体供給方法により製造されるパワー半導体モジュールが提供される。

請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、液体を吐出するための吐出口（１０３ａ１）が先端部（１０３ａ）に形成されたニードル（１０３）と、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とを有する第１液面センサ（Ｓ１）とが設けられている。また、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に供給されて溜まった液体の液面（ＬＳ）によって反射され、その反射光が第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出される。

詳細には、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、液体の液面（ＬＳ）からの反射光が第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出されるように、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）および受光部（Ｓ１ｂ）が配置されている。

ところで、仮に、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）からの光が液体の液面（ＬＳ）のうちのニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）上の位置に向かって照射される場合には、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）からの光が、ニードル（１０３）によって遮られてしまうか、あるいは、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）から吐出されて液面（ＬＳ）に向かって落下している液体によって遮られてしまう。つまり、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）まで到達することができない。その結果、当然のことながら、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）からの反射光を第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出することはできない。

すなわち、特許文献１の図４に記載された液体供給装置のように、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）からの光が液体の液面（ＬＳ）のうちのニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）上の位置に照射される場合には、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給完了後であって、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）の近傍からニードル（１０３）を退避させた後でなければ、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）からの反射光を第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出することができない。

つまり、特許文献１の図４に記載された液体供給装置のように、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）からの光が液体の液面（ＬＳ）のうちのニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）上の位置に照射される液体供給装置では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中にワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）からの反射光を第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出できないため、スループットが低下してしまう。

この問題点に鑑み、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第１照射位置（ＩＰ１）が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から外れた位置に設定されている。

そのため、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中に、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）からの反射光を第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出できるようにすることができる。

その結果、請求項１に記載の液体供給装置（１００）によれば、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給完了後でなければワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）からの反射光を第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出できない場合よりも、スループットを向上させることができる。

ところで、仮に、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも上側に位置する場合には、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中に、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から外れた位置における液体の液面（ＬＳ）が概略水平面状になる。

また、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）の上端開口（Ｗ２ａ）が比較的大きいワーク（Ｗ）に対してのみならず、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）の上端開口（Ｗ２ａ）が比較的小さいワーク（Ｗ）に対しても液体供給装置（１００）を適用可能にするためには、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第１照射位置（ＩＰ１）を、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の比較的近傍に配置する必要がある。

つまり、仮に、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも上側に位置する場合であって、第１照射位置（ＩＰ１）をニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の比較的近傍に配置する場合には、特許文献１の図４に記載された液体供給装置のように、第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）を、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を隔てて第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）の反対側に配置しなければならない。

すなわち、仮に、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも上側に位置する場合であって、第１照射位置（ＩＰ１）をニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の比較的近傍に配置する場合には、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給を実行しながら、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達したか否かを検出できるようにしようとすると、第１液面センサ（Ｓ１）とニードル（１０３）との干渉を回避するために、特許文献１の図４に記載された液体供給装置のように、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが分離している第１液面センサ（Ｓ１）を用いなければならず、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の第１液面センサ（Ｓ１）を用いることができない。

この問題点に鑑み、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の第１液面センサ（Ｓ１）を使用するために、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中に、ワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置が固定される。更に、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも下側に位置するように、液体供給中のワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置が設定されている。

それにより、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が高くなる内側部分（ＬＳ２ａ）と、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）とを有するリング状の隆起部分（ＬＳ２）であって、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を中心とするリング状の隆起部分（ＬＳ２）が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）に形成される。

更に、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第１照射位置（ＩＰ１）が、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定されている。

つまり、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）の第１照射位置（ＩＰ１）に到達する。

更に、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが、共に、第１照射位置（ＩＰ１）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置されている。

詳細には、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第１照射位置（ＩＰ１）に到達し、反射される。次いで、第１照射位置（ＩＰ１）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出される。

換言すれば、請求項１に記載の液体供給装置（１００）によれば、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の第１液面センサ（Ｓ１）を用いつつ、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給を実行しながら、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達したか否かを検出することができる。

ワーク（Ｗ）の形状および向きによっては、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凸部（Ｗ１）によって遮られてしまい、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第１照射位置（ＩＰ１）に到達できない場合がある。

そのような場合には、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第１照射位置（ＩＰ１）に到達できるようにするために、液体供給装置（１００）に対するワーク（Ｗ）の向きを変更しなければならず、スループットが低下してしまう。

この問題点に鑑み、請求項２に記載の液体供給装置（１００）では、発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とが一体型の第２液面センサ（Ｓ２）が、第１液面センサ（Ｓ１）とは別個に設けられている。また、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第２照射位置（ＩＰ２）が、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定されている。更に、第２照射位置（ＩＰ２）が、第１照射位置（ＩＰ１）からニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を中心とする周方向に９０°以上離間して配置されている。

また、請求項２に記載の液体供給装置（１００）では、第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とが、共に、第２照射位置（ＩＰ２）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置されている。更に、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）からの光の照射と、第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）からの光の照射とが、選択的に実行される。

詳細には、請求項２に記載の液体供給装置（１００）では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第２照射位置（ＩＰ２）に到達し、反射され、次いで、第２照射位置（ＩＰ２）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の受光部（Ｓ２ｂ）によって検出される。

換言すれば、請求項２に記載の液体供給装置（１００）によれば、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第１照射位置（ＩＰ１）に到達できない場合であっても、スループットを低下させることなく、第２液面センサ（Ｓ２）によって、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達したか否かを検出することができる。

請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、上述したように、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも下側に位置するように、液体供給中のワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置が設定されている。

つまり、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）が液体内に浸漬されている。

そのため、請求項１に記載の液体供給装置（１００）では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後であって、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体から引き上げられた時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）に付着した液体が、不適切な場所に落下してしまうおそれがある。

この点に鑑み、請求項３に記載の液体供給装置（１００）では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）から落下する液体を受け止めるためのシャッタ（１０５）が設けられている。詳細には、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給時にシャッタ（１０５）が退避位置（１０５ａ）に退避せしめられる。また、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後にシャッタ（１０５）がニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の真下の作動位置（１０５ｂ）に配置される。

そのため、請求項３に記載の液体供給装置（１００）によれば、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）に付着した液体が、液体供給後に不適切な場所に落下してしまうおそれを排除することができる。

請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、液体を吐出するための吐出口（１０３ａ１）が先端部（１０３ａ）に形成されたニードル（１０３）と、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とを有する第１液面センサ（Ｓ１）とが設けられている。また、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に供給されて溜まった液体の液面（ＬＳ）によって反射され、その反射光が第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出される。

詳細には、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、液体の液面（ＬＳ）からの反射光が第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出されるように、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）および受光部（Ｓ１ｂ）が配置されている。

この問題点に鑑み、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第１照射位置（ＩＰ１）が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から外れた位置に設定されている。

そのため、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中に、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）からの反射光を第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出できるようにすることができる。

その結果、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法によれば、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給完了後でなければワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）からの反射光を第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出できない場合よりも、スループットを向上させることができる。

すなわち、仮に、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも上側に位置する場合であって、第１照射位置（ＩＰ１）をニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の比較的近傍に配置する場合には、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給を実行しながら、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達したか否かを検出できるようにしようとすると、ニードル（１０３）との干渉を回避するために、特許文献１の図４に記載された液体供給装置のように、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが分離している第１液面センサ（Ｓ１）を用いなければならず、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の第１液面センサ（Ｓ１）を用いることができない。

この問題点に鑑み、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の第１液面センサ（Ｓ１）を使用するために、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中に、ワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置が固定される。更に、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも下側に位置するように、液体供給中のワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置が設定されている。

それにより、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が高くなる内側部分（ＬＳ２ａ）と、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）とを有するリング状の隆起部分（ＬＳ２）であって、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を中心とするリング状の隆起部分（ＬＳ２）が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）に形成される。

更に、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第１照射位置（ＩＰ１）が、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定されている。

つまり、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）の第１照射位置（ＩＰ１）に到達する。

更に、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが、共に、第１照射位置（ＩＰ１）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置されている。

詳細には、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第１照射位置（ＩＰ１）に到達し、反射される。次いで、第１照射位置（ＩＰ１）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出される。

換言すれば、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法によれば、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の第１液面センサ（Ｓ１）を用いつつ、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給を実行しながら、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達したか否かを検出することができる。

この問題点に鑑み、請求項５に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とが一体型の第２液面センサ（Ｓ２）が、第１液面センサ（Ｓ１）とは別個に設けられている。また、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第２照射位置（ＩＰ２）が、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定されている。更に、第２照射位置（ＩＰ２）が、第１照射位置（ＩＰ１）からニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を中心とする周方向に９０°以上離間して配置されている。

また、請求項５に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とが、共に、第２照射位置（ＩＰ２）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置されている。更に、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）からの光の照射と、第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）からの光の照射とが、選択的に実行される。

詳細には、請求項５に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第２照射位置（ＩＰ２）に到達し、反射され、次いで、第２照射位置（ＩＰ２）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の受光部（Ｓ２ｂ）によって検出される。

換言すれば、請求項５に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法によれば、第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第１照射位置（ＩＰ１）に到達できない場合であっても、スループットを低下させることなく、第２液面センサ（Ｓ２）によって、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達したか否かを検出することができる。

請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、上述したように、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも下側に位置するように、液体供給中のワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置が設定されている。

つまり、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）が液体内に浸漬されている。

そのため、請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後であって、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体から引き上げられた時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）に付着した液体が、不適切な場所に落下してしまうおそれがある。

この点に鑑み、請求項６に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法では、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）から落下する液体を受け止めるためのシャッタ（１０５）が設けられている。詳細には、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給時にシャッタ（１０５）が退避位置（１０５ａ）に退避せしめられる。また、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後にシャッタ（１０５）がニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の真下の作動位置（１０５ｂ）に配置される。

そのため、請求項６に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法によれば、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）に付着した液体が、液体供給後に不適切な場所に落下してしまうおそれを排除することができる。

本発明の別の態様であるパワー半導体モジュールによれば、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の大１液面センサ（Ｓ１）を用いつつ、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）からパワー半導体モジュールの凹部（Ｗ２）内へのエポキシ樹脂またはゲル剤の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達したか否かを検出することができる。

第１の実施形態の液体供給装置１００を右前側かつ上側から見た斜視図である。第１の実施形態の液体供給装置１００の一部の構成部品を概念的に示した概念図等である。第１の実施形態の液体供給装置１００の左側から見た場合におけるニードル１０３と、液面センサＳ１，Ｓ２と、ワークセンサＳ３と、液体の液面ＬＳとの関係等を概略的に示した図である。図２（Ｂ）の一部の拡大図である。図２（Ｂ）に示す例とは形状が異なるワークＷに対して適用された第１の実施形態の液体供給装置１００の前側から見た場合におけるニードル１０３と、液面センサＳ１，Ｓ２と、ワークセンサＳ３と、ワークＷと、液体の液面ＬＳとの関係等を概略的に示した図である。図５（Ａ）の一部の拡大図である。

以下、本発明の液体供給装置の第１の実施形態について説明する。図１は第１の実施形態の液体供給装置１００を右前側かつ上側から見た斜視図である。図２〜図６は第１の実施形態の液体供給装置１００の詳細を示した図である。詳細には、図２（Ａ）は第１の実施形態の液体供給装置１００の一部の構成部品を概念的に示した概念図である。図２（Ｂ）、図３（Ａ）および図３（Ｂ）は第１の実施形態の液体供給装置１００の一部を構成するニードル１０３と、液面センサＳ１，Ｓ２とワークセンサＳ３との関係を概略的に示した図である。

詳細には、図２（Ｂ）は第１の実施形態の液体供給装置１００の前側から見た場合におけるニードル１０３と、液面センサＳ１，Ｓ２と、ワークセンサＳ３と、ワークＷと、液体の液面ＬＳとの関係を概略的に示した図である。図３（Ａ）は第１の実施形態の液体供給装置１００の左側から見た場合におけるニードル１０３と、液面センサＳ１，Ｓ２と、ワークセンサＳ３と、液体の液面ＬＳとの関係を概略的に示した図である。図３（Ｂ）は第１の実施形態の液体供給装置１００の上側から見た場合におけるニードル１０３と、液面センサＳ１，Ｓ２と、ワークセンサＳ３と、液体の液面ＬＳとの関係を概略的に示した図である。図４は図２（Ｂ）の一部の拡大図である。

図５（Ａ）は図２（Ｂ）に示す例とは形状が異なるワークＷに対して適用された第１の実施形態の液体供給装置１００の前側から見た場合におけるニードル１０３と、液面センサＳ１，Ｓ２と、ワークセンサＳ３と、ワークＷと、液体の液面ＬＳとの関係を概略的に示した図である。図５（Ｂ）は図５（Ａ）に示す例のワークＷに対して適用された第１の実施形態の液体供給装置１００の上側から見た場合におけるニードル１０３と、液面センサＳ１，Ｓ２と、ワークセンサＳ３と、液体の液面ＬＳとの関係を概略的に示した図である。図６は図５（Ａ）の一部の拡大図である。

第１の実施形態の液体供給装置１００（図１および図２（Ａ）参照）では、液体を吐出するための吐出口１０３ａ１（図２（Ａ）参照）が先端部１０３ａ（図２（Ａ）参照）に形成されたニードル１０３（図２（Ａ）参照）が設けられている。詳細には、第１の実施形態の液体供給装置１００では、タンク１０１（図１および図２（Ａ）参照）内の液体がポンプ（図示せず）によってピンチバルブ１０４（図２（Ａ）参照）まで圧送される。ピンチバルブ１０４（図２（Ａ）参照）によってホース（チューブ）１０２（図２（Ａ）参照）が潰されている時には、液体がホース（チューブ）１０２（図２（Ａ）参照）内を通過することができず、ニードル１０３（図２（Ａ）参照）の先端部１０３ａ（図２（Ａ）参照）の吐出口１０３ａ１（図２（Ａ）参照）から液体が吐出されない。一方、ピンチバルブ１０４（図２（Ａ）参照）によってホース（チューブ）１０２（図２（Ａ）参照）が潰されていない時には、液体がホース（チューブ）１０２（図２（Ａ）参照）内を通過することができ、ニードル１０３（図２（Ａ）参照）の先端部１０３ａ（図２（Ａ）参照）の吐出口１０３ａ１（図２（Ａ）参照）から液体が吐出される。

第１の実施形態の液体供給装置１００では、液体供給装置１００（図１参照）によって支持可能な任意のワークＷ（図２（Ｂ）および図５（Ａ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）および図５（Ａ）参照）内に任意の液体を供給することができるが、図２〜図６に示す例では、例えば、ワークＷ（図２（Ｂ）および図５（Ａ）参照）としてのパワー半導体モジュールの凹部Ｗ２（図２（Ｂ）および図５（Ａ）参照）内に、液体としてエポキシ樹脂またはゲル剤が供給される。

更に、第１の実施形態の液体供給装置１００では、ワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内に供給された液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）、図３（Ａ）および図３（Ｂ）参照）を検出するために、発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）、図３（Ａ）および図３（Ｂ）参照）と受光部Ｓ１ｂ（図２（Ｂ）、図３（Ａ）および図３（Ｂ）参照）とを有する液面センサＳ１（図２（Ｂ）、図３（Ａ）および図３（Ｂ）参照）が設けられている。また、ワークＷ（図５（Ａ）参照）の凹部Ｗ２（図５（Ａ）参照）内に供給された液体の液面ＬＳ（図５（Ａ）および図５（Ｂ）参照）を検出するために、発光部Ｓ２ａ（図３（Ａ）、図５（Ａ）および図５（Ｂ）参照）と受光部Ｓ２ｂ（図３（Ａ）および図５（Ｂ）参照）とを有する液面センサＳ２（図３（Ａ）、図５（Ａ）および図５（Ｂ）参照）が設けられている。更に、ワークＷ（図２（Ｂ）および図５（Ａ）参照）の有無を検出するために、発光部Ｓ３ａ（図２（Ｂ）、図３（Ａ）および図３（Ｂ）参照）と受光部Ｓ３ｂ（図２（Ｂ）、図３（Ａ）および図３（Ｂ）参照）とを有するワークセンサＳ３（図２（Ｂ）、図３（Ａ）および図３（Ｂ）参照）が設けられている。

具体的には、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図２（Ｂ）に示すように、液面センサＳ１の発光部Ｓ１ａから照射された例えばレーザー光、赤外光などのような光が、ニードル１０３からワークＷの凹部Ｗ２内に供給されて溜まった液体の液面ＬＳによって反射され、その反射光が液面センサＳ１の受光部Ｓ１ｂによって検出される。

詳細には、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図２（Ｂ）に示すように、ニードル１０３からワークＷの凹部Ｗ２内への液体供給中、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達した時に、液体の液面ＬＳからの反射光が液面センサＳ１の受光部Ｓ１ｂによって検出されるように、液面センサＳ１の発光部Ｓ１ａおよび受光部Ｓ１ｂが配置されている。

ところで、仮に、ワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）が目標高さＴＨ（図２（Ｂ）参照）に到達する時に液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）からの光が液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）のうちのニードル１０３（図２（Ｂ）参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図２（Ｂ）参照）上の位置に向かって照射される場合には、ワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨ（図２（Ｂ）参照）に到達する時に、液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）からの光が、ニードル１０３によって遮られてしまうか（吐出口１０３ａ１が液面ＬＳより下側にある場合）、あるいは、ニードル１０３（図２（Ｂ）参照）の先端部１０３ａ（図２（Ｂ）参照）の吐出口１０３ａ１（図２（Ｂ）参照）から吐出されて液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）に向かって落下している液体によって遮られてしまう（吐出口１０３ａ１が液面ＬＳより上側にある場合）。つまり、液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）から照射された光が、ワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）まで到達することができない。その結果、当然のことながら、ワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）が目標高さＴＨ（図２（Ｂ）参照）に到達する時に、ワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）からの反射光を液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の受光部Ｓ１ｂ（図２（Ｂ）参照）によって検出することはできない。

すなわち、特許文献１の図４に記載された液体供給装置のように、液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）からの光が液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）のうちのニードル１０３（図２（Ｂ）参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図２（Ｂ）参照）上の位置に照射される場合には、ニードル１０３（図２（Ｂ）参照）からワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内への液体供給完了後であって、ワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）の近傍からニードル１０３（図２（Ｂ）参照）を退避させた後でなければ、ワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）からの反射光を液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の受光部Ｓ１ｂ（図２（Ｂ）参照）によって検出することができない。

つまり、特許文献１の図４に記載された液体供給装置のように、液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）からの光が液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）のうちのニードル１０３（図２（Ｂ）参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図２（Ｂ）参照）上の位置に照射される液体供給装置では、ニードル１０３（図２（Ｂ）参照）からワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内への液体供給中にワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）からの反射光を液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の受光部Ｓ１ｂ（図２（Ｂ）参照）によって検出できないため、スループットが低下してしまう。

この問題点に鑑み、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図２（Ｂ）に示すように、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達する時に液面センサＳ１の発光部Ｓ１ａから照射された光が到達する液体の液面ＬＳ上の位置である第１照射位置ＩＰ１が、ニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬから外れた位置に設定されている。

そのため、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図２（Ｂ）に示すように、ニードル１０３からワークＷの凹部Ｗ２内への液体供給中に、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳからの反射光を液面センサＳ１の受光部Ｓ１ｂによって検出できるようにすることができる。

その結果、第１の実施形態の液体供給装置１００によれば、ニードル１０３（図２（Ｂ）参照）からワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内への液体供給完了後でなければワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）参照）からの反射光を液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の受光部Ｓ１ｂ（図２（Ｂ）参照）によって検出できない場合よりも、スループットを向上させることができる。

ところで、仮に、ワークＷ（図４参照）の凹部Ｗ２（図４参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図４参照）が目標高さＴＨ（図４参照）に到達した時にニードル１０３（図４参照）の先端部１０３ａ（図４参照）の吐出口１０３ａ１（図４参照）が液体の液面ＬＳ（図４参照）よりも上側（図４の上側）に位置する場合には、ニードル１０３（図４参照）からワークＷ（図４参照）の凹部Ｗ２（図４参照）内への液体供給中に、ニードル１０３（図４参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図４参照）から外れた位置における液体の液面ＬＳ（図４参照）が概略水平面状になる（つまり、図４に示すような隆起部分ＬＳ２は形成されない）。

また、ワークＷ（図２（Ｂ）および図４参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）および図４参照）の上端開口Ｗ２ａ（図２（Ｂ）および図４参照）が比較的大きいワークＷ（図２（Ｂ）および図４参照）に対してのみならず、ワークＷ（図２（Ｂ）および図４参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）および図４参照）の上端開口Ｗ２ａ（図２（Ｂ）および図４参照）が比較的小さいワークＷ（図２（Ｂ）および図４参照）に対しても液体供給装置１００（図２（Ｂ）および図４参照）を適用可能にするためには、ワークＷ（図２（Ｂ）および図４参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）および図４参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）および図４参照）が目標高さＴＨ（図２（Ｂ）および図４参照）に到達する時に液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）から照射された光が到達する液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）および図４参照）上の位置である第１照射位置ＩＰ１（図２（Ｂ）および図４参照）を、ニードル１０３（図２（Ｂ）および図４参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図２（Ｂ）および図４参照）の比較的近傍に配置する必要がある。

つまり、仮に、ワークＷ（図２（Ｂ）および図４参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）および図４参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）および図４参照）が目標高さＴＨ（図２（Ｂ）および図４参照）に到達した時にニードル１０３（図２（Ｂ）および図４参照）の先端部１０３ａ（図２（Ｂ）および図４参照）の吐出口１０３ａ１（図２（Ｂ）および図４参照）が液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）および図４参照）よりも上側に位置する場合であって、第１照射位置ＩＰ１（図２（Ｂ）および図４参照）をニードル１０３（図２（Ｂ）および図４参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図２（Ｂ）および図４参照）の比較的近傍に配置する場合には、特許文献１の図４に記載された液体供給装置のように、液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の受光部Ｓ１ｂ（図２（Ｂ）参照）を、ニードル１０３（図２（Ｂ）および図４参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図２（Ｂ）および図４参照）を隔てて液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）の反対側に配置しなければならない。

すなわち、仮に、ワークＷ（図２（Ｂ）および図４参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）および図４参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）および図４参照）が目標高さＴＨ（図２（Ｂ）および図４参照）に到達した時にニードル１０３（図２（Ｂ）および図４参照）の先端部１０３ａ（図２（Ｂ）および図４参照）の吐出口１０３ａ１（図２（Ｂ）および図４参照）が液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）および図４参照）よりも上側に位置する場合であって、第１照射位置ＩＰ１（図２（Ｂ）および図４参照）をニードル１０３（図２（Ｂ）および図４参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図２（Ｂ）および図４参照）の比較的近傍に配置する場合には、ニードル１０３（図２（Ｂ）および図４参照）からワークＷ（図２（Ｂ）および図４参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）および図４参照）内への液体供給を実行しながら、ワークＷ（図２（Ｂ）および図４参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）および図４参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図２（Ｂ）および図４参照）が目標高さＴＨ（図２（Ｂ）および図４参照）に到達したか否かを検出できるようにしようとすると、液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）とニードル１０３（図２（Ｂ）および図４参照）との干渉を回避するために、特許文献１の図４に記載された液体供給装置のように、発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）と受光部Ｓ１ｂ（図２（Ｂ）参照）とが分離している液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）を用いなければならず、発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）と受光部Ｓ１ｂ（図２（Ｂ）参照）とが一体型の液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）を用いることができない。

この問題点に鑑み、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図２（Ｂ）および図４に示すように、発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）と受光部Ｓ１ｂ（図２（Ｂ）参照）とが一体型の液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）を使用するために、ニードル１０３からワークＷの凹部Ｗ２内への液体供給中に、ワークＷに対するニードル１０３の相対位置が固定される（液体供給中以外の時には、ニードル１０３は３次元的に移動可能）。更に、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達した時に、ニードル１０３の先端部１０３ａの吐出口１０３ａ１が液体の液面ＬＳよりも下側に位置するように、液体供給中のワークＷに対するニードル１０３の相対位置が設定されている。

それにより、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図４に示すように、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達した時に、ニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬから離れるに従って液体の液面ＬＳが高くなる内側部分ＬＳ２ａ（図３（Ｂ）および図４参照）と、ニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬから離れるに従って液体の液面ＬＳが低くなる外側部分ＬＳ２ｂ（図３（Ｂ）および図４参照）とを有するリング状の隆起部分ＬＳ２（図３（Ｂ）および図４参照）であって、ニードル１０３（図３（Ｂ）参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図３（Ｂ）参照）を中心とするリング状の隆起部分ＬＳ２（図３（Ｂ）参照）が、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳに形成される。

更に、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図４に示すように、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達する時に液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）から照射された光が到達する液体の液面ＬＳ上の位置である第１照射位置ＩＰ１が、隆起部分ＬＳ２の外側部分ＬＳ２ｂに設定されている。

つまり、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図４に示すように、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達した時に、液面センサＳ１（図２（Ｂ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図２（Ｂ）参照）から照射された光が、液体の液面ＬＳのリング状の隆起部分ＬＳ２の外側部分ＬＳ２ｂの第１照射位置ＩＰ１に到達する。

更に、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図２（Ｂ）および図３（Ｂ）に示すように、液面センサＳ１の発光部Ｓ１ａと受光部Ｓ１ｂとが、共に、第１照射位置ＩＰ１を隔ててニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬの反対側に配置されている。

詳細には、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図２（Ｂ）に示すように、ニードル１０３からワークＷの凹部Ｗ２内への液体供給中、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達した時に、第１照射位置ＩＰ１よりもニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬから離れた位置に配置された液面センサＳ１の発光部Ｓ１ａから照射された光が、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳのリング状の隆起部分ＬＳ２（図４参照）のうちの、ニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬから離れるに従って液体の液面ＬＳが低くなる外側部分ＬＳ２ｂ（図４参照）に設定された第１照射位置ＩＰ１に到達し、反射される。次いで、第１照射位置ＩＰ１からの反射光が、ニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬから離れる側に進み、第１照射位置ＩＰ１よりもニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬから離れた位置に配置された液面センサＳ１の受光部Ｓ１ｂによって検出される。

換言すれば、第１の実施形態の液体供給装置１００によれば、図２（Ｂ）に示すように、発光部Ｓ１ａと受光部Ｓ１ｂとが一体型の液面センサＳ１を用いつつ、ニードル１０３の先端部１０３ａの吐出口１０３ａ１からワークＷの凹部Ｗ２内への液体供給を実行しながら、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達したか否かを検出することができる。

図５（Ａ）に破線で示すように、ワークＷの形状および向きによっては、液面センサＳ１の発光部Ｓ１ａから照射された光が、ワークＷの凸部Ｗ１によって遮られてしまい、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳのリング状の隆起部分ＬＳ２（図３（Ｂ）参照）の外側部分ＬＳ２ｂ（図３（Ｂ）参照）に設定された第１照射位置ＩＰ１（図３（Ｂ）参照）に到達できない場合がある。

そのような場合には、液面センサＳ１（図５（Ａ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図５（Ａ）参照）から照射された光が、ワークＷ（図５（Ａ）参照）の凹部Ｗ２（図５（Ａ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図５（Ａ）参照）のリング状の隆起部分ＬＳ２（図３（Ｂ）参照）の外側部分ＬＳ２ｂ（図３（Ｂ）参照）に設定された第１照射位置ＩＰ１（図３（Ｂ）参照）に到達できるようにするために、液体供給装置１００（図５（Ａ）参照）に対するワークＷ（図５（Ａ）参照）の向きを図５（Ａ）の左右逆向き変更しなければならず、スループットが低下してしまう。

この問題点に鑑み、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図３（Ａ）および図５に示すように、発光部Ｓ２ａと受光部Ｓ２ｂとが一体型の液面センサＳ２が、液面センサＳ１とは別個に設けられている。また、図５および図６に示すように、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達する時に液面センサＳ２の発光部Ｓ２ａから照射された光が到達する液体の液面ＬＳ上の位置である第２照射位置ＩＰ２が、隆起部分ＬＳ２の外側部分ＬＳ２ｂに設定されている。更に、図３（Ｂ）および図５（Ｂ）に示すように、第２照射位置ＩＰ２（図５（Ｂ）参照）が、第１照射位置ＩＰ１（図３（Ｂ）参照）からニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬを中心とする周方向に９０°以上離間して配置されている。

第１の実施形態の液体供給装置１００では、図３（Ｂ）および図５（Ｂ）に示すように、第２照射位置ＩＰ２（図５（Ｂ）参照）が、第１照射位置ＩＰ１（図３（Ｂ）参照）からニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬを中心とする周方向に１８０°離間して配置されているが、第２の実施形態の液体供給装置１００では、代わりに、第２照射位置ＩＰ２（図５（Ｂ）参照）を、第１照射位置ＩＰ１（図３（Ｂ）参照）からニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬを中心とする周方向に９０°以上の任意の値だけ離間させて配置することも可能である。つまり、第２の実施形態の液体供給装置１００では、液体供給装置１００に適用されるワークＷの形状のバリエーションに応じて、第２照射位置ＩＰ２（図５（Ｂ）参照）を、第１照射位置ＩＰ１（図３（Ｂ）参照）からニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬを中心とする周方向に９０°以上の任意の値だけ離間させて配置することも可能である。

また、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図５（Ｂ）に示すように、液面センサＳ２の発光部Ｓ２ａと受光部Ｓ２ｂとが、共に、照射位置ＩＰ２を隔ててニードル１０３の中心軸線１０３ＣＬの反対側に配置されている。更に、図２（Ｂ）および図５（Ａ）に示すように、液体供給装置１００に適用されるワークＷの形状に応じて、液面センサＳ１の発光部Ｓ１ａからの光の照射と、液面センサＳ２の発光部Ｓ２ａからの光の照射とが、選択的に実行される。すなわち、図２（Ｂ）に示す形状のワークＷが液体供給装置１００に適用される場合には、図２（Ｂ）に示すように、液面センサＳ１の発光部Ｓ１ａから光が照射され、液面センサＳ２の発光部Ｓ２ａからは光が照射されない。一方、図５（Ａ）に示す形状のワークＷが液体供給装置１００に適用される場合には、図５（Ａ）に示すように、液面センサＳ１の発光部Ｓ１ａからは光が照射されず、液面センサＳ２の発光部Ｓ２ａから光が照射される。

詳細には、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図５（Ａ）に示すように、ニードル１０３からワークＷの凹部Ｗ２内への液体供給中、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達した時に、第２照射位置ＩＰ２（図５（Ａ）および図５（Ｂ）参照）よりもニードル１０３（図５（Ａ）および図５（Ｂ）参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図５（Ａ）および図５（Ｂ）参照）から離れた位置に配置された液面センサＳ２（図５（Ａ）および図５（Ｂ）参照）の発光部Ｓ２ａ（図５（Ａ）および図５（Ｂ）参照）から照射された光が、ワークＷ（図５（Ａ）参照）の凹部Ｗ２（図５（Ａ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図５（Ａ）および図５（Ｂ）参照）のリング状の隆起部分ＬＳ２（図５（Ｂ）および図６参照）のうちの、ニードル１０３（図５（Ｂ）および図６参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図５（Ｂ）および図６参照）から離れるに従って液体の液面ＬＳ（図５（Ｂ）および図６参照）が低くなる外側部分ＬＳ２ｂ（図５（Ｂ）および図６参照）に設定された第２照射位置ＩＰ２（図５（Ｂ）および図６参照）に到達し、反射され、次いで、第２照射位置ＩＰ２（図５（Ｂ）参照）からの反射光が、ニードル１０３（図５（Ｂ）参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図５（Ｂ）参照）から離れる側に進み、第２照射位置ＩＰ２（図５（Ｂ）参照）よりもニードル１０３（図５（Ｂ）参照）の中心軸線１０３ＣＬ（図５（Ｂ）参照）から離れた位置に配置された液面センサＳ２（図５（Ｂ）参照）の受光部Ｓ２ｂ（図５（Ｂ）参照）によって検出される。

換言すれば、第１の実施形態の液体供給装置１００によれば、液面センサＳ１（図５（Ａ）参照）の発光部Ｓ１ａ（図５（Ａ）参照）から照射された光が、ワークＷ（図５（Ａ）参照）の凹部Ｗ２（図５（Ａ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図５（Ａ）参照）のリング状の隆起部分ＬＳ２（図３（Ｂ）および図４参照）の外側部分ＬＳ２ｂ（図３（Ｂ）および図４参照）に設定された第１照射位置ＩＰ１（図３（Ｂ）および図４参照）に到達できない場合であっても、スループットを低下させることなく、液面センサＳ２（図５（Ａ）参照）によって、ワークＷ（図５（Ａ）参照）の凹部Ｗ２（図５（Ａ）参照）内に溜まった液体の液面ＬＳ（図５（Ａ）参照）が目標高さＴＨ（図５（Ａ）参照）に到達したか否かを検出することができる。

第１の実施形態の液体供給装置１００では、図３（Ａ）および図５に示すように、発光部Ｓ２ａと受光部Ｓ２ｂとが一体型の液面センサＳ２が、液面センサＳ１とは別個に設けられているが、例えば凸部Ｗ１（図５（Ａ）参照）の出っ張りが小さいワークＷのみが適用される第３の実施形態の液体供給装置１００では、液面センサＳ１のみによってすべてのワークＷに対応可能であるため、液面センサＳ２を省略することも可能である。

第１の実施形態の液体供給装置１００では、図２（Ｂ）および図５（Ａ）に示すように、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達した時に、ニードル１０３の先端部１０３ａの吐出口１０３ａ１が液体の液面ＬＳよりも下側に位置するように、液体供給中のワークＷに対するニードル１０３の相対位置が設定されている。つまり、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図２（Ｂ）および図５（Ａ）に示すように、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体の液面ＬＳが目標高さＴＨに到達した時に、ニードル１０３の先端部１０３ａが液体内に浸漬されている。そのため、第１の実施形態の液体供給装置１００では、ニードル１０３からワークＷの凹部Ｗ２内への液体供給後であって、ニードル１０３の先端部１０３ａが、ワークＷの凹部Ｗ２内に溜まった液体から引き上げられた時に、ニードル１０３の先端部１０３ａに付着した液体が、不適切な場所に落下してしまうおそれがある。

この点に鑑み、第１の実施形態の液体供給装置１００では、図１および図２（Ａ）に示すように、ニードル１０３（図２（Ａ）参照）からワークＷ（図２（Ｂ）参照）の凹部Ｗ２（図２（Ｂ）参照）内への液体供給後にニードル１０３（図２（Ａ）参照）の先端部１０３ａ（図２（Ａ）参照）から落下する液体を受け止めるためのシャッタ１０５が設けられている。詳細には、図２（Ｂ）に示すようにニードル１０３からワークＷの凹部Ｗ２内への液体供給時に、図２（Ａ）に実線で示すように、シャッタ１０５が退避位置１０５ａに退避せしめられる。また、ニードル１０３からワークＷの凹部Ｗ２内への液体供給後に、図２（Ａ）に破線で示すように、シャッタ１０５がニードル１０３の先端部１０３ａの真下の作動位置１０５ｂに配置される。そのため、第１の実施形態の液体供給装置１００によれば、ニードル１０３からワークＷの凹部Ｗ２内への液体供給中にニードル１０３の先端部１０３ａに付着した液体が、液体供給後に不適切な場所に落下してしまうおそれを排除することができる。

第４の実施形態では、上述した第１から第３の実施形態を適宜組み合わせることも可能である。

１００液体供給装置
１０１タンク
１０２ホース（チューブ）
１０３ニードル
１０３ａ先端部
１０３ａ１吐出口
１０３ＣＬ中心軸線
１０４ピンチバルブ
１０５シャッタ
１０５ａ退避位置
１０５ｂ作動位置
Ｓ１，Ｓ２液面センサ
Ｓ１ａ，Ｓ２ａ発光部
Ｓ１ｂ，Ｓ２ｂ受光部
Ｓ３ワークセンサ
Ｓ３ａ発光部
Ｓ３ｂ受光部
ＩＰ１，ＩＰ２照射位置
Ｗワーク
Ｗ１凸部
Ｗ２凹部
Ｗ２ａ上端開口
ＬＳ液面
ＬＳ１水平面状部分
ＬＳ２隆起部分
ＬＳ２ａ内側部分
ＬＳ２ｂ外側部分
ＴＨ目標高さ

Claims

液体を供給するための吐出口（１０３ａ１）が先端部（１０３ａ）に形成されたニードル（１０３）と、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とを有する第１液面センサ（Ｓ１）とを具備し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に供給されて溜まった液体の液面（ＬＳ）によって反射され、その反射光が第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出されるように構成された液体供給装置（１００）において、
発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の第１液面センサ（Ｓ１）を使用し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中に、ワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置を固定し、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも下側に位置するように、液体供給中のワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置を設定し、
それにより、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が高くなる内側部分（ＬＳ２ａ）と、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）とを有するリング状の隆起部分（ＬＳ２）であって、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を中心とするリング状の隆起部分（ＬＳ２）が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）に形成され、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第１照射位置（ＩＰ１）を、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とを、共に、第１照射位置（ＩＰ１）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第１照射位置（ＩＰ１）に到達し、反射され、次いで、第１照射位置（ＩＰ１）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出されることを特徴とする液体供給装置（１００）。
発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とが一体型の第２液面センサ（Ｓ２）を第１液面センサ（Ｓ１）とは別個に設け、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第２照射位置（ＩＰ２）を、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定し、
第２照射位置（ＩＰ２）を、第１照射位置（ＩＰ１）からニードル（１０３）の中心軸（１０３ＣＬ）を中心とする周方向に９０°以上離間させて配置し、
第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とを、共に、第２照射位置（ＩＰ２）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）からの光の反射と、第２液面センサの発光部（Ｓ２ａ）からの光の反射とを選択的に実行し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第２照射位置（ＩＰ２）に到達し、反射され、次いで、第２照射位置（ＩＰ２）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の受光部（Ｓ２ｂ）によって検出されることを特徴とする請求項１に記載の液体供給装置（１００）。
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）への凹部（Ｗ２）内への液体供給後にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）から落下する液体を受け止めるためのシャッタ（１０５）を設け、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給時にシャッタ（１０５）を退避位置（１０５ａ）に退避させ、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後にシャッタ（１０５）をニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の真下の作動位置（１０５ｂ）に配置することを特徴とする請求項１又は２に記載の液体供給装置（１００）。
液体を供給するための吐出口（１０３ａ１）が先端部（１０３ａ）に形成されたニードル（１０３）と、発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とを有する第１液面センサ（Ｓ１）とを具備し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に供給されて溜まった液体の液面（ＬＳ）によって反射され、その反射光が第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出されるように構成された液体供給装置（１００）の液体供給方法において、
発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とが一体型の第１液面センサ（Ｓ１）を使用し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中に、ワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置を固定し、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の吐出口（１０３ａ１）が液体の液面（ＬＳ）よりも下側に位置するように、液体供給中のワーク（Ｗ）に対するニードル（１０３）の相対位置を設定し、
それにより、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が高くなる内側部分（ＬＳ２ａ）と、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）とを有するリング状の隆起部分（ＬＳ２）であって、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）を中心とするリング状の隆起部分（ＬＳ２）が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）に形成され、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第１照射位置（ＩＰ１）を、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）と受光部（Ｓ１ｂ）とを、共に、第１照射位置（ＩＰ１）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第１照射位置（ＩＰ１）に到達し、反射され、次いで、第１照射位置（ＩＰ１）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第１照射位置（ＩＰ１）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第１液面センサ（Ｓ１）の受光部（Ｓ１ｂ）によって検出されることを特徴とする液体供給装置（１００）の液体供給方法。
発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とが一体型の第２液面センサ（Ｓ２）を第１液面センサ（Ｓ１）とは別個に設け、
ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達する時に第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が到達する液体の液面（ＬＳ）上の位置である第２照射位置（ＩＰ２）を、隆起部分（ＬＳ２）の外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定し、
第２照射位置（ＩＰ２）を、第１照射位置（ＩＰ１）からニードル（１０３）の中心軸（１０３ＣＬ）を中心とする周方向に９０°以上離間させて配置し、
第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）と受光部（Ｓ２ｂ）とを、共に、第２照射位置（ＩＰ２）を隔ててニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）の反対側に配置し、
第１液面センサ（Ｓ１）の発光部（Ｓ１ａ）からの光の反射と、第２液面センサの発光部（Ｓ２ａ）からの光の反射とを選択的に実行し、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給中、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）が目標高さ（ＴＨ）に到達した時に、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の発光部（Ｓ２ａ）から照射された光が、ワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内に溜まった液体の液面（ＬＳ）のリング状の隆起部分（ＬＳ２）のうちの、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れるに従って液体の液面（ＬＳ）が低くなる外側部分（ＬＳ２ｂ）に設定された第２照射位置（ＩＰ２）に到達し、反射され、次いで、第２照射位置（ＩＰ２）からの反射光が、ニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れる側に進み、第２照射位置（ＩＰ２）よりもニードル（１０３）の中心軸線（１０３ＣＬ）から離れた位置に配置された第２液面センサ（Ｓ２）の受光部（Ｓ２ｂ）によって検出されることを特徴とする請求項４に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法。
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）への凹部（Ｗ２）内への液体供給後にニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）から落下する液体を受け止めるためのシャッタ（１０５）を設け、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給時にシャッタ（１０５）を退避位置（１０５ａ）に退避させ、
ニードル（１０３）からワーク（Ｗ）の凹部（Ｗ２）内への液体供給後にシャッタ（１０５）をニードル（１０３）の先端部（１０３ａ）の真下の作動位置（１０５ｂ）に配置することを特徴とする請求項４又は５に記載の液体供給装置（１００）の液体供給方法。