JP5680491B2 - ドラム電極及びその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 56
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 26
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 claims description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 21
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000135309 Processus Species 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
導電性が付与された多孔質長尺帯を、連続して電気めっきするめっき装置用のドラム電極であって、
給電層、前記給電層の表面を被覆する絶縁層、および
前記絶縁層の表面から突出し、かつ前記絶縁層を厚さ方向に貫通する貫通孔内に充填された金属により前記給電層と導通する金属製突起を有し、
前記金属製突起が、所定の間隔で整列配置されている
ことを特徴とするドラム電極である。
前記絶縁層が、アルミニウムの陽極酸化被膜からなる絶縁層であることを特徴とする請求項1に記載のドラム電極である。
前記絶縁層が、フッ素系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂のいずれかからなる絶縁層であることを特徴とする請求項1に記載のドラム電極である。
請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のドラム電極の製造方法であって、
給電層及び前記給電層の表面を被覆する絶縁層を有するドラムの前記絶縁層内に、前記絶縁層を厚さ方向に、所定の間隔で貫通孔を形成する工程と、
電気めっきにより、前記貫通孔に金属を充填すると共に、前記貫通孔の開口部に前記金属の突起を形成する工程と
を備えていることを特徴とするドラム電極の製造方法である。
前記貫通孔を形成する工程が、機械加工による貫通孔の形成であることを特徴とする請求項4に記載のドラム電極の製造方法である。
初めに、ドラム電極の構造について説明する。図1は、本実施の形態におけるドラム電極の構造を模式的に示す図であり、図1(a)は斜視図であり、図1(b)はドラムの軸を含む断面図である。図1において1はドラム電極であり、11は突起であり、12は絶縁層であり、13は給電層である。
突起11は、絶縁層12を貫通しており、一端は給電層13に接しており、他端は絶縁層12の表面から突出して突起を形成している。突起11のサイズは、ワークに対して一様にめっきが施されるように、ワークのセル径や厚さに応じて適宜設定されており、例えば、底部の直径、高さがそれぞれ0.5mm、1mm程度に設定された突起11が設けられる。
イ.アルマイト製の絶縁層
絶縁層12としては、アルマイト製の絶縁層が好ましく用いられる。このような絶縁層は、Al製の給電層の表面をアルマイト加工処理することにより形成される。
また、絶縁層12として、エポキシ系、シリコン系、フッ素系樹脂などの樹脂が給電層13の表面にコーティングされた絶縁層を用いることもできる。これらの樹脂の内でも、特に、Alめっき用にはフッ素系樹脂の絶縁層が好ましく用いられる。
給電層13としては、製品への不純物混入防止の観点より、めっき組成と同じ材質の給電層が好ましく用いられる。
次に、突起の形成方法について説明する。図3は、本発明の一実施の形態におけるドラム電極の突起の形成方法を説明する図である。図3において、3はドラム電極であり、31は突起であり、32は絶縁層であり、33は給電層であり、34は貫通孔である。
上記により製造されたドラム電極は、図4に記載の突起42aを有するドラム電極42として使用される。
(1)ドラム電極
ドラム径 :2m
突起 :高さ1mm、底部の直径0.5mm、ピッチ1.5mm
(2)めっき条件
めっき液の組成 :AlCl3/EMIC=2mol/1mol
通電電流 :5000A
ワーク :発泡ウレタン(厚さ1.4mm、幅1000mm、孔径
0.5mm)
ワークの速度 :700mm/分
ワークの浸漬長さ:2.5m
11、21、31、42a 突起
12、22、32、42d 絶縁層
13、33、42b 給電層
34 貫通孔
41 めっき装置
42c 3次元網状金属体
44 めっき槽
45 めっき液
W ワーク
Claims (5)
- 導電性が付与された多孔質長尺帯を、連続して電気めっきするめっき装置用のドラム電極であって、
給電層、前記給電層の表面を被覆する絶縁層、および
前記絶縁層の表面から突出し、かつ前記絶縁層を厚さ方向に貫通する貫通孔内に充填された金属により前記給電層と導通する金属製突起を有し、
前記金属製突起が、所定の間隔で整列配置されている
ことを特徴とするドラム電極。 - 前記絶縁層が、アルミニウムの陽極酸化被膜からなる絶縁層であることを特徴とする請求項1に記載のドラム電極。
- 前記絶縁層が、フッ素系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂のいずれかからなる絶縁層であることを特徴とする請求項1に記載のドラム電極。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のドラム電極の製造方法であって、
給電層及び前記給電層の表面を被覆する絶縁層を有するドラムの前記絶縁層内に、前記絶縁層を厚さ方向に、所定の間隔で貫通孔を形成する工程と、
電気めっきにより、前記貫通孔に金属を充填すると共に、前記貫通孔の開口部に前記金属の突起を形成する工程と
を備えていることを特徴とするドラム電極の製造方法。 - 前記貫通孔を形成する工程が、機械加工による貫通孔の形成であることを特徴とする請求項4に記載のドラム電極の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011138686A JP5680491B2 (ja) | 2011-06-22 | 2011-06-22 | ドラム電極及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011138686A JP5680491B2 (ja) | 2011-06-22 | 2011-06-22 | ドラム電極及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013007069A JP2013007069A (ja) | 2013-01-10 |
JP5680491B2 true JP5680491B2 (ja) | 2015-03-04 |
Family
ID=47674657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011138686A Active JP5680491B2 (ja) | 2011-06-22 | 2011-06-22 | ドラム電極及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5680491B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6300062B2 (ja) * | 2013-10-04 | 2018-03-28 | 住友電気工業株式会社 | ドラム電極、ドラム電極の製造方法、めっき装置、樹脂成形体の製造方法及び金属多孔体の製造方法 |
JP2015137373A (ja) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 住友電気工業株式会社 | アルミニウム膜の製造方法及び製造装置 |
JP2015137378A (ja) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 住友電気工業株式会社 | アルミニウム膜の製造方法及び製造装置 |
KR102273727B1 (ko) * | 2017-11-09 | 2021-07-05 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 전해 동박 제조 장치 |
IL266910B (en) * | 2019-05-27 | 2020-11-30 | Addionics Il Ltd | 3D structures are produced electrochemically for electrodes in batteries |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53128544A (en) * | 1977-04-15 | 1978-11-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Continuous method of preventing corrosion of metallic porous structure |
JP2628600B2 (ja) * | 1988-04-05 | 1997-07-09 | 住友電気工業株式会社 | 金属多孔体の製造方法 |
LU90640B1 (en) * | 2000-09-18 | 2002-05-23 | Circuit Foil Luxembourg Trading Sarl | Method for electroplating a strip of foam |
JP2012172220A (ja) * | 2011-02-23 | 2012-09-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | めっき装置およびめっき方法 |
-
2011
- 2011-06-22 JP JP2011138686A patent/JP5680491B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013007069A (ja) | 2013-01-10 |
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